TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
10個以上の画像は省略されています。
公開番号2024146782
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-10-15
出願番号2024030042
出願日2024-02-29
発明の名称光学積層体
出願人住友化学株式会社
代理人弁理士法人深見特許事務所
主分類G02B 5/30 20060101AFI20241004BHJP(光学)
要約【課題】液晶位相差膜を複数有する位相差板を備えた光学積層体であって、斜め方向から視認されるムラが低減された光学積層体を提供する。
【解決手段】第1保護フィルム、接着剤層、偏光子、接着剤層、第2保護フィルム、第1粘接着層、第1液晶位相差膜、第2粘接着層、第2液晶位相差膜がこの順に隣接積層されてなる光学積層体であって、前記第1粘接着層は、温度80℃における貯蔵弾性率が0.4GPa以上であり、前記第1液晶位相差膜および前記第2液晶位相差膜は、それぞれ独立に下記式(2)または式(3):
nx>ny≧nz ・・・(2)
nx<ny≦nz ・・・(3)
を満たし、前記第2粘接着層は、厚みが2.8μm~20μmである、光学積層体。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項1】
第1保護フィルム、接着剤層、偏光子、接着剤層、第2保護フィルム、第1粘接着層、第1液晶位相差膜、第2粘接着層、第2液晶位相差膜がこの順に隣接積層されてなる光学積層体であって、
前記第1粘接着層は、温度80℃における貯蔵弾性率が0.4GPa以上であり、
前記第1液晶位相差膜および前記第2液晶位相差膜は、それぞれ独立に下記式(2)または式(3):
nx>ny≧nz ・・・(2)
nx<ny≦nz ・・・(3)
を満たし、
前記第2粘接着層は、厚みが2.8μm~20μmである、光学積層体。
(式(2)および式(3)中、nxは前記第1液晶位相差膜または前記第2液晶位相差膜が形成する屈折率楕円体における、前記第1液晶位相差膜または前記第2液晶位相差膜の平面に対して平行な方向の主屈折率を表し、nyは、前記屈折率楕円体における前記平面に対して平行であり、かつ、前記nxの方向に対して直交する方向の屈折率を表し、nzは前記屈折率楕円体における前記平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。)
続きを表示(約 290 文字)【請求項2】
前記第1粘接着層の厚みが1μm~3μmの範囲である、請求項1に記載の光学積層体。
【請求項3】
前記第1粘接着層は、波長589nmの光に対する屈折率N
bI
が、1.48~1.54である、請求項1または2に記載の光学積層体。
【請求項4】
前記第2粘接着層は、波長589nmの光に対する屈折率が1.50~1.57である、請求項1または2に記載の光学積層体。
【請求項5】
前記第2粘接着層は、温度80℃における貯蔵弾性率が0.04MPa以上である、請求項1または2に記載の光学積層体。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は光学積層体に関する。
続きを表示(約 2,500 文字)【背景技術】
【0002】
従来、画像表示装置において、画像表示パネルの視認側に円偏光板を配置して、外来光の反射による視認性の低下を抑制する方法が採用されている。
【0003】
円偏光板は、直線偏光板と位相差板とが積層された光学積層体である。円偏光板では、画像表示パネルに向かう外来光を直線偏光板により直線偏光に変換し、続く位相差板により円偏光に変換する。円偏光である外来光は、画像表示パネルの表面で反射するものの、この反射の際に偏光面の回転方向が逆転し、位相差板により直線偏光に変換された後、続く直線偏光板により遮光される。その結果、外部への外来光の出射が著しく抑制される。
【0004】
位相差板においては、液晶化合物の硬化物を含む液晶位相差膜を有する構成が知られている(例えば、特許文献1、2)。かかる構成によると、位相差板の薄型化を図ることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
特開2015-163935号公報
特開2019-91030号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
液晶位相差膜を複数有する位相差板を備えた光学積層体は、斜め方向からムラが視認される場合があった。
【0007】
本発明の第一は、液晶位相差膜を複数有する位相差板を備えた光学積層体であって、斜め方向から視認されるムラが低減された光学積層体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明の第一は、以下の光学積層体を提供する。
〔1-1〕 第1保護フィルム、接着剤層、偏光子、接着剤層、第2保護フィルム、第1粘接着層、第1液晶位相差膜、第2粘接着層、第2液晶位相差膜がこの順に隣接積層されてなる光学積層体であって、
前記第2保護フィルムと前記第1粘接着層は、前記第2保護フィルムの波長589nmの光に対する屈折率をN
aII
、前記第1粘接着層の波長589nmの光に対する屈折率をN
bI
とすると、下記式(1):
|N
aII
-N
bI
|<0.1 ・・・(1)
を満たし、
前記第1液晶位相差膜および前記第2液晶位相差膜は、それぞれ独立に下記式(2)または式(3):
nx>ny≧nz ・・・(2)
nx<ny≦nz ・・・(3)
を満たし、
前記第2粘接着層は、厚みが2.8μm~20μmである、光学積層体。
(式(2)および式(3)中、nxは前記第1液晶位相差膜または前記第2液晶位相差膜が形成する屈折率楕円体における、前記第1液晶位相差膜または前記第2液晶位相差膜の平面に対して平行な方向の主屈折率を表し、nyは、前記屈折率楕円体における前記平面に対して平行であり、かつ、前記nxの方向に対して直交する方向の屈折率を表し、nzは前記屈折率楕円体における前記平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。)
〔1-2〕 前記第1粘接着層の厚みが1μm~3μmの範囲である、[1-1]に記載の光学積層体。
〔1-3〕 前記第1粘接着層は、前記屈折率N
bI
が、1.48~1.54である、〔1-1〕または〔1-2〕に記載の光学積層体。
〔1-4〕 前記第2粘接着層は、波長589nmの光に対する屈折率が1.50~1.57である、〔1-1〕~〔1-3〕のいずれかに記載の光学積層体。
〔1-5〕 前記第2粘接着層は、温度80℃における貯蔵弾性率が0.04MPa以上である、〔1-1〕~〔1-4〕のいずれかに記載の光学積層体。
〔1-6〕 前記第1粘接着層は、温度80℃における貯蔵弾性率が0.02GPa以上5GPa以下である、〔1-1〕~〔1-5〕のいずれかに記載の光学積層体。
【0009】
本発明の第二は以下の光学積層体を提供する。
〔2-1〕第1保護フィルム、接着剤層、偏光子、接着剤層、第2保護フィルム、第1粘接着層、第1液晶位相差膜、第2粘接着層、第2液晶位相差膜がこの順に隣接積層されてなる光学積層体であって、
前記第1粘接着層は、温度80℃における貯蔵弾性率が0.4GPa以上であり、
前記第1液晶位相差膜および前記第2液晶位相差膜は、下記式(2)または式(3):
nx>ny≧nz ・・・(2)
nx<ny≦nz ・・・(3)
を満たし、
前記第2粘接着層は、厚みが2.8μm~20μmである、光学積層体。
(式(2)および式(3)中、nxは前記第1液晶位相差膜または前記第2液晶位相差膜が形成する屈折率楕円体における、前記第1液晶位相差膜または前記第2液晶位相差膜の平面に対して平行な方向の主屈折率を表し、nyは、前記屈折率楕円体における前記平面に対して平行であり、かつ、前記nxの方向に対して直交する方向の屈折率を表し、nzは前記屈折率楕円体における前記平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。)
【0010】
〔2-2〕 前記第1粘接着層の厚みが1μm~3μmの範囲である、[2-1]に記載の光学積層体。
〔2-3〕 前記第1粘接着層は、波長589nmの光に対する屈折率N
bI
が、1.48~1.54である、〔2-1〕または〔2-2〕に記載の光学積層体。
〔2-4〕 前記第2粘接着層は、波長589nmの光に対する屈折率が1.50~1.57である、〔2-1〕~〔2-3〕のいずれかに記載の光学積層体。
〔2-5〕 前記第2粘接着層は、温度80℃における貯蔵弾性率が0.04MPa以上である、〔1〕~〔4〕のいずれかに記載の光学積層体。
【発明の効果】
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPatで参照する
Flag Counter

関連特許

住友化学株式会社
樹脂組成物
3日前
住友化学株式会社
抗ウイルス材
4日前
住友化学株式会社
アルミナ顆粒
24日前
住友化学株式会社
混合物の製造方法
24日前
住友化学株式会社
樹脂組成物成形体
3日前
住友化学株式会社
電磁波反射構造体
18日前
住友化学株式会社
液溜構造を備える装置
24日前
住友化学株式会社
窒化ガリウム単結晶基板
2日前
住友化学株式会社
昆虫細胞を拡大培養する方法
16日前
住友化学株式会社
リチウム金属複合酸化物の製造方法
26日前
住友化学株式会社
光学積層体の製造方法および光学積層体
17日前
住友化学株式会社
添加剤造粒物、プラスチック組成物の製造方法
16日前
住友化学株式会社
センサタンパク質の活性測定用細胞の製造方法
16日前
住友化学株式会社
着色樹脂組成物、カラーフィルタ、及び表示装置
24日前
住友化学株式会社
III族窒化物積層構造および高電子移動度トランジスタ
18日前
住友化学株式会社
熱分解装置および再生(メタ)アクリル酸エステルの製造方法
16日前
住友化学株式会社
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
10日前
住友化学株式会社
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
10日前
住友化学株式会社
予測方法、混合物の製造方法、学習装置、予測装置及びプログラム
24日前
住友化学株式会社
塩、酸発生剤、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
2日前
住友化学株式会社
塩、酸発生剤、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
2日前
住友化学株式会社
組成物、重合体、硬化物、成形体及びポリメタクリル酸メチルの製造方法
16日前
住友化学株式会社
ポリエチレン樹脂組成物、フィルム、シート、および、太陽電池用封止シート
16日前
住友化学株式会社
カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
3日前
住友化学株式会社
カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
3日前
住友化学株式会社
円偏光板およびそれを用いる有機EL表示装置
16日前
住友化学株式会社
化合物、該化合物に由来する構造単位を含む樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
24日前
住友化学株式会社
化合物、該化合物に由来する構造単位を含む樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
24日前
住友化学株式会社
化合物、該化合物に由来する構造単位を含む樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
24日前
住友化学株式会社
化合物、該化合物に由来する構造単位を含む樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
25日前
住友化学株式会社
化合物、該化合物に由来する構造単位を含む樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
25日前
住友化学株式会社
化合物、該化合物に由来する構造単位を含む樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
24日前
住友化学株式会社
リチウム金属複合酸化物、リチウム二次電池用正極活物質、リチウム二次電池用正極及びリチウム二次電池
26日前
古河電気工業株式会社
融着機
16日前
有限会社宮城運輸機工
管内検査カメラ
1か月前
キヤノン株式会社
光学装置
24日前
続きを見る