TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
10個以上の画像は省略されています。
公開番号2024133705
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-10-02
出願番号2024112036,2022545738
出願日2024-07-11,2021-08-27
発明の名称新規銅触媒を用いたジアリールエーテル骨格を有するモルヒナン誘導体の製造方法
出願人日本ケミファ株式会社
代理人個人,個人,個人,個人,個人,個人,個人,個人
主分類C07D 471/10 20060101AFI20240925BHJP(有機化学)
要約【課題】ジアリールエーテル骨格を有するモルヒナン誘導体を製造する方法であって、工業化製法に適用可能な方法を提供する。
【解決手段】1価の銅化合物を用いる系又は1価の銅化合物と0価の金属銅とを同時に用いる新規触媒系のウルマン反応により、モルヒナン誘導体の4位フェノール体へフェニル基を導入する、次の一般式(III)(式中、R1は水素原子等、R2、R3及びR4は同一又は異なって水素原子又は任意の置換基等、R5は水素原子、ヒドロキシ基等、R14及びR15は同一又は異なって水素原子又は任意の置換基等を表す。)で表されるジアリールエーテル骨格を有するモルヒナン誘導体の製造方法。
<com:Image com:imageContentCategory="Drawing"> <com:ImageFormatCategory>JPEG</com:ImageFormatCategory> <com:FileName>2024133705000028.jpg</com:FileName> <com:HeightMeasure com:measureUnitCode="Mm">42</com:HeightMeasure> <com:WidthMeasure com:measureUnitCode="Mm">92</com:WidthMeasure> </com:Image>
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項1】
下記一般式(I):
JPEG
2024133705000017.jpg
42
80
(式中、R

は水素原子、置換基を有していてもよいC
1-10
アルキル基、置換基を有していてもよいC
3-6
シクロアルキルC
1-6
アルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいヘテロアリールアルキル基、置換基を有していてもよいC
3-6
シクロアルキル基、置換基を有していてもよいC
6-10
アリール基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基、置換基を有していてもよいC
2-6
アルケニル基又はアミノ保護基を表し、


、R

及びR

は、同一又は異なって、水素原子又は任意の置換基を表すか、
又は前記一般式(I)の
JPEG
2024133705000018.jpg
25
32
部分に関して、


及びR

が互いに結合して、
JPEG
2024133705000019.jpg
25
22
(式中、実線と破線からなる二重線は、単結合又は二重結合を表し、
ここで、AB間の実線と破線からなる二重線が単結合の場合、A及びBは、同一又は異なって、CR



、C=O又はNR

を表し、ここで、R

及びR

は、同一又は異なって、水素原子、-C(=O)-R

又は-CR
10
(OH)-R
11
を表し、R

~R
11
は、水素原子又は任意の置換基を表し、
AB間の実線と破線からなる二重線が二重結合の場合、A及びBは、同一又は異なって、CR

又はNを表し、ここで、R

、R

~R
11
は前記と同じものを表し、
DD間の実線と破線からなる二重線が、単結合の場合、DはCH

を表し、二重結合の場合、DはCHを表す)を表すか、
もしくはR

~R

が互いに結合して、
JPEG
2024133705000020.jpg
17
40
(式中、XはCH

、NR

(R

は水素原子又は任意の置換基を表す)又はOを表し、YはCH

又はC=Oを表し、R
12
はアミノ保護基又はアシル基を表す)を表し、


は、水素原子、ヒドロキシ基又は-OR
13
続きを表示(約 1,600 文字)【請求項2】
AB間の実線と破線からなる二重線が単結合を表し、A及びBが、同一又は異なって、CR



を表し、R

及びR

が、同一又は異なって、水素原子又は-C(=O)-R

を表し、R

が、C
1-10
アルキル基、C
1-10
アルコキシル基、C
6-10
アリール基又はNHBnを表す、DD間の実線と破線からなる二重線が二重結合を表し、DがCHを表す、請求項1に記載の製造方法。
【請求項3】
AB間の実線と破線からなる二重線が単結合を表し、A及びBが、同一又は異なって、CR



を表し、R

及びR

が、同一又は異なって、水素原子又は-C(=O)-R

を表し、R

が、C
1-10
アルキル基、C
1-10
アルコキシル基、C
6-10
アリール基又はNHBnを表し、DD間の実線と破線からなる二重線が単結合を表し、DがCH

を表す、請求項1に記載の製造方法。
【請求項4】
AB間の実線と破線からなる二重線が単結合を表し、A及びBが、同一又は異なって、CR



を表し、R

及びR

が、同一又は異なって、水素原子又は-CR
10
(OH)-R
11
を表し、R
10
及びR
11
が、同一又は異なって、水素原子、C
1-10
アルキル基、C
6-10
アリール基又はヘテロアリール基を表し、DD間の実線と破線からなる二重線が単結合を表し、DがCH

を表す、請求項1に記載の製造方法。
【請求項5】
一般式(I)が下記一般式(IV):
JPEG
2024133705000023.jpg
40
83
(式中、R

~R
13
、X及びYは前記と同じものを表す)で表される化合物であり、
一般式(III)が下記一般式(V):
JPEG
2024133705000024.jpg
40
94
(式中、R

~R
15
、X及びYは前記と同じものを表す)で表されるモルヒナン誘導体である請求項1に記載の製造方法。
【請求項6】


が、メチル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基、ベンジル基又はアリル基である請求項1~5のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項7】


が、シクロプロピルメチル基である請求項1~5のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項8】


が、メチル基である請求項1~5のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項9】


が、ヒドロキシ基又は-OR
13
(R
13
はヒドロキシ保護基を表す)である請求項1~8のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項10】


が、-OR
13
であって、R
13
が、メチル基、ベンジル基又はtert-ブチルジメチルシリル基である請求項1~8のいずれか一項に記載の製造方法。
(【請求項11】以降は省略されています)

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、新規な銅触媒を用いて、モルヒナン誘導体のフェノール性水酸基をウルマンカップリングによりフェノールエーテル結合に変換する、ジアリールエーテル骨格を有するモルヒナン誘導体の製造方法に関する。
本願は、2020年8月28日に、日本に出願された特願2020-145073号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
続きを表示(約 1,100 文字)【背景技術】
【0002】
オピオイド受容体にはμ、δ、κの3種のサブタイプがあることが知られており、μ受容体に対して強い親和性を示すモルヒネは古くから鎮痛薬として使用されている。モルヒネの鎮痛作用は強力なものであるが、このμ受容体を介して、依存形成、呼吸抑制、便秘等の有害事象を引き起こすことも知られている。
一方、δ受容体を介した鎮痛作用も知られているが、δ受容体アゴニストはモルヒネで見られる有害事象には関与しないことが知られている。
従って、δ受容体に選択的なアゴニストはモルヒネよりも優れた鎮痛薬になる可能性があると考えられ、その創製に関する研究が盛んに行われている。しかしながら、治療又は予防薬としての承認を受けたδ受容体アゴニストは未だ存在しない。
【0003】
特許文献1及び特許文献2には、次式で示す優れたδ受容体アゴニスト活性を有する誘導体が開示されている。
【0004】
JPEG
2024133705000001.jpg
48
54
【0005】
これらの誘導体の製造においては多段階にわたる合成を必要としており、そのため1反応における収率や各反応により得られる目的化合物の純度が高いことが望まれる。
例えば、特許文献1の段落[0025]には、モルヒナン誘導体の4位フェノール体(b-1)へ、ウルマン反応によりフェニル基を導入して(m)とした後、4位の酸素官能基を除去し(n)へと導く手法が開示されている。
【0006】
JPEG
2024133705000002.jpg
29
156
【0007】
ここで、上記ウルマン反応では、モルヒナン誘導体にフェニル基を導入するにあたり、銅粉末(0価の銅)が使用されている。
【0008】
他方、非特許文献1には、モルヒナン誘導体に対してウルマン反応によりフェニル基を導入してジアリールエーテルを構築するにあたり、2価の銅(酢酸銅(II))を用いる方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0009】
特許文献1:国際公開第2013/035833号
特許文献2:国際公開第2016/148232号
【非特許文献】
【0010】
非特許文献1:Helvetica Chimica Acta 1990, 73(2), 326-336
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPatで参照する

関連特許

個人
炭化水素の製造方法
2か月前
三菱ケミカル株式会社
化合物
16日前
三菱ケミカル株式会社
化合物
24日前
長谷川香料株式会社
ロタンドンの製造方法
2か月前
東ソー株式会社
アミノオキシ基含有銀化合物
2か月前
ダイキン工業株式会社
表面処理剤
1か月前
東ソー株式会社
組換えFc結合性タンパク質抽出試薬
24日前
小野薬品工業株式会社
イミダゾール化合物の製造方法
17日前
東ソー株式会社
アデノ随伴ウイルス吸着剤の洗浄方法
2か月前
マナック株式会社
新規脱水縮合剤
1か月前
気相成長株式会社
膜形成材料、及び製造方法
2か月前
株式会社合同資源
α-ヨード置換カルボン酸
6日前
ダイキン工業株式会社
含フッ素化合物
23日前
ダイキン工業株式会社
含フッ素シラン化合物
1か月前
日油株式会社
オルガノアシロキシシラン組成物
6日前
公立大学法人福井県立大学
抗体又は抗体フラグメント
1か月前
日産化学株式会社
チエノウラシル化合物及び有害生物防除剤
1か月前
JNC株式会社
トランス脂環式ヒドロキシ化合物の製造方法
2か月前
ユニチカ株式会社
アミド基含有構造を有するビスマレイミド
12日前
株式会社半導体エネルギー研究所
有機化合物、発光デバイス
12日前
キヤノン株式会社
ピラゾール類の製造方法
1か月前
キヤノン株式会社
有機金属錯体及び有機発光素子
1か月前
日本化学工業株式会社
ホスホニウム塩の連続的製造方法
1か月前
帝人株式会社
環式ジアルコール化合物およびその製造方法
1か月前
住友精化株式会社
アミノシルセスキオキサン
5日前
日本ゼオン株式会社
異性体混合物の製造方法
1か月前
三菱ケミカル株式会社
アセタール化合物の製造方法
6日前
四国化成工業株式会社
リン化合物、その合成方法およびその利用
1か月前
旭化成株式会社
環状化合物の製造方法
1か月前
日本曹達株式会社
1-アルケニルエーテル化合物の製造方法
23日前
国立大学法人横浜国立大学
ギ酸の製造方法
1か月前
日本曹達株式会社
メチニルウレア化合物および有害生物防除剤
2か月前
川崎重工業株式会社
メタン製造システム
17日前
日立造船株式会社
生成装置及び生成方法
1か月前
大正製薬株式会社
MMP7阻害作用を有するペプチドコンジュゲート
2か月前
東ソー株式会社
色度改良したイソシアネート化合物、及びその製造方法
2か月前
続きを見る