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公開番号2025061732
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-11
出願番号2025008193,2020151766
出願日2025-01-21,2020-09-10
発明の名称偏光膜の製造方法、および偏光フィルムの製造方法
出願人日東電工株式会社
代理人弁理士法人ユニアス国際特許事務所
主分類G02B 5/30 20060101AFI20250404BHJP(光学)
要約【課題】任意の成分を偏光膜に簡便かつ十分に含有させることができる、良好な偏光度を
有する偏光膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】ポリビニルアルコール系フィルムを長手方向に搬送しながら、前記ポリビニ
ルアルコール系フィルムに、少なくとも、染色工程、架橋工程、および延伸工程を施して
、水を含有する偏光膜を製造する工程(I-1)と、得られた水を含有する偏光膜に、偏
光膜の水分率がX重量%以上である状態で、液体を塗布する工程を施して、液体中の成分
が含侵した偏光膜を製造する工程(I-2)と、得られた液体中の成分が含侵した偏光膜
に、乾燥工程を施して、乾燥後の偏光膜を製造する工程(I-3)を含み、式(1):前
記X(重量%)/前記乾燥後の偏光膜の厚み(μm)>1(式(1)中、Xは10以上7
0以下である)であることの条件を満たす偏光膜の製造方法。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
偏光フィルムの製造方法であって、
ポリビニルアルコール系フィルムを長手方向に搬送しながら、前記ポリビニルアルコール系フィルムに、少なくとも、染色工程、架橋工程、および延伸工程を施して、水を含有する偏光膜を製造する工程（Ｉ－１）と、
得られた水を含有する偏光膜に、偏光膜の水分率がＸ重量％以上である状態で、液体（但し、ｐＨが３～８の範囲であり、当該ｐＨの範囲において緩衝作用を有する処理液を除く。）を塗布する工程を施して、液体中の成分が含侵した偏光膜を製造する工程（Ｉ－２）と、
得られた液体中の成分が含侵した偏光膜に、乾燥工程を施して、水分率が２０重量％以下である乾燥後の偏光膜を製造する工程（Ｉ－３）と、
得られた乾燥後の偏光膜の前記液体の塗布面に、接着剤を塗布し、当該接着剤層を介して透明保護フィルムを貼り合わせる工程を含み、
式（１）：前記Ｘ（重量％）／前記乾燥後の偏光膜の厚み（μｍ）＞１
（式（１）中、Ｘは１０以上７０以下である）
であることの条件を満たすことを特徴とする偏光フィルムの製造方法。
続きを表示（約 1,100 文字）【請求項２】
式（２）：前記Ｘ（重量％）－前記乾燥後偏光膜の水分率（重量％）＞０（重量％）
（式（２）中、Ｘは１０以上７０以下である）
であることの条件を満たすことを特徴とする請求項１記載の偏光フィルムの製造方法。
【請求項３】
偏光フィルムの製造方法であって、
長尺状の熱可塑性樹脂基材の片側に、ポリビニルアルコール系樹脂を含むポリビニルアルコール系樹脂層を形成して積層体を準備する工程（ＩＩ－０）と、
得られた積層体を長手方向に搬送しながら、前記積層体に、少なくとも、空中補助延伸処理工程、染色処理工程、および水中延伸処理工程を施して、水を含有する偏光膜を有する積層体を製造する工程（ＩＩ－１）と、
得られた水を含有する偏光膜を有する積層体に、偏光膜の水分率がＹ重量％以上である状態で、液体（但し、ｐＨが３～８の範囲であり、当該ｐＨの範囲において緩衝作用を有する処理液を除く。）を塗布する工程を施して、液体中の成分が含侵した偏光膜を有する積層体を製造する工程（ＩＩ－２）と、
得られた液体中の成分が含侵した偏光膜を有する積層体に、乾燥処理工程を施して、水分率が２０重量％以下である乾燥後の偏光膜を製造する工程（ＩＩ－３）と、
得られた乾燥後の偏光膜の前記液体の塗布面に、接着剤を塗布し、当該接着剤層を介して透明保護フィルムを貼り合わせる工程を含み、
式（３）：前記Ｙ（重量％）／前記乾燥後の偏光膜の厚み（μｍ）＞１
（式（３）中、Ｙは１０以上７０以下である）
であることの条件を満たすことを特徴とする偏光フィルムの製造方法。
【請求項４】
式（４）：前記Ｙ（重量％）－前記乾燥後の偏光膜の水分率（重量％）＞０（重量％）
（式（４）中、Ｙは１０以上７０以下である）
であることの条件を満たすことを特徴とする請求項３記載の偏光フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記液体が溶液であり、前記液体中の成分が溶質であることを特徴とする請求項１～４のいずれかに記載の偏光フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記液体中の成分は、水溶性の化合物であることを特徴とする請求項１～５のいずれかに記載の偏光フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記液体中の成分は、ラジカル捕捉剤、架橋剤、可塑剤、および染料からなる群より選ばれる少なくとも１つであることを特徴とする請求項１～６のいずれかに記載の偏光フィルムの製造方法。
【請求項８】
前記液体中の成分は、ラジカル捕捉剤であることを特徴とする請求項１～７のいずれかに記載の偏光フィルムの製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光膜の製造方法、および偏光フィルムの製造方法に関する。
続きを表示（約 1,900 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置等の各種画像表示装置に用いる偏光膜（偏光子
）としては、高透過率と高偏光度を兼ね備えていることから、染色処理された（ヨウ素や
二色性染料等の二色性物質を含有する）ポリビニルアルコール系フィルムが用いられてい
る。当該偏光膜は、ポリビニルアルコール系フィルムに、浴（処理浴）中にて、例えば、
染色、架橋、延伸等の各処理を施した後に、乾燥することにより製造される。また前記偏
光膜は、通常、その片面または両面にトリアセチルセルロース等の保護フィルムが接着剤
を用いて貼合された偏光フィルム（偏光板）として用いられている。
【０００３】
偏光膜の製造方法としては、例えば、特許文献１～２では、亜鉛、銅、アルミニウム等
を含む金属塩等の成分を処理浴に添加することで、偏光膜にこれら成分を含有させ、偏光
膜の耐久特性を向上させることが開示されている。また、特許文献３～４では、有機チタ
ン化合等の成分を処理浴に添加する、偏光膜の製造方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
国際公開第２０１６／１１７６５９号
特開２００６－０４７９７８号公報
特開２００８－４６２５７号公報
特開平６－１７２５５４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、偏光膜の製造方法において、上記のような成分を処理浴に添加する場合
、その使用量が膨大になること、処理液の廃液処理が必要となること等の問題があった。
【０００６】
本発明は、以上のような事情に鑑み、任意の成分を偏光膜に簡便かつ十分に含有させる
ことができる、良好な偏光度を有する偏光膜の製造方法を提供することを目的とする。
【０００７】
また、本発明は、上記の偏光膜の製造方法で得られた偏光膜を用いた偏光フィルムの製
造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
すなわち、本発明は、偏光膜の製造方法であって、ポリビニルアルコール系フィルムを
長手方向に搬送しながら、前記ポリビニルアルコール系フィルムに、少なくとも、染色工
程、架橋工程、および延伸工程を施して、水を含有する偏光膜を製造する工程（Ｉ－１）
と、得られた水を含有する偏光膜に、偏光膜の水分率がＸ重量％以上である状態で、液体
を塗布する工程を施して、液体中の成分が含侵した偏光膜を製造する工程（Ｉ－２）と、
得られた液体中の成分が含侵した偏光膜に、乾燥工程を施して、乾燥後の偏光膜を製造す
る工程（Ｉ－３）を含み、式（１）：前記Ｘ（重量％）／前記乾燥後の偏光膜の厚み（μ
ｍ）＞１（式（１）中、Ｘは１０以上７０以下である）であることの条件を満たす偏光膜
の製造方法、に関する。
【０００９】
また、本発明は、偏光膜の製造方法であって、長尺状の熱可塑性樹脂基材の片側に、ポ
リビニルアルコール系樹脂を含むポリビニルアルコール系樹脂層を形成して積層体を準備
する工程（ＩＩ－０）と、得られた積層体を長手方向に搬送しながら、前記積層体に、少
なくとも、空中補助延伸処理工程、染色処理工程、および水中延伸処理工程を施して、水
を含有する偏光膜を有する積層体を製造する工程（ＩＩ－１）と、得られた水を含有する
偏光膜を有する積層体に、偏光膜の水分率がＹ重量％以上である状態で、液体を塗布する
工程を施して、液体中の成分が含侵した偏光膜を有する積層体を製造する工程（ＩＩ－２
）と、得られた液体中の成分が含侵した偏光膜を有する積層体に、乾燥処理工程を施して
、乾燥後の偏光膜を製造する工程（ＩＩ－３）を含み、式（３）：前記Ｙ（重量％）／前
記乾燥後の偏光膜の厚み（μｍ）＞１（式（３）中、Ｙは１０以上７０以下である）であ
ることの条件を満たす偏光膜の製造方法、に関する。
【００１０】
また、本発明は、前記偏光膜の製造方法で得られた偏光膜の少なくとも片面に、接着剤
層を介して透明保護フィルムを貼り合わせる工程を含む偏光フィルムの製造方法、に関す
る。
【発明の効果】
（【００１１】以降は省略されています）

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