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公開番号2024083444
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-06-21
出願番号2024060178,2019226437
出願日2024-04-03,2019-12-16
発明の名称基板保持装置および基板処理装置
出願人株式会社荏原製作所
代理人個人,個人,個人
主分類H01L 21/683 20060101AFI20240614BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】ウェーハなどの基板を円運動させ、かつ基板をその軸心を中心として回転させながら、該基板を安定して保持することができる基板保持装置を提供する。
【解決手段】基板保持装置10は、複数のローラー11a,11bと、複数のローラー11a,11bを回転させる複数の電動機29a,29bと、中心軸線CPの周りに配列された複数の偏心軸13a,13bと、アクチュエータ18を備える。複数の偏心軸13a,13bは、一つ可動軸13bおよび複数の基準軸13aを含み、アクチュエータ18は、一つの可動台21を介して一つの可動軸13bに連結されている。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
基板を円運動させながら、前記基板をその軸心を中心として回転させる基板保持装置であって、
前記基板の周縁部に接触可能な複数のローラーと、
前記複数のローラーを回転させる複数の電動機と、
予め定められた中心軸線の周りに配列された複数の偏心軸と、
ピストンを有するアクチュエータと、
前記ピストンに接続された一つの可動台を備え、
前記複数の偏心軸は、複数の第１軸部と、前記複数の第１軸部からそれぞれ偏心した複数の第２軸部を有しており、
前記複数のローラーは前記複数の第２軸部にそれぞれ固定され、前記複数の第１軸部は前記複数の電動機にそれぞれ連結されており、
前記複数の偏心軸は、一つの可動軸および複数の基準軸を含み、
前記一つの可動台は、前記一つの可動軸を回転可能に支持する軸受と、前記ピストンに固定された連結部材を有し、
前記アクチュエータは、前記一つの可動台を介して前記一つの可動軸に連結されており、
前記アクチュエータは、前記一つの可動軸および前記一つの可動台を一体に、前記複数の基準軸に近づく方向および前記複数の基準軸から遠ざかる方向に移動させるように構成されており、
前記アクチュエータは、
ピストンと、
前記ピストンから離れて配置されたハウジングと、
前記ピストンと前記ハウジングとの間に圧力室を形成する隔壁膜とを備えている、基板保持装置。
続きを表示（約 420 文字）【請求項２】
前記複数の偏心軸は、前記複数の第１軸部と前記複数の第２軸部とを接続する複数の中間軸部をさらに有しており、
前記複数の第１軸部は前記複数の中間軸部にそれぞれ固定され、前記複数の第２軸部は前記複数の中間軸部にそれぞれ固定されている、請求項１に記載の基板保持装置。
【請求項３】
前記複数の電動機を同じ速度かつ同じ位相で回転させる動作制御部をさらに備えている、請求項１または２に記載の基板保持装置。
【請求項４】
前記複数の基準軸に近づく方向および前記複数の基準軸から遠ざかる方向は、前記中心軸線に向かう方向および前記中心軸線から遠ざかる方向である、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の基板保持装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の基板保持装置と、
処理具を基板の第１の面に接触させて該第１の面を処理する処理ヘッドとを備えている、基板処理装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウェーハなどの基板を保持して回転させる基板保持装置に関する。また、本発明は、そのような基板保持装置を備えた基板処理装置に関する。
続きを表示（約 2,200 文字）【背景技術】
【０００２】
近年、メモリー回路、ロジック回路、イメージセンサ（例えばＣＭＯＳセンサー）などのデバイスは、より高集積化されつつある。これらのデバイスを形成する工程においては、微粒子や塵埃などの異物がデバイスに付着することがある。デバイスに付着した異物は、配線間の短絡や回路の不具合を引き起こしてしまう。したがって、デバイスの信頼性を向上させるために、デバイスが形成されたウェーハを洗浄して、ウェーハ上の異物を除去することが必要とされる。
【０００３】
ウェーハの裏面（ベアシリコン面）にも、上述したような微粒子や粉塵などの異物が付着することがある。このような異物がウェーハの裏面に付着すると、ウェーハが露光装置のステージ基準面から離間したりウェーハ表面がステージ基準面に対して傾き、結果として、パターニングのずれや焦点距離のずれが生じることとなる。このような問題を防止するために、ウェーハの裏面に付着した異物を除去することが必要とされる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０１９－８３２２４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
最近では、基板の表面の全体をより効率的に処理することができる装置への要請が高まっている。そこで、複数の偏心軸に連結された複数のローラーによって基板の周縁部を把持し、偏心軸自体の位置は静止したままで各偏心軸をその軸心を中心に回転させることで基板を円運動させながら、基板をその軸心を中心に回転させる基板保持装置が提案されている（例えば特許文献１）。
【０００６】
このような基板保持装置を使用した基板処理装置では、ローラーが処理具に接触することなく、処理具は、基板の表面の最外部を含む表面全体を処理することができる。また、このような円運動と基板の軸心を中心とした回転との組み合わせは、基板の表面上の各点での速度を上げることができ、結果として、基板の処理の効率を向上させることができる。
【０００７】
このような基板保持装置では、複数の偏心軸の位相を互いに合わせる必要がある。しかしながら、複数の偏心軸の位相を正確に合わせることは難しく、位相ずれにより基板の回転中に、偏心軸に振動が発生することがある。複数の偏心軸のうちの１つに振動が発生した場合、これら偏心軸を支持する共通の支持プレートを介して上記振動が他の偏心軸に伝搬し、基板の保持が不安定になることがあった。
【０００８】
そこで、本発明は、ウェーハなどの基板を円運動させ、かつ基板をその軸心を中心として回転させながら、該基板を安定して保持することができる基板保持装置を提供することを目的とする。また、本発明は、そのような基板保持装置を用いて基板の表面を処理するための基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
一態様では、基板を円運動させながら、前記基板をその軸心を中心として回転させる基板保持装置であって、前記基板の周縁部に接触可能な複数のローラーと、前記複数のローラーを回転させる複数の電動機と、予め定められた中心軸線の周りに配列された複数の偏心軸と、ピストンを有するアクチュエータと、前記ピストンに接続された一つの可動台を備え、前記複数の偏心軸は、複数の第１軸部と、前記複数の第１軸部からそれぞれ偏心した複数の第２軸部を有しており、前記複数のローラーは前記複数の第２軸部にそれぞれ固定され、前記複数の第１軸部は前記複数の電動機にそれぞれ連結されており、前記複数の偏心軸は、一つの可動軸および複数の基準軸を含み、前記一つの可動台は、前記一つの可動軸を回転可能に支持する軸受と、前記ピストンに固定された連結部材を有し、前記アクチュエータは、前記一つの可動台を介して前記一つの可動軸に連結されており、前記アクチュエータは、前記一つの可動軸および前記一つの可動台を一体に、前記複数の基準軸に近づく方向および前記複数の基準軸から遠ざかる方向に移動させるように構成されており、前記アクチュエータは、ピストンと、前記ピストンから離れて配置されたハウジングと、前記ピストンと前記ハウジングとの間に圧力室を形成する隔壁膜とを備えている、基板保持装置が提供される。
【００１０】
一態様では、基板を円運動させながら、前記基板をその軸心を中心として回転させる基板保持装置であって、前記基板の周縁部に接触可能な複数のローラーと、前記複数のローラーを回転させる複数の電動機と、予め定められた中心軸線の周りに配列された複数の偏心軸と、複数のアクチュエータを備え、前記複数の偏心軸は、複数の第１軸部と、前記複数の第１軸部からそれぞれ偏心した複数の第２軸部を有しており、前記複数のローラーは前記複数の第２軸部にそれぞれ固定され、前記複数の第１軸部は前記複数の電動機にそれぞれ連結されており、前記複数の偏心軸は、複数の可動軸および複数の基準軸から構成されており、前記複数のアクチュエータは、前記複数の可動軸にそれぞれ連結されており、前記複数のアクチュエータは、前記複数の可動軸を、前記複数の基準軸に近づく方向および前記複数の基準軸から遠ざかる方向に移動させるように構成されている、基板保持装置が提供される。
（【００１１】以降は省略されています）

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