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公開番号2024129851
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-09-30
出願番号2023039205
出願日2023-03-14
発明の名称光走査装置及び画像形成装置
出願人キヤノン株式会社
代理人個人,個人,個人,個人
主分類G02B 26/10 20060101AFI20240920BHJP(光学)
要約【課題】被走査面における照度が不均一となることを抑制することができる小型な光走査装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る光走査装置は、第1の光源からの第1の光束の偏光状態を変更する第1の微細構造が入射面及び出射面の少なくとも一方に形成されている第1の光学素子と、第1の光学素子を通過した第1の光束を偏向して第1の被走査面を主走査方向に走査する偏向器と、偏向器によって偏向された第1の光束を第1の被走査面に導光する第1の結像光学系とを備え、第1の微細構造は、それぞれ第1の方向に延在する複数の凸部が第1の方向に垂直な第2の方向に配列されて構成されており、第1の微細構造による複屈折の第1の方向と第2の方向との間の位相差をΔ1、第1の光束の波長をλ1としたとき、
1/20≦Δ11≦1/6
なる条件を満たすことを特徴とする。
【選択図】 図5
特許請求の範囲【請求項1】
第1の光源からの第1の光束の偏光状態を変更する第1の微細構造が入射面及び出射面の少なくとも一方に形成されている第1の光学素子と、
該第1の光学素子を通過した前記第1の光束を偏向して第1の被走査面を主走査方向に走査する偏向器と、
該偏向器によって偏向された前記第1の光束を前記第1の被走査面に導光する第1の結像光学系とを備え、
前記第1の微細構造は、それぞれ第1の方向に延在する複数の凸部が該第1の方向に垂直な第2の方向に配列されて構成されており、
前記第1の微細構造による複屈折の前記第1の方向と前記第2の方向との間の位相差をΔ

、前記第1の光束の波長をλ

としたとき、
1/20≦Δ

/λ

≦1/6
なる条件を満たすことを特徴とする光走査装置。
続きを表示(約 660 文字)【請求項2】
前記第1の光源から射出される前記第1の光束は、直線偏光であることを特徴とする請求項1に記載の光走査装置。
【請求項3】
前記第1の光学素子に入射する際の前記直線偏光の偏光方向と前記第1の方向との間の角度は、10゜以上であることを特徴とする請求項2に記載の光走査装置。
【請求項4】
前記偏向器に入射する際の前記第1の光束は、楕円偏光であることを特徴とする請求項1に記載の光走査装置。
【請求項5】
前記第1の光学素子は、前記第1の光束を平行光束に変換することを特徴とする請求項1に記載の光走査装置。
【請求項6】
前記入射面及び前記出射面のうち前記第1の微細構造が設けられた面は、平面であることを特徴とする請求項1に記載の光走査装置。
【請求項7】
前記偏向器に入射する前の前記第1の光束を直線偏光に変換する第2の光学素子を備えることを特徴とする請求項1に記載の光走査装置。
【請求項8】
前記第2の光学素子は、前記第1の光源と前記第1の光学素子との間に配置されていることを特徴とする請求項7に記載の光走査装置。
【請求項9】
前記入射面及び前記出射面は、互いに平行な平面であることを特徴とする請求項7に記載の光走査装置。
【請求項10】
前記第1及び第2の光学素子は、互いに接合されていることを特徴とする請求項7に記載の光走査装置。
(【請求項11】以降は省略されています)

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、光走査装置に関し、特にレーザービームプリンタ(LBP)やデジタル複写機、マルチファンクションプリンタ(MFP)等の画像形成装置に好適なものである。
続きを表示(約 1,700 文字)【背景技術】
【0002】
従来、光走査装置では被走査面の各像高を走査する光束の間において偏向器の偏向面や折り返しミラーの反射面への入射角度の違いに伴って当該偏向面や当該反射面の当該光束に対する反射率が異なってくることから、当該被走査面における当該光束による照度の不均一が発生することが知られている。
【0003】
特許文献1は、λ/2板を入射光学系に設けて偏向器に入射する際の光束の偏光方向を光軸に垂直な断面内において副走査方向から45゜傾けることによって当該偏向器の偏向面の当該光束に対する反射率の入射角度に応じた変化を低減することで、被走査面における当該光束による照度が不均一となることを抑制する光走査装置を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特開2000-267034号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
特許文献1に開示されている光走査装置では、入射光学系においてλ/2板を更に設けているために装置が大型化している。
そこで本発明は、被走査面における照度が不均一となることを抑制することができる小型な光走査装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明に係る光走査装置は、第1の光源からの第1の光束の偏光状態を変更する第1の微細構造が入射面及び出射面の少なくとも一方に形成されている第1の光学素子と、第1の光学素子を通過した第1の光束を偏向して第1の被走査面を主走査方向に走査する偏向器と、偏向器によって偏向された第1の光束を第1の被走査面に導光する第1の結像光学系とを備え、第1の微細構造は、それぞれ第1の方向に延在する複数の凸部が第1の方向に垂直な第2の方向に配列されて構成されており、第1の微細構造による複屈折の第1の方向と第2の方向との間の位相差をΔ

、第1の光束の波長をλ

としたとき、
1/20≦Δ

/λ

≦1/6
なる条件を満たすことを特徴とする。
【発明の効果】
【0007】
本発明によれば、被走査面における照度が不均一となることを抑制することができる小型な光走査装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0008】
第一実施形態に係る光走査装置の主走査断面内及び副走査断面内における展開図。
第一実施形態に係る光走査装置が備える偏向器の偏向面の反射率の入射角度依存性を示した図。
第一実施形態に係る光走査装置が備える走査光学系の副走査断面図。
第一実施形態に係る光走査装置が備える折り返しミラーの反射率の入射角度依存性を示した図。
第一実施形態に係る光走査装置が備えるコリメータレンズの模式的斜視図及び模式的一部拡大断面図。
検証装置の主走査断面内及び副走査断面内における展開図。
検証装置による被走査面上の各像高における光量の測定結果を示した図。
微細構造の構造軸角度を設定する方法を示す模式的正面図。
第二実施形態に係る光走査装置の主走査断面内及び副走査断面内における展開図。
第二実施形態に係る光走査装置が備える光学素子の模式的斜視図及び模式的一部拡大断面図。
実施形態に係るカラー画像形成装置の要部副走査断面図。
【発明を実施するための形態】
【0009】
以下に、本実施形態に係る光走査装置を添付の図面に基づいて詳細に説明する。なお以下に示す図面は、本実施形態を容易に理解できるようにするために実際とは異なる縮尺で描かれている場合がある。
【0010】
また以下の説明において、主走査方向とは、偏向器によって光束が偏向走査される方向である。副走査方向とは、偏向器の回転軸に平行な方向である。主走査断面とは、副走査方向に垂直な断面である。副走査断面とは、主走査方向に垂直な断面である。
(【0011】以降は省略されています)

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