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公開番号
2024154654
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2024-10-31
出願番号
2023068595
出願日
2023-04-19
発明の名称
表面撥液性付与剤及びレジスト用樹脂組成物
出願人
ダイキン工業株式会社
代理人
個人
,
個人
主分類
C08G
65/334 20060101AFI20241024BHJP(有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物)
要約
【課題】高い撥インク性を有する隔壁パターンを形成することができる組成物の提供。
【解決手段】フルオロポリエーテル鎖(α)と、(メタ)アクリレート系単量体の構造単位(β)とが、直接又は2価の有機基を介して結合しており、前記(メタ)アクリレート系単量体の構造単位(β)の側鎖末端に炭素-炭素二重結合を有し、前記含フッ素重合体の炭素-炭素二重結合当量が700g以下である含フッ素重合体を含む、表面撥液性付与剤。
【選択図】なし
特許請求の範囲
【請求項1】
フルオロポリエーテル鎖(α)と、(メタ)アクリレート系単量体の構造単位(β)とが、直接又は2価の有機基を介して結合しており、前記(メタ)アクリレート系単量体の構造単位(β)の側鎖末端に炭素-炭素二重結合を有し、前記炭素-炭素二重結合当量が700g以下である含フッ素重合体を含む、表面撥液性付与剤。
続きを表示(約 2,600 文字)
【請求項2】
前記含フッ素重合体の炭素-炭素二重結合当量が600g以下である、請求項1に記載の表面撥液性付与剤。
【請求項3】
前記フルオロポリエーテル鎖(α)は、下記式:
Rf
1
-R
F
-O
n
-、又は、
-Rf
2
m
-R
F
-O
n
-
[式中:
Rf
1
は、1個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC
1-16
アルキル基であり;
Rf
2
は、1個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC
1-6
アルキレン基であり;
R
F
は、それぞれ独立して、2価のフルオロポリエーテル基であり;
mは、0又は1であり;
nは、それぞれ独立して、0又は1である。]
で表される基である、請求項1に記載の表面撥液性付与剤。
【請求項4】
前記フルオロポリエーテル鎖(α)の分子量は、3,000以上である、請求項1に記載の表面撥液性付与剤。
【請求項5】
フルオロポリエーテル鎖(α)の末端に、前記(メタ)アクリレート系単量体がリビングラジカル重合した構造単位(β)が結合した重合体である、請求項1に記載の表面撥液性付与剤。
【請求項6】
前記含フッ素重合体は、末端に、
TIFF
2024154654000023.tif
17
34
[式中:
R
a
は、それぞれ独立して、アルキル、フェニル、-SR
a1
、-OR
a2
、-NR
a3
2
、
TIFF
2024154654000024.tif
84
107
であり;
R
a1
、R
a2
、R
a3
、R
a4
、R
a5
及びR
a6
は、それぞれ独立して、アルキル基又はフェニル基であり;
R
a7
は、水素又はハロゲン原子である。]
で表される基を有する含フッ素重合体である、請求項1に記載の表面撥液性付与剤。
【請求項7】
前記含フッ素重合体は、下記式(1)又は(2):
TIFF
2024154654000025.tif
30
103
[式中:
R
F1
は、Rf
1
-R
F
-O
n
-であり;
R
F2
は、-Rf
2
m
-R
F
-O
n
-であり;
Rf
1
は、1個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC
1-16
アルキル基であり;
Rf
2
は、1個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC
1-6
アルキレン基であり;
R
F
は、それぞれ独立して、2価のフルオロポリエーテル基であり;
mは、0又は1であり;
nは、それぞれ独立して、0又は1であり;
R
b
は、各出現においてそれぞれ独立して、(メタ)アクリレート系単量体に由来するユニットであり;
αは、それぞれ独立して、1~100の整数であり;
X
a
は、それぞれ独立して、2価の有機基であり;
X
b
は、それぞれ独立して、2価の有機基であり;
R
a
は、それぞれ独立して、アルキル、フェニル、-SR
a1
、-OR
a2
、-NR
a3
2
、
TIFF
2024154654000026.tif
84
107
であり;
R
a1
、R
a2
、R
a3
、R
a4
、R
a5
及びR
a6
は、それぞれ独立して、アルキル基又はフェニル基であり;
R
a7
は、水素又はハロゲン原子である。]
で表される含フッ素重合体である、請求項1に記載の表面撥液性付与剤。
【請求項8】
前記(メタ)アクリレート系単量体の構造単位(β)の側鎖末端に、式:
-O(C=O)CR
5
=CH
2
-(CH
2
)
p11
-O(C=O)CR
5
=CH
2
(式中、p11は1~6の整数である)、又は
-C(CH
3
)(C-CH
2
O(C=O)CR
5
=CH
2
)
2
(式中、R
5
は水素原子またはメチル基である)
で表される基を有する、請求項1に記載の表面撥液性付与剤。
【請求項9】
(A)フルオロポリエーテル鎖(α)と、(メタ)アクリレート系単量体の構造単位(β)とが、直接又は2価の有機基を介して結合しており、前記(メタ)アクリレート系単量体の構造単位(β)の側鎖末端に炭素-炭素二重結合を有し、前記二重結合当量が700g以下である含フッ素重合体と、
(B)アルカリ可溶性樹脂と、
を含む、ネガ型レジスト用樹脂組成物。
【請求項10】
前記含フッ素重合体の炭素-炭素二重結合当量が600g以下である、請求項9に記載のネガ型レジスト用樹脂組成物。
(【請求項11】以降は省略されています)
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本開示は、表面撥液性付与剤及びレジスト用樹脂組成物に関する。
続きを表示(約 2,300 文字)
【背景技術】
【0002】
撥インク性を付与するためネガ型レジスト組成物として、特許文献1に記載のレジスト組成物が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2010-140043号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
特許文献1に記載のレジスト組成物は、アルカリ現像後、表面の撥液性が低下し得る。本開示は、高い撥インク性を有するレジスト膜を形成することができる表面撥液性付与剤及びレジスト用樹脂組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本開示は、以下の態様を含む。
[1] フルオロポリエーテル鎖(α)と、(メタ)アクリレート系単量体の構造単位(β)とが、直接又は2価の有機基を介して結合しており、前記(メタ)アクリレート系単量体の構造単位(β)の側鎖末端に炭素-炭素二重結合を有し、前記炭素-炭素二重結合当量が700g以下である含フッ素重合体を含む、表面撥液性付与剤。
[2] 前記含フッ素重合体の炭素-炭素二重結合当量が600g以下である、上記[1]に記載の表面撥液性付与剤。
[3] 前記フルオロポリエーテル鎖(α)は、下記式:
Rf
1
-R
F
-O
n
-、又は、
-Rf
2
m
-R
F
-O
n
-
[式中:
Rf
1
は、1個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC
1-16
アルキル基であり;
Rf
2
は、1個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC
1-6
アルキレン基であり;
R
F
は、それぞれ独立して、2価のフルオロポリエーテル基であり;
mは、0又は1であり;
nは、それぞれ独立して、0又は1である。]
で表される基である、上記[1]又は[2]に記載の表面撥液性付与剤。
[4] 前記フルオロポリエーテル鎖(α)の分子量は、3,000以上である、上記[1]~[3]のいずれか1項に記載の表面撥液性付与剤。
[5] フルオロポリエーテル鎖(α)の末端に、前記(メタ)アクリレート系単量体がリビングラジカル重合した構造単位(β)が結合した重合体である、上記[1]~[4]のいずれか1項に記載の表面撥液性付与剤。
[6] 前記含フッ素重合体は、末端に、
TIFF
2024154654000001.tif
17
34
[式中:
R
a
は、それぞれ独立して、アルキル、フェニル、-SR
a1
、-OR
a2
、-NR
a3
2
、
TIFF
2024154654000002.tif
84
107
であり;
R
a1
、R
a2
、R
a3
、R
a4
、R
a5
及びR
a6
は、それぞれ独立して、アルキル基又はフェニル基であり;
R
a7
は、水素又はハロゲン原子である。]
で表される基を有する含フッ素重合体である、上記[1]~[5]のいずれか1項に記載の表面撥液性付与剤。
[7] 前記含フッ素重合体は、下記式(1)又は(2):
TIFF
2024154654000003.tif
30
103
[式中:
R
F1
は、Rf
【発明の効果】
【0006】
本開示の組成物は、高い撥インク性を有する隔壁パターンを形成することができる。
【発明を実施するための形態】
【0007】
本開示の表面撥液性付与剤は、含フッ素重合体含む。
【0008】
上記含フッ素重合体は、フルオロポリエーテル鎖(α)と、(メタ)アクリレート系単量体の構造単位(β)とが、直接又は2価の有機基を介して結合しており、(メタ)アクリレート系単量体の構造単位(β)の側鎖末端に炭素-炭素二重結合を有し、前記含フッ素重合体の二重結合当量が700g以下である。
【0009】
本発明者らは、ブロックポリマーを添加したネガ型レジストを成膜後、UV照射した直後の被膜表面の撥液性と比較して、アルカリ現像液による現像後により形成される隔壁パターン表面の撥液性が低下することがあるという課題を見いだした。また、プロセス条件であるUV照射量(積算光量)を低くした場合にも、現像後の撥液性が低下することがあるという課題も見いだした。
【0010】
本発明者らは、種々のブロックポリマーに関して更なる検討を実施したところ、ブロックポリマー中の炭素-炭素二重結合の含有比率を特定の範囲にコントロールすることによって、現像後においても隔壁表面の撥液性を維持できることを見出した。
(【0011】以降は省略されています)
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