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公開番号2025044121
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-01
出願番号2024090286
出願日2024-06-03
発明の名称基板保持装置、基板処理装置、分離方法、および物品製造方法
出願人キヤノン株式会社
代理人弁理士法人大塚国際特許事務所
主分類H01L 21/683 20060101AFI20250325BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】基板およびそれを保持する保持部の摩耗を抑制するために有利な基板保持装置、基板処理装置、分離方法および物品製造方法を提供する。
【解決手段】基板ステージは1、基板2を保持する保持部である基板チャック3と、基板と保持部との間に気体を供給する気体供給部である気体流路10、電磁弁51～53及びレギュレータ612～63と、を有し、気体供給部は、基板を保持している保持部から基板を離す際に、基板と保持部との付着力に関する情報に基づいた気体の供給を行う。これにより、気体の過剰供給による基板が横滑りや、供給の過小によるチャックの摩耗を抑制する。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
基板を保持する保持部と、
前記基板と前記保持部との間に気体を供給する気体供給部と、を有し、
前記気体供給部は、前記基板を保持している前記保持部から前記基板を離す際に、前記基板と前記保持部との付着力に関する情報に基づいた前記気体の供給を行う、
ことを特徴とする基板保持装置。
続きを表示（約 1,100 文字）【請求項２】
前記付着力に関する情報は、前記基板の特性および前記保持部の特性のうちの少なくとも一方を含む、ことを特徴とする請求項１に記載の基板保持装置。
【請求項３】
前記基板の特性は、前記基板の反り量と、前記保持部と接する前記基板の面の粗さと、前記基板に対して施された成膜の種類と、前記基板の素材と、前記基板の厚さとのうちの少なくともいずれかを含む、ことを特徴とする請求項２に記載の基板保持装置。
【請求項４】
前記保持部の特性は、前記基板を保持する保持面の平坦度と、前記保持面の表面粗さと、前記保持部の上に設けられた複数の凸部の太さと、前記保持部の材質とのうちの少なくともいずれかを含む、ことを特徴とする請求項２に記載の基板保持装置。
【請求項５】
前記気体供給部は、前記気体を流すための配管を含み、
前記配管は、前記保持部による前記基板の保持のための、前記基板と前記保持部との間の空間の減圧にも使用される、ことを特徴とする請求項１に記載の基板保持装置。
【請求項６】
前記気体供給部による前記気体の供給を制御する制御部を有し、
前記制御部は、前記気体の供給量と前記気体の供給時間とのうち少なくとも一方の制御を行う、ことを特徴とする請求項１に記載の基板保持装置。
【請求項７】
前記制御部は、前記気体の供給の開始からの時間の経過に応じて前記気体の供給量を変化させるように制御する、ことを特徴とする請求項６に記載の基板保持装置。
【請求項８】
前記保持部の前記基板と対向する面には前記気体を供給するための複数の開口が形成されており、
前記制御部は、前記複数の開口のうちの第１開口からの気体の供給量と、前記複数の開口のうちの第２開口からの気体の供給量とを別々に制御する、
ことを特徴とする請求項６に記載の基板保持装置。
【請求項９】
前記複数の開口は、気体を供給するために使用される開口と、気体の供給のためには使用されない開口とを含む、ことを特徴とする請求項８に記載の基板保持装置。
【請求項１０】
前記保持部の、前記基板を保持する保持面と直交する第１方向に関して前記保持部を駆動する駆動機構と、
前記保持部の前記第１方向における位置を計測する計測部と、を有し、
前記付着力に関する情報は、前記保持部の前記第１方向における目標位置と前記計測部によって計測された前記保持部の前記第１方向における位置との差に基づいて求められる、
ことを特徴とする請求項１に記載の基板保持装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板保持装置、基板処理装置、分離方法、および物品製造方法に関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスや液晶表示デバイス等の製造工程で使用される基板処理装置は、基板を保持する基板チャック（基板保持部）を含みうる。基板チャックにおける基板の保持および解除のスムースさは、生産性に関わるだけでなく、基板および基板チャックの耐摩耗性にも関わる。
【０００３】
特許文献１には、支持テーブルから基板をアンロードする際に、支持テーブルに形成されたガス流開口を介して支持テーブルのベース面と基板との間のギャップにガスを供給することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特表２０１９―５０５８４１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
基板チャックが基板をチャックし、その後にチャックを解除しても、基板と基板チャックとの間には、付着力が働いている。基板と基板チャックとを離す際に、気体の供給量が付着力に対して過大であると、基板が基板チャックから浮き上がり、基板が横滑りしてしまう。一方、基板と基板チャックとを離す際に、気体の供給量が付着力に対して過少であると、基板が基板チャックから離れず基板チャックの摩耗を引き起こす。付着力は、基板や基板チャックの特性に依存するため、基板と基板チャックとを離すために行われる気体の供給は、付着力に応じて、都度適切に設定されることが好ましい。
【０００６】
本発明は、基板およびそれを保持する保持部の摩耗を抑制するために有利な技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一側面によれば、基板を保持する保持部と、前記基板と前記保持部との間に気体を供給する気体供給部と、を有し、前記気体供給部は、前記基板を保持している前記保持部から前記基板を離す際に、前記基板と前記保持部との付着力に関する情報に基づいた前記気体の供給を行う、ことを特徴とする基板保持装置が提供される。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、基板およびそれを保持する保持部の摩耗を抑制するために有利な技術を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
基板ステージの構成を示す図。
制御部の機能構成を示す図。
基板チャックの平面図。
気体供給の制御について説明する図。
気体供給の制御について説明する図。
基板ステージの構成を示す図。
基板チャックの平面図。
基板の受け渡し動作を説明する図。
基板チャックの平面図。
基板の受け渡し動作を説明する図。
微動ステージの駆動プロファイルを示す図。
微動ステージのＺ偏差の時間推移を示す図。
気体供給中の圧力の時間変化を示す図。
露光装置の構成を示す概略図。
基板を基板チャックから離す分離方法を示すフローチャート。
物品製造方法のフローチャート。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。なお、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。さらに、添付図面においては、同一若しくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。
（【００１１】以降は省略されています）

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