TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
特許ウォッチ
Twitter
他の特許を見る
公開番号
2025059351
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-04-10
出願番号
2023169397
出願日
2023-09-29
発明の名称
銅粒子、導電性ペースト及び基板
出願人
古河機械金属株式会社
代理人
個人
主分類
B22F
1/00 20220101AFI20250403BHJP(鋳造;粉末冶金)
要約
【課題】充填性が向上した銅粒子、それを用いた導電性ペースト及び基板を提供する。
【解決手段】下記粒子径測定1により算出される、D
95
粒子径(H
2
O)をD
10
粒子径(H
2
O)で除した値が4.20以下である、銅粒子。[粒子径測定1]銅粒子0.1gを0.1質量%分散剤水溶液1mLと混合し、レーザー回折/散乱式粒子径測定装置を用いて、装置内超音波を5min照射した後、銅粒子の体積基準の粒度分布を測定し、D
10
粒子径(H
2
O)、D
50
粒子径(H
2
O)、および、D
95
粒子径(H
2
O)の値をそれぞれ得る。
【選択図】なし
特許請求の範囲
【請求項1】
下記粒子径測定1により算出される、D
95
粒子径(H
2
O)をD
10
粒子径(H
2
O)で除した値が4.20以下である、銅粒子。
[粒子径測定1]
銅粒子0.1gを0.1質量%分散剤水溶液1mLと混合し、レーザー回折/散乱式粒子径測定装置を用いて、装置内超音波を5min照射した後、銅粒子の体積基準の粒度分布を測定し、D
10
粒子径(H
2
O)、D
50
粒子径(H
2
O)、および、D
95
粒子径(H
2
O)の値をそれぞれ得る。
続きを表示(約 1,500 文字)
【請求項2】
前記粒子径測定1により算出される、D
95
粒子径(H
2
O)をD
10
粒子径(H
2
O)で除した値が1.10以上である、請求項1に記載の銅粒子。
【請求項3】
前記粒子径測定1により算出される、D
95
粒子径(H
2
O)からD
10
粒子径(H
2
O)を減じた値が0.05μm以上1.50μm以下である、請求項1または2に記載の銅粒子。
【請求項4】
前記粒子径測定1により算出されるD
95
粒子径(H
2
O)が0.20μm以上2.00μm以下である、請求項1または2に記載の銅粒子。
【請求項5】
前記粒子径測定1により算出されるD
10
粒子径(H
2
O)が0.05μm以上0.50μm以下である、請求項1または2に記載の銅粒子。
【請求項6】
前記粒子径測定1により算出されるD
50
粒子径(H
2
O)が0.10μm以上1.00μm以下である、請求項1または2に記載の銅粒子。
【請求項7】
下記粒子径測定2により算出されるD
50
粒子径(img)が0.10μm以上1.00μm以下である、請求項1または2に記載の銅粒子。
[粒子径測定2]
走査電子顕微鏡により得られる画像を画像解析して、D
10
粒子径(img)、D
50
粒子径(img)、および、D
90
粒子径(img)の値をそれぞれ得る。
【請求項8】
前記粒子径測定1により算出されるD
50
粒子径(H
2
O)を下記粒子径測定2により算出されるD
50
粒子径(img)で除した値が1.50以下である、請求項1または2に記載の銅粒子。
[粒子径測定2]
走査電子顕微鏡により得られる画像を画像解析して、D
10
粒子径(img)、D
50
粒子径(img)、および、D
90
粒子径(img)の値をそれぞれ得る。
【請求項9】
下記収縮率測定により算出される収縮率1.0%の温度が200℃以上である、請求項1または2に記載の銅粒子。
[収縮率測定]
銅粒子を1g秤量し、直径5mmの円柱状の成型金型へ充填し、油圧プレス機(吐出圧力10MPa)にて前記銅粒子をプレス成型する。プレス成型により得られたペレットを砕いて、顆粒サンプルを得る。前記顆粒サンプルを0.67g秤量し、直径5mmの円柱状の成形金型へ充填し、油圧プレス機(吐出圧力10MPa)にて前記顆粒サンプルをプレス成型し、直径5mm、高さ5mmの円柱状のペレットを測定用サンプルとして得る。
熱機械分析計を用いて、Ar流量:200mL/min、測定荷重:10mN、測定温度域:23~1000℃、昇温速度:5℃/minの条件で測定し、収縮率1.0%の温度を算出する。
【請求項10】
JIS Z2512:2012に準拠し測定されるタップ密度が2.5g/cm
3
以上である、請求項1または2に記載の銅粒子。
(【請求項11】以降は省略されています)
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は銅粒子、導電性ペースト及び基板に関する。
続きを表示(約 2,000 文字)
【背景技術】
【0002】
銅粒子に関する技術としては、例えば、特許文献1に記載の技術が挙げられる。
【0003】
特許文献1には、湿式法によって製造された銅粉であって、ゼータ電位の絶対値が20mV以上である、銅粉が記載されている。
特許文献1の銅粉によれば、乾燥ケーキからの解砕と分級の工程の負担を低減しつつ、二次粒子の残存が十分に低減された、易解砕性の銅粉を得ることができると記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特開2020-50947号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本発明は充填性が向上した銅粒子、それを用いた導電性ペースト及び基板を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明によれば、以下に示す銅粒子、導電性ペースト及び基板が提供される。
【0007】
[1]
下記粒子径測定1により算出される、D
95
粒子径(H
2
O)をD
10
粒子径(H
2
O)で除した値が4.20以下である、銅粒子。
[粒子径測定1]
銅粒子0.1gを0.1質量%分散剤水溶液1mLと混合し、レーザー回折/散乱式粒子径測定装置を用いて、装置内超音波を5min照射した後、銅粒子の体積基準の粒度分布を測定し、D
10
粒子径(H
2
O)、D
50
粒子径(H
2
O)、および、D
95
粒子径(H
2
O)の値をそれぞれ得る。
[2]
前記粒子径測定1により算出される、D
95
粒子径(H
2
O)をD
10
粒子径(H
2
O)で除した値が1.10以上である、前記[1]に記載の銅粒子。
[3]
前記粒子径測定1により算出される、D
95
粒子径(H
2
O)からD
10
粒子径(H
2
O)を減じた値が0.05μm以上1.50μm以下である、前記[1]または[2]に記載の銅粒子。
[4]
前記粒子径測定1により算出されるD
95
粒子径(H
2
O)が0.20μm以上2.00μm以下である、前記[1]~[3]のいずれかに記載の銅粒子。
[5]
前記粒子径測定1により算出されるD
10
粒子径(H
2
O)が0.05μm以上0.50μm以下である、前記[1]~[4]のいずれかに記載の銅粒子。
[6]
前記粒子径測定1により算出されるD
50
粒子径(H
2
O)が0.10μm以上1.00μm以下である、前記[1]~[5]のいずれかに記載の銅粒子。
[7]
下記粒子径測定2により算出されるD
50
粒子径(img)が0.10μm以上1.00μm以下である、前記[1]~[6]のいずれかに記載の銅粒子。
[粒子径測定2]
走査電子顕微鏡により得られる画像を画像解析して、D
10
粒子径(img)、D
50
粒子径(img)、および、D
90
粒子径(img)の値をそれぞれ得る。
[8]
前記粒子径測定1により算出されるD
50
粒子径(H
2
O)を下記粒子径測定2により算出されるD
50
【発明の効果】
【0008】
本発明によれば、充填性が向上した銅粒子、それを用いた導電性ペースト及び基板を提供できる。
【発明を実施するための形態】
【0009】
以下、本発明の実施形態について、説明する。数値範囲の「A~B」は特に断りがなければ、A以上B以下を表す。
【0010】
[銅粒子]
銅粒子は、例えば、導電性ペーストとして使用されている。また、銅粒子を含む導電性ペーストは、例えば、基板の配線導線として用いられる。銅粒子を含む導電性ペーストを基板の配線導線として用いる場合、基板のビアホールに導電性ペーストを充填する場合がある。そのため、ビアホール中の銅粒子の充填率をより向上させることが求められている。
本発明は充填性が向上した銅粒子、それを用いた導電性ペースト及び基板を提供するものである。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する
関連特許
他の特許を見る