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公開番号2024071553
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-05-24
出願番号2024049197
出願日2024-03-26
発明の名称高純度一酸化窒素の製造方法
出願人住友精化株式会社
代理人
主分類C01B 21/24 20060101AFI20240517BHJP(無機化学)
要約【課題】高純度の一酸化窒素を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】
一酸化窒素を含む粗ガスとアルカリ水溶液とを接触させて、前記粗ガスに含まれる不純物を除去した処理ガスを得るアルカリ洗浄工程と、
水を吸着する吸着剤が充填された吸着塔に、前記処理ガスを導入して、前記処理ガスに含まれる水を、吸着剤に吸着させて除去する乾燥工程と、を含む高純度一酸化窒素の製造方法。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
一酸化窒素を含む粗ガスとアルカリ水溶液とを接触させて、前記粗ガスに含まれる不純物を除去した処理ガスを得るアルカリ洗浄工程と、
水を吸着する吸着剤が充填された吸着塔に、前記処理ガスを導入して、前記処理ガスに含まれる水を、吸着剤に吸着させて除去する乾燥工程と、を含む高純度一酸化窒素の製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、高純度一酸化窒素の製造方法に関する。
続きを表示（約 1,400 文字）【背景技術】
【０００２】
一酸化窒素は、例えば、半導体プロセスにおいてシリコン表面に酸窒化膜を形成するための材料ガスとして用いられる場合がある。一酸化窒素は、アンモニア酸化法、硫酸第一鉄と亜硝酸ナトリウムとを反応させる方法、硝酸と亜硫酸ガスとを反応させる方法など様々な方法で生成され得るが、一般に、生成した一酸化窒素を含む粗ガスには、二酸化窒素、亜酸化窒素が副生成物として含まれ、この他に原料、副原料由来の水、二酸化炭素、二酸化硫黄などが混入している。半導体プロセスにおいて、酸窒化膜を形成するうえでは、原料ガスとしての一酸化窒素については、より高純度であることが望まれる。また、近年問題視されている地球温暖化への対策として、原料使用量の削減やエネルギー原単位の改善など、効率的な一酸化窒素の製造方法が望まれる。
高純度の一酸化窒素を得るための手法のうち比較的簡易な方法として、活性アルミナ、ゼオライト、シリカゲルなどの無機系吸着剤に、所定条件で一酸化窒素を含む粗ガスを通流する手法が知られている。無機系吸着剤を利用するこのような手法は、例えば、下記の特許文献１に記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
米国特許第４１５３４２９号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、従来の一酸化窒素の製造方法では、不純物が多く含まれており、半導体等の高純度を要求される用途の原料としては未だ十分とはいえなかった。従って、本発明は、高純度の一酸化窒素を効率よく製造する方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、一酸化窒素を含む粗ガスとアルカリ水溶液とを接触させて、前記粗ガスに含まれる不純物を除去した処理ガスを得るアルカリ洗浄工程と、
水を吸着する吸着剤が充填された吸着塔に、前記処理ガスを導入して、前記処理ガスに含まれる水を、吸着剤に吸着させて除去する乾燥工程と、を含む高純度一酸化窒素の製造方法である。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、高純度の一酸化窒素を効率よく製造する方法が提供される。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。
【０００８】
本発明に係る高純度一酸化窒素の製造方法は、一酸化窒素を含む粗ガスとアルカリ水溶液とを接触させて、前記粗ガスに含まれる不純物を除去した処理ガスを得るアルカリ洗浄工程と、水を吸着する吸着剤が充填された吸着塔に、前記処理ガスを導入して、前記処理ガスに含まれる水を、吸着剤に吸着させて除去する乾燥工程と、を含む。
【０００９】
（アルカリ洗浄工程）
アルカリ洗浄工程は、反応で得られた前記粗ガスをアルカリ水溶液に接触させ、前記粗ガスに同伴する酸性のミストや不純物などを除去する。
【００１０】
アルカリ洗浄工程に用いられるアルカリは特に制限されるものではないが、例えば水酸化ナトリウムや水酸化カリウムが挙げられる。
（【００１１】以降は省略されています）

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