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公開番号2024122867
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-09-09
出願番号2023222015
出願日2023-12-27
発明の名称マスクの洗浄方法及び洗浄液
出願人大日本印刷株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類C23C 14/04 20060101AFI20240902BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】有機材料の断片が再びマスクに付着することを抑制できる、マスクの洗浄方法及び洗浄液を提供する。
【解決手段】付着した有機材料を洗浄する混合洗浄液は、第1洗浄液及び第2洗浄液を含む。混合洗浄液における第1洗浄液の濃度が、70質量%未満である。第1洗浄液は、下記の式を満たす第1ハンセン溶解度パラメータδD1、δP1及びδH1を有する。
17.4≦δD1≦18.0
8.4≦δP1≦13.7
5.1≦δH1≦11.3
第2洗浄液は、第2ハンセン溶解度パラメータδD2、δP2及びδH2と、7.5以下の相互作用半径Rと、を有する。相互作用半径Rは、基準ハンセン溶解度パラメータδD0、δP0及びδH0との関係に基づいて下記の式で規定される。
R²=4(δD2-δD0)²+(δP2-δP0)²+(δH2-δH0)²
δD0=14.1、δP0=2.7、δH0=5.5
【選択図】図15
特許請求の範囲【請求項１】
マスクを洗浄する洗浄方法であって、
前記マスクに付着した有機材料を、混合洗浄液を用いて洗浄する洗浄工程を備え、
前記混合洗浄液は、第１洗浄液及び第２洗浄液を含み、
前記混合洗浄液における前記第１洗浄液の濃度が、７０質量％未満であり、
前記第１洗浄液は、下記の式を満たす第１ハンセン溶解度パラメータδＤ１、δＰ１及びδＨ１を有し、
１７.４≦δＤ１≦１８.０
８.４≦δＰ１≦１３.７
５.１≦δＨ１≦１１.３
前記第２洗浄液は、第２ハンセン溶解度パラメータδＤ２、δＰ２及びδＨ２と、７．５以下の相互作用半径Ｒと、を有し、
前記相互作用半径Ｒは、基準ハンセン溶解度パラメータδＤ０、δＰ０及びδＨ０との関係に基づいて下記の式で規定される、
Ｒ
２
＝４（δＤ２－δＤ０）
２
＋（δＰ２－δＰ０）
２
＋（δＨ２－δＨ０）
２
δＤ０＝１４．１、δＰ０＝２．７、δＨ０＝５．５
洗浄方法。
続きを表示（約 750 文字）【請求項２】
前記混合洗浄液における前記第１洗浄液の濃度が、１０質量％以上である、請求項１に記載の洗浄方法。
【請求項３】
前記混合洗浄液における前記第２洗浄液の濃度が、３０質量％以上である、請求項１に記載の洗浄方法。
【請求項４】
前記第２洗浄液は、酢酸エステル骨格を有する化合物を含む、請求項１～３のいずれか一項に記載の洗浄方法。
【請求項５】
前記第１洗浄液は、第１有機溶剤を含み、
前記第２洗浄液は、第２有機溶剤を含み、
前記混合洗浄液における前記第１有機溶剤の含有率及び前記第２有機溶剤の含有率の合計が、９５質量％以上である、請求項１～３のいずれか一項に記載の洗浄方法。
【請求項６】
前記混合洗浄液は、－２５℃以上２００℃以下の引火点を有する、請求項１～３のいずれか一項に記載の洗浄方法。
【請求項７】
前記混合洗浄液中の、１０μｍ以上の寸法を有する粒子の個数が０個／ｍｌである、請求項１～３のいずれか一項に記載の洗浄方法。
【請求項８】
前記洗浄工程の後、前記マスクを乾燥させる乾燥工程を備え、
前記乾燥工程は、前記混合洗浄液の沸点よりも低い沸点を有する置換液に前記マスクを接触させる置換工程を含む、請求項１～３のいずれか一項に記載の洗浄方法。
【請求項９】
前記置換液は、ハイドロフルオロエーテルを含む、請求項８に記載の洗浄方法。
【請求項１０】
前記第２洗浄液は、１１０℃以上の沸点を有し、
前記相互作用半径Ｒが５．０以上である、請求項１～３のいずれか一項に記載の洗浄方法。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示の実施形態は、マスクの洗浄方法及び混合洗浄液に関する。
続きを表示（約 1,400 文字）【背景技術】
【０００２】
近年、スマートフォンやタブレットＰＣ等の電子デバイスにおいて、高精細な表示装置が、市場から求められている。表示装置は、例えば、４００ｐｐｉ以上または８００ｐｐｉ以上等の素子密度を有する。
【０００３】
応答性の良さと、または／およびコントラストの高さと、を有するため、有機ＥＬ表示装置が注目されている。有機ＥＬ表示装置の素子を形成する方法として、素子を構成する材料を蒸着により基板に付着させる方法が知られている。例えば、まず、素子に対応するパターンで陽極が形成されている基板を準備する。続いて、マスクの貫通孔を介して有機材料を陽極の上に付着させ、陽極の上に有機層を形成する。続いて、有機層の上に陰極を形成する。マスクに付着した有機材料は、洗浄液を用いて洗浄される。洗浄液としては、ＮＭＰ（Ｎ－メチル－２－ピロリドン）が知られている。洗浄されたマスクは再利用される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特許第６８４９０６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ＮＭＰからなる洗浄液を用いてマスクに付着した有機材料を洗浄する場合、有機材料は、洗浄液に溶けるのではなく、有機材料の断片がマスクから剥離する。この場合、有機材料の断片が再びマスクに付着することが考えられる。
【０００６】
本開示の実施形態は、このような課題を効果的に解決し得るマスクの洗浄方法及び洗浄液を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示の実施形態は、以下の［１］～［１４］に関する。
［１］マスクを洗浄する洗浄方法であって、
前記マスクに付着した有機材料を、混合洗浄液を用いて洗浄する洗浄工程を備え、
前記混合洗浄液は、第１洗浄液及び第２洗浄液を含み、
前記混合洗浄液における前記第１洗浄液の濃度が、７０質量％未満であり、
前記第１洗浄液は、下記の式を満たす第１ハンセン溶解度パラメータδＤ１、δＰ１及びδＨ１を有し、
１７.４≦δＤ１≦１８.０
８.４≦δＰ１≦１３.７
５.１≦δＨ１≦１１.３
前記第２洗浄液は、第２ハンセン溶解度パラメータδＤ２、δＰ２及びδＨ２と、７．５以下の相互作用半径Ｒと、を有し、
前記相互作用半径Ｒは、基準ハンセン溶解度パラメータδＤ０、δＰ０及びδＨ０との関係に基づいて下記の式で規定される、
Ｒ
２
＝４（δＤ２－δＤ０）
２
＋（δＰ２－δＰ０）
２
＋（δＨ２－δＨ０）
２
δＤ０＝１４．１、δＰ０＝２．７、δＨ０＝５．５
洗浄方法。
【０００８】
［２］［１］に記載の洗浄方法において、前記混合洗浄液における前記第１洗浄液の濃度が、１０質量％以上であってもよい。
【０００９】
［３］［１］又は［２］に記載の洗浄方法において、前記混合洗浄液における前記第２洗浄液の濃度が、３０質量％以上であってもよい。
【００１０】
［４］［１］～［３］のいずれか１つに記載の洗浄方法において、前記第２洗浄液は、酢酸エステル骨格を有する化合物を含んでいてもよい。
（【００１１】以降は省略されています）

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