TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
公開番号2024075946
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-06-05
出願番号2022187231
出願日2022-11-24
発明の名称酸化グラフェン及びガス分離膜
出願人トヨタ自動車株式会社,国立大学法人信州大学
代理人弁理士法人平木国際特許事務所
主分類C01B 32/198 20170101AFI20240529BHJP(無機化学)
要約【課題】本開示の目的は、特定の酸化グラフェン及び該酸化グラフェンを用いたガス分離膜を提供することである。
【解決手段】本実施形態の一つは、下記要件(2)を満たす酸化グラフェンである。
(2)X線回折法によって測定される層間距離(d001)が0.88~0.94nmである。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項1】
下記要件(2)を満たす酸化グラフェン。
(2)X線回折法によって測定される層間距離(d
001
)が0.88~0.94nmである。
続きを表示(約 220 文字)【請求項2】
下記要件(1)を満たす、請求項1に記載の酸化グラフェン。
(1)π‐π

遷移に伴う紫外線吸収波長のピークトップ値が、229.5~231.2nmである。
【請求項3】
請求項1又は2に記載の酸化グラフェンを用いて作製されたガス分離膜。
【請求項4】
前記ガス分離膜が、さらにゼオライト微結晶体を用いて作製されたゼオライトガス分離膜である、請求項3に記載のガス分離膜。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本開示は、酸化グラフェン及びガス分離膜に関する。
続きを表示(約 1,200 文字)【背景技術】
【0002】
従来から酸化グラフェンに関して様々な検討が行われている。例えば、特許文献1には、極性溶媒を溶媒とし、分散用添加剤を含有せず、少なくとも1か月間、波長330nmの可視光吸収が完全分散状態の50%以上である酸化グラフェン分散液が開示されており、このような酸化グラフェン分散液を製造する方法として、次の(1)~(3)の工程を含む酸化グラフェン分散液の調製方法が開示されている。
【0003】
(1)水中の酸化グラファイトを単層剥離処理して、単層酸化グラフェンを含む酸化グラファイト水分散液を得る工程。
(2)前記酸化グラファイト水分散液を遠心処理して、沈殿物を除去、上澄みを回収し、単層酸化グラフェン水分散液を得る工程。
(3)単層酸化グラフェン水分散液を水又は有機溶媒で溶媒置換処理を行う溶媒置換工程。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特開2020-45266号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
特許文献1では、分散用添加剤を用いることなく高い安定性を有する酸化グラフェン分散液や、その調製方法が開示されている。しかしながら、酸化グラフェンの常温又は加熱下における経時変化については、従来十分な検討が行われていなかった。
【0006】
そこで、本開示は、特定の酸化グラフェン及び該酸化グラフェンを用いたガス分離膜を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究を行ったところ、従来知られていなかった特定の酸化グラフェンを見出した。また、該酸化グラフェンを用いて作製したガス分離膜は、酸素と比較して窒素の透過性に優れることを見出し、本開示に至った。
【0008】
本実施形態の態様例は、以下の通りに記載される。
【0009】
[1] 下記要件(2)を満たす酸化グラフェン。
(2)X線回折法によって測定される層間距離(d
001
)が0.88~0.94nmである。
[2] 下記要件(1)を満たす、[1]に記載の酸化グラフェン。
(1)π‐π

遷移に伴う紫外線吸収波長のピークトップ値が、229.5~231.2nmである。
[3] [1]又は[2]に記載の酸化グラフェンを用いて作製されたガス分離膜。
[4] 前記ガス分離膜が、さらにゼオライト微結晶体を用いて作製されたゼオライトガス分離膜である、[3]に記載のガス分離膜。
【発明の効果】
【0010】
本開示により、従来知られていなかった特定の酸化グラフェン及び該酸化グラフェンを用いて作製されたガス分離膜を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
(【0011】以降は省略されています)

特許ウォッチbot のツイートを見る
この特許をJ-PlatPatで参照する
Flag Counter

関連特許

個人
水素製造装置
22日前
三井金属鉱業株式会社
混合組成物
1か月前
三菱重工業株式会社
可燃性ガス生成システム
29日前
東ソー株式会社
鉄含有FER型ゼオライト及びその製造方法
22日前
個人
温水素水およびその作製装置およびその作製方法
29日前
株式会社デンソー
二酸化炭素供給システム
23日前
個人
積層体の製造方法、電子部品の製造方法および積層体
2日前
国立大学法人広島大学
水素の製造方法
3日前
三菱重工業株式会社
炭化水素の直接分解方法
15日前
住友金属鉱山株式会社
硫酸ニッケル水溶液の製造方法
8日前
中谷産業株式会社
カーボンナノチューブ凝集体及びその製造方法
15日前
DIC株式会社
ガーネット型酸化物固体電解質
2日前
株式会社TMEIC
オゾンガス発生装置及び冷媒流量調整方法
17日前
東邦チタニウム株式会社
四塩化チタンの製造方法
16日前
ニダイキ株式会社
硫化金属化合物担持体、およびその製造方法
15日前
三浦工業株式会社
アンモニア分解ガス発生装置
16日前
三浦工業株式会社
アンモニア分解ガス発生装置
16日前
三浦工業株式会社
アンモニア分解ガス発生装置
16日前
三菱重工業株式会社
原料ガスの加熱器、および加熱器の異常診断装置
23日前
国立研究開発法人産業技術総合研究所
メソポーラスシリカ含有成形体とその製造方法
9日前
三菱ケミカル株式会社
ゼオライトの製造方法
22日前
株式会社豊田中央研究所
硝酸水溶液の製造装置および硝酸水溶液の製造方法
2日前
信越化学工業株式会社
コロイダルシリカ及びその製造方法
9日前
公立大学法人大阪
硫化リチウム-亜硫酸リチウム複合材料
2日前
出光興産株式会社
炭酸カルシウムの製造方法及び製造システム
9日前
東京窯業株式会社
アンモニア分解装置及びその製造方法
8日前
信越化学工業株式会社
コロイダルシリカ及びその製造方法
9日前
DOWAホールディングス株式会社
マンガン含有パイロクロア酸化物粉体の製造方法
16日前
デンカ株式会社
窒化ホウ素含有粉末、放熱フィラー、及び、樹脂組成物
2日前
信越化学工業株式会社
コロイダルシリカ及びその製造方法
9日前
コニカミノルタ株式会社
オゾン発生装置及びオゾン送風装置
2日前
セトラスホールディングス株式会社
リン酸カルシウム
1か月前
水ing株式会社
リン化合物の洗浄方法及びリン化合物の洗浄装置
1か月前
日本ゼオン株式会社
カーボンナノチューブ分散液およびその製造方法
3日前
パナソニックIPマネジメント株式会社
半導体ナノ粒子の製造装置および製造方法
1か月前
セトラスホールディングス株式会社
酸化マグネシウムの製造方法
23日前
続きを見る