TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
公開番号2024144266
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-10-11
出願番号2024046138
出願日2024-03-22
発明の名称研磨パッド
出願人富士紡ホールディングス株式会社
代理人個人
主分類B24B 37/26 20120101AFI20241003BHJP(研削;研磨)
要約【課題】
本発明は、凹版72を用いて樹脂50に凹凸パターンを転写させる際に樹脂50の凸部51が脱落しにくい、凸部51の強度に優れた研磨パッドを提供する。
【解決手段】
凸部51と、前記凸部51の下に設けた基部52とからなる研磨層11を有する研磨パッドであって、前記研磨層11は凸部51及び基部52が同一の樹脂50により一体成型され、前記基部52に繊維材料6が埋め込まれていることを特徴とする研磨パッド。
【選択図】図3
特許請求の範囲【請求項1】
凸部と、前記凸部の下に設けた基部とからなる研磨層を有する研磨パッドであって、前記研磨層は凸部及び基部が同一の樹脂により一体成型され、前記基部に繊維材料が埋め込まれていることを特徴とする研磨パッド。
続きを表示(約 310 文字)【請求項2】
前記樹脂が硬化性樹脂組成物である、請求項1に記載の研磨パッド。
【請求項3】
前記繊維材料が、織布である、請求項1に記載の研磨パッド。
【請求項4】
前記繊維材料の繊維径が、100μm以上、300μm以下である、請求項1に記載の研磨パッド。
【請求項5】
前記繊維材料の目開きが、10μm以上、700μm以下である、請求項1に記載の研磨パッド。
【請求項6】
前記凸部の高さの平均が0.3mm以上、1.5mm以下である、請求項1に記載の研磨パッド。
【請求項7】
前記凸部の形状は四角錐台である、請求項1に記載の研磨パッド。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、研磨パッドに関する。詳細には、本発明の研磨パッドは、光学材料、半導体デバイス、ハードディスク用のガラス基板等のラッピングや研磨に用いられ、特にサファイアやSiCなどのラッピングや研磨をするのに好適に用いられる。
続きを表示(約 1,900 文字)【背景技術】
【0002】
光学材料、半導体デバイス、ハードディスク用のガラス基板や、サファイアやSiCのラッピング及び研磨では、研磨パッドを使用した研磨加工が行われている。研磨パッドとしては、不織布を用いた研磨パッド、発泡又は無発泡ポリウレタンを用いた研磨パッド、固定砥粒を有する研磨パッド、凹凸パターンを有する樹脂層を研磨面として用いた研磨パッドなど、様々な種類のものが知られている。
【0003】
このなかでも凹凸パターンを有する樹脂層を研磨面として用いた研磨パッドは、凹凸パターンを形成する溝が、スラリーの流動性に作用し、結果として被研磨物を均一に研磨できるという利点を有する。このような研磨パッドの製造方法としては、平板状の母材の表面を切削加工して溝を形成する方法や、スクリーン印刷法を応用して基材上の凹凸パターンを形成する方法、凹凸パターンを有する金型を作製し、作製した金型を用いてモールド成形する方法が挙げられる
【0004】
例えば、特許文献1では、感光性樹脂からなる凹凸パターンを設けた版(図1のC72)から転写することにより凹凸パターンが形成された研磨パッド(C50)が、特許文献2では、感光性樹脂からなる凹凸パターンを設けた版を転写させたシリコーンゴム等からなる成形型を用いて凹凸パターンが形成された研磨パッドが、それぞれ開示されている。
しかし、特許文献1及び2の様に凹版を用いて樹脂に凹凸パターンを転写させる方法では、硬化した樹脂を凹版から剥がす際に剥がしにくかったり、樹脂の凸部(C51)に切れ目(C9)が入り、凸部(C51)が脱落してしまう問題点があった(図1,2参照)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
特開2019-178248
特開2019-178258
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
本発明は上記の問題点に鑑みてなされたものであり、凹版を用いて樹脂に凹凸パターンを転写させる際に樹脂の凸部が脱落しにくい、凸部の強度に優れた研磨パッドを提供する。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明者は検討した結果、基部の樹脂内部に繊維材料を設けることにより、凸部の強度が増し、製造時(凹版からの剥離時)及び研磨時に、研磨パッド凸部の脱落を防ぐことができる研磨パッドを見出した。本発明は、以下を包含する。
[1] 凸部と、前記凸部の下に設けた基部とからなる研磨層を有する研磨パッドであって、前記研磨層は凸部及び基部が同一の樹脂により一体成型され、前記基部に繊維材料が埋め込まれていることを特徴とする研磨パッド。
[2] 前記樹脂が硬化性樹脂組成物である、[1]に記載の研磨パッド。
[3] 前記繊維材料が、織布である、[1]に記載の研磨パッド。
[4] 前記繊維材料の繊維径が、100μm以上、300μm以下である、[1]に記載の研磨パッド。
[5] 前記繊維材料の目開きが、10μm以上、700μm以下である、[1]に記載の研磨パッド。
[6] 前記凸部の高さの平均が0.3mm以上、1.5mm以下である、[1]に記載の研磨パッド。
[7] 前記凸部の形状は四角錐台である、[1]に記載の研磨パッド。
【発明の効果】
【0008】
凸部及び基部が同一の樹脂により一体成型されており、凹凸パターンを有し、基部には樹脂内部に繊維材料が埋め込まれている研磨パッドは、凸部の強度が増し、製造時(凹版からの剥離時)及び研磨時に、凸部の脱落を防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
図1は、従来の研磨層の製造方法の工程図である。
図2は、従来の研磨層を凹版C72から剥がす際の凸部C51の損傷や脱落C9を説明する模式図である。
図3は、本発明の研磨パッドの研磨層11の断面図である。
図4は、本発明の研磨パッドの研磨層11の製造方法の工程図である。
図5は、実施例1の研磨層の写真である。
図6は、別の態様である、本発明の研磨パッドの研磨層11の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0010】
以下、発明を実施するための形態について説明するが、本発明は、発明を実施するための形態に限定されるものではなはなく、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変形が可能である。
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPatで参照する

関連特許

個人
回転ヤスリ
1か月前
株式会社東京精密
研削装置
25日前
株式会社東京精密
研削装置
25日前
株式会社東京精密
CMP装置
13日前
株式会社ノンアス
湿潤集塵装置
11日前
UHT株式会社
駆動工具
1か月前
個人
カッター
1か月前
三重電子株式会社
タイヤ研磨装置
5日前
株式会社松風
歯科用研磨材
3日前
株式会社東京精密
研削装置及び研削方法
4日前
三菱マテリアル株式会社
バレル研磨用容器
1か月前
株式会社カルテックス
ブラスト装置
1か月前
有限会社竹内快速鋸
庖丁及び鋏研ぎ器
1か月前
富士紡ホールディングス株式会社
研磨パッド
4日前
富士紡ホールディングス株式会社
研磨パッド
3日前
株式会社東京精密
研磨装置の保持面加工方法
17日前
山九株式会社
水切り装置
14日前
株式会社東京精密
リテーナリングの組立方法
4日前
日立Astemo株式会社
加工方法、加工装置
14日前
株式会社雄飛
加工装置及び加工方法
24日前
富士紡ホールディングス株式会社
研磨パッド
5日前
新東工業株式会社
積層造形品の処理方法
20日前
株式会社チップトン
遠心バレル研磨機
1か月前
株式会社ディスコ
切削装置
20日前
富士紡ホールディングス株式会社
研磨パッドの製造方法
3日前
株式会社マキタ
携帯用加工機
1か月前
富士紡ホールディングス株式会社
研磨パッドの製造方法
3日前
富士紡ホールディングス株式会社
研磨パッドの製造方法
3日前
ノリタケ株式会社
平面研磨装置の定盤平坦度測定器
4日前
ノリタケ株式会社
研磨パッド及びその製造方法
10日前
株式会社ディスコ
保持面修正方法
1か月前
株式会社ハクブン
美理容用鋏の刃研ぎ装置および刃研ぎ方法
3日前
株式会社ディスコ
加工装置
1か月前
ノリタケ株式会社
両面研磨装置の上定盤平坦度測定器
4日前
富士紡ホールディングス株式会社
保持パッド及びその製造方法
4日前
富士紡ホールディングス株式会社
保持パッド及びその製造方法
4日前
続きを見る