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公開番号2024118675
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-09-02
出願番号2023025090
出願日2023-02-21
発明の名称評価装置及び評価方法
出願人キオクシア株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類G01N 15/08 20060101AFI20240826BHJP(測定;試験)
要約【課題】泡を含む液体に対するフィルタの液中欠陥の捕集性能を評価する評価装置を提供する。
【解決手段】泡と、金属を含む第1粒子と、泡及び第1粒子と異なる第2粒子と、を含む液中欠陥を含む液体を内部に収容可能であり、透明であるカラムと、カラム内の液体に照射光を照射する照射部と、照射光により液中欠陥から放出された散乱光を撮像する撮像部と、撮像された散乱光から液中欠陥の拡散係数を求める解析部と、拡散係数を用いて、液中欠陥の粒子径と、液中欠陥の屈折率と、を算出する計算部と、屈折率を用いて、液中欠陥が、泡又は第2粒子か、第1粒子か、の判断を行う判断部と、を有する評価部と、液体をろ過するフィルタと、フィルタの出口と評価部を接続する第1配管と、を備える。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
泡と、金属を含む第１粒子と、前記泡及び前記第１粒子と異なる第２粒子と、を含む液中欠陥を含む液体を内部に収容可能であり、透明であるカラムと、
前記カラム内の前記液体に照射光を照射する照射部と、
前記照射光により前記液中欠陥から放出された散乱光を撮像する撮像部と、
撮像された前記散乱光から前記液中欠陥の拡散係数を求める解析部と、
前記拡散係数を用いて、前記液中欠陥の粒子径と、前記液中欠陥の屈折率と、を算出する計算部と、
前記屈折率を用いて、前記液中欠陥が、前記泡又は前記第２粒子か、前記第１粒子か、の判断を行う判断部と、
を有する評価部と、
前記液体をろ過するフィルタと、
前記フィルタの出口と前記評価部を接続する第１配管と、
を備える評価装置。
続きを表示（約 1,100 文字）【請求項２】
前記判断部は
前記液体の屈折率をn0としたとき、前記液中欠陥の前記屈折率nがn0+(n0-1)より大きい又は1より小さい場合に前記液中欠陥を前記第１粒子Ｍと判断し、前記液中欠陥の前記屈折率nが1以上又はn0+(n0-1)以下である場合に前記液中欠陥を前記泡又は前記第２粒子Ｐと判断する、
請求項１記載の評価装置。
【請求項３】
前記液体が貯留される貯槽と、
前記貯槽と前記フィルタの入口を接続する第２配管と、
前記第２配管に設けられ、前記液体を前記貯槽から前記フィルタに送液するポンプと、
前記評価部と前記貯槽を接続する第３配管と、
をさらに備える請求項１記載の評価装置。
【請求項４】
前記液体は、第四級アミンを含む薬液、第四級アミン及び界面活性剤を含む薬液、又は水及び界面活性剤を含む薬液である、
請求項１記載の評価装置。
【請求項５】
前記第四級アミンを含む薬液は、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液（ＴＭＡＨ）又はトリメチル－２－ヒドロキシエチルアンモニウムハイドロオキサイド水溶液である、
請求項４記載の評価装置。
【請求項６】
前記フィルタのポア径は１００ｎｍ以下である、
請求項１記載の評価装置。
【請求項７】
泡と、金属を含む第１粒子と、前記泡及び前記第１粒子と異なる第２粒子と、を含む液中欠陥を含む液体をフィルタによりろ過し、
前記フィルタによりろ過された前記液体を、透明であるカラムに送液し、
前記カラム内の前記液体に照射光を照射し、
前記照射により前記液中欠陥から放出された散乱光を撮像し、
撮像された前記散乱光から前記液中欠陥の拡散係数を求め、
前記拡散係数を用いて、前記液中欠陥の粒子径と、前記液中欠陥の屈折率と、を算出し、
前記屈折率を用いて、前記液中欠陥が、前記泡又は前記第２粒子か、前記第１粒子か、の判断を行う、
評価方法。
【請求項８】
前記液体の屈折率をn0としたとき、前記液中欠陥の前記屈折率nがn0+(n0-1)より大きい又は1より小さい場合に前記液中欠陥を前記第１粒子Ｍと判断し、前記液中欠陥の前記屈折率nが1以上又はn0+(n0-1)以下である場合に前記液中欠陥を前記泡又は前記第２粒子Ｐと判断する、
請求項７記載の評価方法。
【請求項９】
前記カラム内の前記液体を前記フィルタに送液する、
請求項７記載の評価方法。
【請求項１０】
前記フィルタのポア径は１００ｎｍ以下である、
請求項７記載の評価方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、評価装置及び評価方法に関する。
続きを表示（約 2,000 文字）【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの製造工程では、様々な液体（薬液）が用いられる。半導体デバイスの製造工程に用いられる液体には、泡、金属粒子、及びその他の粒子等の、液中欠陥が含まれている。かかる液中欠陥の存在は、半導体デバイスの微細加工を行う上で、デバイスの形状不良を引き起こす。そのため、半導体デバイスの歩留まりが低下してしまう。そこで、半導体製造装置に液体を送液する前に、液体用のフィルタを用いた液体のフィルタリングにより、液中欠陥を除去することが行われている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１３－３１８３５号公報
特許第６５４９７４７号公報
特許第６６８７９５１号公報
藤井秀司著表面技術５９（１），３３－３８，２００８「微粒子で安定化された泡」
Tabuchi Takuya, ”Real Time Measurement of Exact Size and Refractive Index of Particles in Liquid by Flow Particle Tracking Method”，IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing PP(99)1-1.
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
実施形態の目的は、泡を含む液体に対するフィルタの液中欠陥の捕集性能を評価する評価装置及び評価方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
実施形態の評価装置は、泡と、金属を含む第１粒子と、泡及び第１粒子と異なる第２粒子と、を含む液中欠陥を含む液体を内部に収容可能であり、透明であるカラムと、カラム内の液体に照射光を照射する照射部と、照射光により液中欠陥から放出された散乱光を撮像する撮像部と、撮像された散乱光から液中欠陥の拡散係数を求める解析部と、拡散係数を用いて、液中欠陥の粒子径と、液中欠陥の屈折率と、を算出する計算部と、屈折率を用いて、液中欠陥が、泡又は第２粒子か、第１粒子か、の判断を行う判断部と、を有する評価部と、液体をろ過するフィルタと、フィルタの出口と評価を接続する第１配管と、を備える。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
実施形態の評価装置の模式図である。
実施形態のフィルタユニットの模式図である。
実施形態の評価部の模式図である。
実施形態の評価装置を用いて行った、液中欠陥を含む液体の評価の一例である。
実施形態の評価装置を用いて行った、液中欠陥を含む液体の評価の他の一例である。
実施形態の評価装置を用いて行った、液中欠陥を含む液体の評価の更に他の一例である。
実施例１に関する、実施形態の評価装置を用いて行った、液中欠陥数の、フィルタ通液量依存性の結果である。
実施例２に関する、実施形態の評価装置を用いて行った、液中欠陥数の、フィルタ通液量依存性の結果である。
実施例３に関する、実施形態の評価装置を用いて行った、液中欠陥数の、フィルタ通液量依存性の結果である。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下、図面を用いて実施形態を説明する。なお、図面中、同一又は類似の箇所には、同一又は類似の符号を付している。
【０００８】
（実施形態）
実施形態の評価装置は、泡と、金属を含む第１粒子と、泡及び第１粒子と異なる第２粒子と、を含む液中欠陥を含む液体を内部に収容可能であり、透明であるカラムと、カラム内の液体に照射光を照射する照射部と、照射光により液中欠陥から放出された散乱光を撮像する撮像部と、撮像された散乱光から液中欠陥の拡散係数を求める解析部と、拡散係数を用いて、液中欠陥の粒子径と、液中欠陥の屈折率と、を算出する計算部と、屈折率を用いて、液中欠陥が、泡又は第２粒子か、第１粒子か、の判断を行う判断部と、を有する評価部と、液体をろ過するフィルタと、フィルタの出口と評価を接続する第１配管と、を備える。
【０００９】
実施形態の評価方法は、泡と、金属を含む第１粒子と、泡及び第１粒子と異なる第２粒子と、を含む液中欠陥を含む液体をフィルタによりろ過し、フィルタによりろ過された液体を、透明であるカラムに送液し、カラム内の液体に照射光を照射し、照射により液中欠陥から放出された散乱光を撮像し、撮像された散乱光から液中欠陥の拡散係数を求め、拡散係数を用いて、液中欠陥の粒子径と、液中欠陥の屈折率と、を算出し、屈折率を用いて、液中欠陥が、泡又は第２粒子か、第１粒子か、の判断を行う。
【００１０】
図１は、実施形態の評価装置１００の模式図である。
（【００１１】以降は省略されています）

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