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公開番号2024144089
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-10-11
出願番号2023216301
出願日2023-12-21
発明の名称感放射線性組成物およびレジストパターン形成方法
出願人JSR株式会社
代理人個人,個人,個人,個人,個人
主分類G03F 7/004 20060101AFI20241003BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】感度、解像性およびCDUに優れる感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】下記式(1)で表される第1構造単位を有する重合体と、アニオンおよび感放射線性オニウムカチオンを有する化合物とを含有し、上記重合体および上記化合物の少なくとも一方が、少なくとも1つの水素原子がヨウ素原子で置換された環構造を有する感放射線性組成物。
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特許請求の範囲【請求項１】
下記式（１）で表される第１構造単位を有する重合体と、
アニオンおよび感放射線性オニウムカチオンを有する化合物と
を含有し、
上記重合体および上記化合物の少なくとも一方が、少なくとも１つの水素原子がヨウ素原子で置換された環構造を有する感放射線性組成物。
TIFF
2024144089000023.tif
62
165
（式（１）中、Ｒ
１
は、水素原子、フッ素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基である。Ｌ
１
は、単結合、－ＣＯＯ－または－ＣＯＮＨ－である。Ａｒ
１
は、置換または非置換の芳香族炭化水素環から２個の水素原子を除いた基である。Ｒ
２
は、酸解離性基である。）
続きを表示（約 580 文字）【請求項２】
上記酸解離性基が多環の脂環を有しない請求項１に記載の感放射線性組成物。
【請求項３】
上記酸解離性基が芳香環または炭素－炭素二重結合を有する請求項１に記載の感放射線性組成物。
【請求項４】
上記酸解離性基が少なくとも１つの水素原子がヨウ素原子で置換された芳香環を有する請求項１に記載の感放射線性組成物。
【請求項５】
上記感放射線性オニウムカチオンが少なくとも１つの水素原子がフッ素原子またはフッ素原子含有基で置換された芳香環をさらに有する請求項１に記載の感放射線性組成物。
【請求項６】
上記重合体が少なくとも１つの水素原子がヨウ素原子で置換された環構造を含む第２構造単位をさらに有する請求項１に記載の感放射線性組成物。
【請求項７】
上記第２構造単位が有する上記環構造が少なくとも１つの水素原子がヨウ素原子で置換された芳香環である請求項６に記載の感放射線性組成物。
【請求項８】
基板に直接または間接に請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の感放射線性組成物を塗工する工程と、
上記塗工により形成されたレジスト膜を露光する工程と、
上記露光されたレジスト膜を現像する工程と
を備えるレジストパターン形成方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、感放射線性組成物およびレジストパターン形成方法に関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
リソグラフィによる微細加工に用いられる感放射線性組成物は、ＡｒＦエキシマレーザー光（波長１９３ｎｍ）、ＫｒＦエキシマレーザー光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外線、極端紫外線（ＥＵＶ）（波長１３．５ｎｍ）等の電磁波、電子線等の荷電粒子線などの放射線の照射により露光部に酸を発生させ、この酸を起点とする化学反応により露光部と非露光部との間に現像液に対する溶解速度に差異を生じさせることで基板上にレジストパターンを形成する。
【０００３】
感放射線性組成物には、極端紫外線、電子線等の放射線に対する感度が良好であることに加え、解像度、ＣＤＵ（ＣｒｉｔｉｃａｌＤｉｍｅｎｓｉｏｎＵｎｉｆｏｒｍｉｔｙ）等に優れることが要求される。
【０００４】
これらの要求に対しては、感放射線性組成物に用いられる重合体、酸発生剤およびその他の成分の種類、分子構造などが検討され、さらにその組み合わせについても詳細に検討されている（特開２０１０－１３４２７９号公報、特開２０１４－２２４９８４号公報および特開２０１６－０４７８１５号公報及び特開２０２１－００９３５７号公報参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２０１０－１３４２７９号公報
特開２０１４－２２４９８４号公報
特開２０１６－０４７８１５号公報
特開２０２１－００９３５７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
レジストパターンのさらなる微細化に伴って上記性能の要求レベルはさらに高まっており、これらの要求を満たす感放射線性組成物が求められている。
【０００７】
本発明の課題は、感度、解像性およびＣＤＵに優れる感放射線性組成物および当該感放射線性組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するためになされた発明は、下記式（１）で表される第１構造単位を有する重合体と、アニオンおよび感放射線性オニウムカチオンを有する化合物とを含有し、上記重合体および上記化合物の少なくとも一方が、少なくとも１つの水素原子がヨウ素原子で置換された環構造を有する感放射線性組成物である。
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2024144089000001.tif
62
165
（式（１）中、Ｒ
１
は、水素原子、フッ素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基である。Ｌ
１
は、単結合、－ＣＯＯ－または－ＣＯＮＨ－である。Ａｒ
１
は、置換または非置換の芳香族炭化水素環から２個の水素原子を除いた基である。Ｒ
２
は、酸解離性基である。）
【０００９】
上記課題を解決するためになされた別の発明は、基板に直接または間接に上述の当該感放射線性組成物を塗工する工程と、上記塗工により形成されたレジスト膜を露光する工程と、上記露光されたレジスト膜を現像する工程とを備えるレジストパターン形成方法である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の感放射線性組成物は、感度、解像性およびＣＤＵに優れる。本発明のレジストパターン形成方法によれば、感度良く、解像性およびＣＤＵに優れるレジストパターンを形成することができる。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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