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公開番号2024121638
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-09-06
出願番号2023028844
出願日2023-02-27
発明の名称基板上の複数の領域の配列を求める方法、露光方法、露光装置、物品の製造方法、プログラム及び情報処理装置
出願人キヤノン株式会社
代理人弁理士法人大塚国際特許事務所
主分類G03F 9/00 20060101AFI20240830BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】基板上の領域の配列を高精度に求めるのに有利な技術を提供する。
【解決手段】基板上の複数の領域の配列を求める方法であって、前記基板上の複数の領域のうちのサンプル領域に割り当てられたマークを計測して位置計測データを取得する工程と、前記位置計測データから前記配列を推定するための回帰モデルを用いて、前記複数の領域のうちの前記サンプル領域を除いた非計測領域の位置を推定する工程と、を有し、前記回帰モデルは、ノンパラメトリックな回帰モデルである、ことを特徴とする方法を提供する。
【選択図】図3
特許請求の範囲【請求項１】
基板上の複数の領域の配列を求める方法であって、
前記基板上の複数の領域のうちのサンプル領域に割り当てられたマークを計測して位置計測データを取得する工程と、
前記位置計測データから前記配列を推定するための回帰モデルを用いて、前記複数の領域のうちの前記サンプル領域を除いた非計測領域の位置を推定する工程と、
を有し、
前記回帰モデルは、ノンパラメトリックな回帰モデルである、ことを特徴とする方法。
続きを表示（約 1,200 文字）【請求項２】
前記位置計測データ、及び、前記回帰モデルから推定した前記非計測領域の位置から前記配列を求める工程を更に有する、ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ノンパラメトリックな回帰モデルは、ガウス過程回帰モデルを含む、ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記ガウス過程回帰モデルにおけるカーネル関数及びハイパーパラメータは、機械学習によって決定する、ことを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記機械学習は、マルコフ連鎖モンテカルロ法、又は、勾配法を含む、ことを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記回帰モデルから推定した前記非計測領域の位置の分布の標準偏差が閾値を超えている場合に、前記非計測領域に割り当てられたマークを計測して位置計測データを取得する工程と、
前記サンプル領域の位置計測データ、及び、前記非計測領域の位置計測データから前記配列を求める工程と、
を更に有する、ことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項７】
原版を介して基板を露光する露光方法であって、
請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載の方法を用いて、基板上の複数の領域の配列を求める工程と、
前記工程で求められた配列に基づいて前記基板を位置決めしながら、前記複数の領域のそれぞれに前記原版のパターンを転写する工程と、
を有する、ことを特徴とする露光方法。
【請求項８】
原版を介して基板を露光する露光装置であって、
基板上の複数の領域の配列を求める処理部と、
前記処理部で求められた配列に基づいて、前記基板を位置決めするステージと、
を有し、
前記処理部は、
前記基板上の複数の領域のうちのサンプル領域に割り当てられたマークを計測して位置計測データを取得し、
前記位置計測データから前記配列を推定するための回帰モデルを用いて、前記複数の領域のうちの前記サンプル領域を除いた非計測領域の位置を推定し、
前記回帰モデルは、ノンパラメトリックな回帰モデルである、ことを特徴とする露光装置。
【請求項９】
前記処理部は、前記回帰モデルから推定した前記非計測領域の位置に関する情報を表示するユーザインタフェースを提供する、ことを特徴とする請求項８に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記ノンパラメトリックな回帰モデルは、ガウス過程回帰モデルを含み、
前記情報は、前記非計測領域の位置を示す情報と、前記回帰モデルから推定した前記非計測領域の位置の分布の標準偏差を示す情報と、を含む、
ことを特徴とする請求項９に記載の露光装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板上の複数の領域の配列を求める方法、露光方法、露光装置、物品の製造方法、プログラム及び情報処理装置に関する。
続きを表示（約 1,800 文字）【背景技術】
【０００２】
露光装置は、基板上に１０層以上のパターン（回路パターン）を重ね合わせて転写するが、各層間でのパターンの重ね合わせ精度が良好でない場合には、回路特性に不都合が生じることがある。このような場合、チップが所期の特性を満たさず、チップが不良品となり、歩留まりを低下させてしまう。従って、基板上において露光すべき複数の領域のそれぞれと原版のパターンとを精密に位置合わせ（アライメント）する必要がある。
【０００３】
露光装置では、基板上の各領域に配置されたアライメントマークを検出し、かかるアライメントマークの位置情報と原版のパターンの位置情報とに基づいて、基板上の各領域を原版のパターンに対してアライメントしている。理想的には、基板上の全ての領域に対してアライメントマークの検出を行うことで、最も高精度なアライメントが可能となるが、生産性の観点から現実的ではない。そこで、基板と原版とのアライメント方式としては、現在、グローバルアライメント方式が主流となっている（特許文献１参照）。
【０００４】
グローバルアライメント方式では、基板上の各領域の相対位置が領域の位置座標の関数モデルで表現できると想定し、基板上の複数（４～１６個）のサンプル領域のみに配置されたアライメントマークの位置を計測する。次いで、想定した関数モデル及びアライメントマークの位置の計測結果から回帰分析的な統計演算処理を用いて、関数モデルのパラメータを推定する。そして、パラメータ及び関数モデルを用いて、ステージ座標系における各領域の位置座標（基板上の領域の配列）を算出してアライメントを行う。グローバルアライメント方式では、一般的に、ステージ座標を変数とする多項式モデルが用いられ、ステージ座標の１次の多項式であるスケーリング、回転、一律オフセットなどが主に用いられている（特許文献２参照）。また、基板上の領域の配列の高次成分もパラメータとして考慮した回帰モデルを用いた技術も提案されている（特許文献３参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開昭６２－８４５１６号公報
特開平６－３４９７０５号公報
特許第３２３０２７１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
デバイスの微細化、高集積化に伴い、アライメント精度の改善が要求されているため、関数モデルの多項式次数もより高次成分を用いることで関数モデルの自由度を高める必要がある。しかしながら、関数モデルの自由度に対して基板内のアライメントマークの位置を計測すべき計測点が少ない場合、過学習（Ｏｖｅｒｆｉｔｔｉｎｇ）が起こるため、未計測領域の補正誤差が増大する。一方、過学習を抑制するために、アライメントマークの位置を計測すべき計測点を増やすと、計測時間が増加して生産性が低下する。これらは、トレードオフの関係にあるため、少ない計測点、且つ、高い自由度の関数モデルを用いて、高次成分を含む基板上の領域の配列を高精度に予測することができる技術が求められている。
【０００７】
本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、基板上の領域の配列を高精度に求めるのに有利な技術を提供することを例示的目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての方法は、基板上の複数の領域の配列を求める方法であって、前記基板上の複数の領域のうちのサンプル領域に割り当てられたマークを計測して位置計測データを取得する工程と、前記位置計測データから前記配列を推定するための回帰モデルを用いて、前記複数の領域のうちの前記サンプル領域を除いた非計測領域の位置を推定する工程と、を有し、前記回帰モデルは、ノンパラメトリックな回帰モデルである、ことを特徴とする。
【０００９】
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される実施形態によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、例えば、基板上の領域の配列を高精度に求めるのに有利な技術を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
（【００１１】以降は省略されています）

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