特許ウォッチ

公開番号2024067983
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-05-17
出願番号2022178450
出願日2022-11-07
発明の名称流体紫外光処理装置
出願人日亜化学工業株式会社
代理人個人,個人
主分類C02F 1/32 20230101AFI20240510BHJP(水,廃水,下水または汚泥の処理)
要約【課題】光源部の周辺にある水分を除湿可能で小型の流体紫外光処理装置を提供すること。
【解決手段】流体紫外光処理装置は、流路管を流れる流体に、紫外光を照射する流体紫外光処理装置であって、基板と、前記基板上に配置され、紫外光を発する光源部と、前記光源部と前記流路管との間に配置され、前記光源部からの紫外光を透過する透光部材と、前記基板に固定され、水分を吸着する吸着物質を含む吸着部材を保持する保持部材と、を備え、前記保持部材は、前記光源部と前記保持部材により保持された前記吸着部材との間に位置し、前記光源部からの紫外光を前記透光部材へ反射する反射面を有する。
【選択図】図3
特許請求の範囲【請求項１】
流路管を流れる流体に、紫外光を照射する流体紫外光処理装置であって、
基板と、
前記基板上に配置され、紫外光を発する光源部と、
前記光源部と前記流路管との間に配置され、前記光源部からの紫外光を透過する透光部材と、
前記基板に固定され、水分を吸着する吸着物質を含む吸着部材を保持する保持部材と、を備え、
前記保持部材は、前記光源部と前記保持部材により保持された前記吸着部材との間に位置し、前記光源部からの紫外光を前記透光部材へ反射する反射面を有する、流体紫外光処理装置。
続きを表示（約 610 文字）【請求項２】
前記保持部材に保持された前記吸着部材の上端は、前記保持部材の上端よりも下方に位置する、請求項１に記載の流体紫外光処理装置。
【請求項３】
前記吸着部材は、前記透光部材の法線方向から見た場合に、前記透光部材と重なるように配置される、請求項１または請求項２に記載の流体紫外光処理装置。
【請求項４】
前記反射面は、前記光源部の周囲に配置され、
前記吸着部材は、前記反射面の周囲に配置される、請求項１または請求項２に記載の流体紫外光処理装置。
【請求項５】
前記吸着部材は、前記反射面の周囲に繋がって配置される、請求項４に記載の流体紫外光処理装置。
【請求項６】
前記保持部材は、前記透光部材の法線方向から見た場合に、前記保持部材の外縁よりも内側で前記吸着部材と重ならない位置に取付孔を有し、
前記保持部材は、前記取付孔に挿入された固定部材によって前記基板に固定される、請求項１または請求項２に記載の流体紫外光処理装置。
【請求項７】
前記吸着部材は、前記吸着物質を含有する樹脂である、請求項１または請求項２に記載の流体紫外光処理装置。
【請求項８】
前記吸着物質は、シリカゲル、活性炭および珪酸塩鉱物の少なくとも１つから構成される多孔質材料を含む、請求項１または請求項２に記載の流体紫外光処理装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、流体紫外光処理装置に関する。
続きを表示（約 1,600 文字）【背景技術】
【０００２】
例えば、特許文献１には、ＬＥＤ（ＬｉｇｈｔＥｍｉｔｔｉｎｇＤｉｏｄｅ）等の発光素子と、二次リフレクタと、を有し、発光素子が収められた空間部の乾燥状態を保持するために、吸湿剤をさらに有する流体紫外光処理装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０２２－０５５０５０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本開示は、光源部の周辺にある水分を吸湿可能で小型の流体紫外光処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本開示の一態様によれば、流体紫外光処理装置は、流路管を流れる流体に、紫外光を照射する流体紫外光処理装置であって、基板と、前記基板上に配置され、紫外光を発する光源部と、前記光源部と前記流路管との間に配置され、前記光源部からの紫外光を透過する透光部材と、前記基板に固定され、水分を吸着する吸着物質を含む吸着部材を保持する保持部材と、を備え、前記保持部材は、前記光源部と前記保持部材により保持された前記吸着部材との間に位置し、前記光源部からの紫外光を前記透光部材へ反射する反射面を有する。
【発明の効果】
【０００６】
本開示によれば、光源部の周辺にある水分を吸湿可能で小型の流体紫外光処理装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
流路管内の流体に紫外光を照射可能に配置された実施形態に係る流体紫外光処理装置を示す模式的断面斜視図である。
図１における流体紫外光処理装置近傍の模式的断面図である。
図１における流体紫外光処理装置の模式的拡大断面図である。
図３における光源部が配置された基板を示す模式的平面図である。
図３における基板に固定された保持部材を示す模式的斜視図である。
図５における保持部材および基板の模式的分解斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
本開示の実施形態に係る流体紫外光処理装置について図面を参照しながら詳細に説明する。但し、以下に示す形態は、本実施形態の技術思想を具現化するための流体紫外光処理装置を例示するものであって、以下に限定するものではない。また、実施形態に記載されている構成部の寸法、材質、形状、その相対的配置等は、特定的な記載がない限り、本開示の範囲をそれのみに限定する趣旨ではなく、単なる説明例にすぎない。なお、各図面が示す部材の大きさ、位置関係等は、説明を明確にするため誇張していることがある。また、以下の説明において、同一の名称、符号については同一もしくは同質の部材を示しており詳細説明を適宜省略する。断面図として、切断面のみを示す端面図を用いる場合がある。
【０００９】
各図面において、方向表現として、Ｘ軸、Ｙ軸およびＺ軸を有する直交座標を用いる。Ｘ軸、Ｙ軸およびＺ軸は互いに直交する。本明細書では、実施形態に係る流体紫外光処理装置が有する透光部材の法線方向に沿う軸をＺ軸とする。該透光部材の法線は、実施形態に係る流体紫外光処理装置が有する光源部の発光面に直交する。該透光部材の法線方向に直交する軸をＸ軸およびＹ軸とする。
【００１０】
Ｘ軸に沿うＸ方向で矢印が向いている方向を＋Ｘ方向または＋Ｘ側、＋Ｘ方向の反対方向を－Ｘ方向または－Ｘ側と表記する。Ｙ軸に沿うＹ方向で矢印が向いている方向を＋Ｙ方向または＋Ｙ側、＋Ｙ方向の反対方向を－Ｙ方向または－Ｙ側と表記する。Ｚ軸に沿うＺ方向で矢印が向いている方向を＋Ｚ方向または＋Ｚ側、＋Ｚ方向の反対方向を－Ｚ方向または－Ｚ側と表記する。但し、これらの方向表現は、本開示の実施形態の方向を限定するものではない。
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許