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公開番号2024165044
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-11-28
出願番号2023080864
出願日2023-05-16
発明の名称低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法
出願人ダイキン工業株式会社,国立大学法人大阪大学,国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構
代理人弁理士法人WisePlus
主分類C08J 3/28 20060101AFI20241121BHJP(有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物)
要約【課題】分子量のバラツキの小さい低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法を提供する。
【解決手段】高分子量ポリテトラフルオロエチレンに、最大線量率と最小線量率との比(最大線量率/最小線量率)が2.00以下となるようにバッチ式で放射線を照射して、380℃における溶融粘度が1.0×10²Pa・s以上、7.0×10⁵Pa・s以下である低分子量ポリテトラフルオロエチレンを得る工程(1)を含む、低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
高分子量ポリテトラフルオロエチレンに、最大線量率と最小線量率との比（最大線量率／最小線量率）が２．００以下となるようにバッチ式で放射線を照射して、３８０℃における溶融粘度が１．０×１０
２
Ｐａ・ｓ以上、７．０×１０
５
Ｐａ・ｓ以下である低分子量ポリテトラフルオロエチレンを得る工程（１）を含む、低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法。
続きを表示（約 760 文字）【請求項２】
前記放射線の最小吸収線量が５０ｋＧｙ以上２００ｋＧｙ未満である請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記照射を、酸素の存在下に行う請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項４】
前記放射線が電子線、ガンマ線又はＸ線である請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項５】
前記放射線の線源から前記高分子量ポリテトラフルオロエチレンの最も遠い部分までの距離を１０ｍ以下として前記照射を行う請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項６】
前記放射線の線源から前記高分子量ポリテトラフルオロエチレンの最も近い部分までの距離を５ｃｍ以上として前記照射を行う請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項７】
前記高分子量ポリテトラフルオロエチレンを、前記放射線の線源の有効領域に対面する位置に配置して、前記照射が行われ、前記有効領域は、前記線源の中心からの距離が、当該中心から前記線源の端部までの距離の９５％以下となる領域である請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項８】
前記照射を、金属、ガラス、セラミックス、及び、有機材料からなる群より選択される少なくとも１種の材料により構成される照射容器に充填された前記高分子量ポリテトラフルオロエチレンに対して行う請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項９】
前記照射容器は、円柱状又は角柱状である請求項８に記載の製造方法。
【請求項１０】
前記照射容器は、板状の面、網状の面、及び、スリット状の開口を有する面からなる群より選択される少なくとも１種の面を有する請求項８に記載の製造方法。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法に関する。
続きを表示（約 1,100 文字）【背景技術】
【０００２】
分子量数千から数十万の低分子量ポリテトラフルオロエチレン（「ポリテトラフルオロエチレンワックス」や「ポリテトラフルオロエチレンマイクロパウダー」とも呼ばれる）は、化学的安定性に優れ、表面エネルギーが極めて低いことに加え、フィブリル化が生じにくいので、滑り性や塗膜表面の質感を向上させる添加剤として、プラスチックス、インク、化粧品、塗料、グリース等の製造に用いられている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法としては、重合法、放射線分解法、熱分解法等が知られている。特許文献２には、放射線分解法による低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法が記載されている。
【０００４】
特許文献３及び４には、容器内でポリテトラフルオロエチレンを撹拌しながら連続式で電子線を照射する方法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開平１０－１４７６１７号公報
国際公開第２０２０／０１３３３６号
米国特許第４７７７１９２号明細書
米国特許第６４８６４８１号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本開示は、分子量のバラツキの小さい低分子量ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示（１）は、高分子量ポリテトラフルオロエチレンに、最大線量率と最小線量率との比（最大線量率／最小線量率）が２．００以下となるようにバッチ式で放射線を照射して、３８０℃における溶融粘度が１．０×１０
２
Ｐａ・ｓ以上、７．０×１０
５
Ｐａ・ｓ以下である低分子量ポリテトラフルオロエチレンを得る工程（１）を含む、低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法である。
【０００８】
本開示（２）は、上記放射線の最小吸収線量が５０ｋＧｙ以上２００ｋＧｙ未満である本開示（１）の製造方法である。
【０００９】
本開示（３）は、上記照射を、酸素の存在下に行う本開示（１）又は（２）の製造方法である。
【００１０】
本開示（４）は、上記放射線が電子線、ガンマ線又はＸ線である本開示（１）～（３）のいずれかとの任意の組み合わせの製造方法である。
（【００１１】以降は省略されています）

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