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公開番号2025051575
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-04
出願番号2024043839
出願日2024-03-19
発明の名称基板処理装置および基板処理方法
出願人株式会社SCREENホールディングス
代理人弁理士法人あい特許事務所
主分類H01L 21/304 20060101AFI20250327BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】基板に供給すべき処理液を案内する流路を洗浄する時間を短縮できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置1は、水を基板Wの方に案内する水流路と、水よりも表面張力が低い液体である有機溶剤を基板Wの方に案内する溶剤流路33xとを備える。水流路は、少なくとも一部が空気によって満たされた凹部72uと、凹部72u内の空気に接する水に接する凸部72hと、を含む凹凸面72を含む。溶剤流路33xは、有機溶剤に接する鏡面71を含む。
【選択図】図5A-B
特許請求の範囲【請求項１】
基板を保持する基板ホルダーと、
水を前記基板ホルダーに保持されている前記基板の方に案内する水流路と、
前記水よりも表面張力が低い液体である有機溶剤を前記基板ホルダーに保持されている前記基板の方に案内する溶剤流路と、を備え、
前記水流路は、少なくとも一部が空気によって満たされた凹部と、前記凹部内の前記空気に接する前記水に接する凸部と、を含む凹凸面を含み、
前記溶剤流路は、前記有機溶剤に接する鏡面を含む、基板処理装置。
続きを表示（約 930 文字）【請求項２】
前記凹凸面は、フッ素樹脂製である、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記水流路は、前記水を貯留する水タンクと、前記水タンクから供給された前記水を案内する水配管と、を含み、
前記凹凸面は、前記水タンクの内面に設けられている、請求項１または２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記溶剤流路は、前記有機溶剤を貯留する溶剤タンクと、前記溶剤タンクから供給された前記有機溶剤を案内する溶剤配管と、を含み、
前記鏡面は、前記溶剤タンクの内面に設けられている、請求項１または２に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記凹凸面は、前記水流路の屈曲部に設けられている、請求項１または２に記載の基板処理装置。
【請求項６】
室温よりも高温の高温薬液を前記基板ホルダーに保持されている基板の方に案内する高温薬液流路をさらに備え、
前記高温薬液流路は、少なくとも一部が空気によって満たされた凹部と、前記凹部内の前記空気に接する前記高温薬液に接する凸部と、を含む凹凸面を含む、請求項１または２に記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記高温薬液の前記凹凸面は、フッ素樹脂製である、請求項６に記載の基板処理装置。
【請求項８】
前記高温薬液流路は、前記高温薬液を貯留する高温薬液タンクと、前記高温薬液タンクから供給された前記高温薬液を案内する高温薬液配管と、を含み、
前記高温薬液流路の前記凹凸面は、前記高温薬液タンクの内面に設けられている、請求項６に記載の基板処理装置。
【請求項９】
前記凹凸面は、前記高温薬液流路の屈曲部に設けられている、請求項８に記載の基板処理装置。
【請求項１０】
前記高温薬液流路は、前記高温薬液を案内する高温薬液配管と、前記高温薬液配管によって案内された高温薬液を吐出する高温薬液ノズルと、を含み、
前記高温薬液流路の前記凹凸面は、前記高温薬液ノズルの内面に設けられている、請求項６に記載の基板処理装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を処理する基板処理装置および基板処理方法に関する。基板には、例えば、半導体ウエハ、液晶表示装置や有機ＥＬ（electroluminescence）表示装置などのＦＰＤ（Flat Panel Display）用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板、太陽電池用基板などが含まれる。
続きを表示（約 890 文字）【背景技術】
【０００２】
特許文献１は、工場に設置された基板処理装置の使用を開始する前に配管を洗浄液で洗浄することを開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０２０－１５５６４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
配管を洗浄している間は基板処理装置で基板を処理することができない。したがって、配管などの流路を形成する部材を洗浄する時間は短いことが好ましい。また、洗浄の頻度は少ないことが好ましい。
【０００５】
本発明の一実施形態は、基板に供給すべき処理液を案内する流路を洗浄する時間を短縮できる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【０００６】
また、本発明の一実施形態は、基板に供給すべき処理液を案内する流路を洗浄する頻度を少なくできる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一実施形態は、基板を保持する基板ホルダーと、水を前記基板ホルダーに保持されている前記基板の方に案内する水流路と、前記水よりも表面張力が低い液体である有機溶剤を前記基板ホルダーに保持されている前記基板の方に案内する溶剤流路と、を備え、前記水流路は、少なくとも一部が空気によって満たされた凹部と、前記凹部内の前記空気に接する前記水に接する凸部と、を含む凹凸面を含み、前記溶剤流路は、前記有機溶剤に接する鏡面を含む、基板処理装置を提供する。
【０００８】
前記実施形態において、以下の特徴の少なくとも１つを前記基板処理装置に加えてもよい。
【０００９】
前記凹凸面は、フッ素樹脂製である。
【００１０】
前記水流路は、前記水を貯留する水タンクと、前記水タンクから供給された前記水を案内する水配管と、を含み、前記凹凸面は、前記水タンクの内面に設けられている。
（【００１１】以降は省略されています）

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