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公開番号2024044024
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-04-02
出願番号2022149326
出願日2022-09-20
発明の名称シリカ粒子、シリカ粒子の製造方法、シリカゾル及びシリカゾルの製造方法
出願人三菱ケミカル株式会社
代理人弁理士法人栄光事務所
主分類C01B 33/18 20060101AFI20240326BHJP(無機化学)
要約【課題】高屈折率を有するシリカ粒子及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】金属含有率が5ppm以下であり、化学構造中にSi-CH₃単位を含む、シリカ粒子。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
金属含有率が５ｐｐｍ以下であり、化学構造中にＳｉ－ＣＨ
３
単位を含む、シリカ粒子。
続きを表示（約 690 文字）【請求項２】
炭素含有率が０．０１質量％～１質量％である、請求項１に記載のシリカ粒子。
【請求項３】
シリカ粒子がアモルファスである、請求項１に記載のシリカ粒子。
【請求項４】
ＢＥＴ法により測定した平均１次粒子径が５ｎｍ～１００ｎｍである、請求項１に記載のシリカ粒子。
【請求項５】
ＤＬＳ法により測定した平均２次粒子径が１０ｎｍ～２００ｎｍである、請求項１に記載のシリカ粒子。
【請求項６】
メチルトリアルコキシシラン及びテトラアルコキシシランを、加水分解反応及び縮合反応させる工程を含む、シリカ粒子の製造方法。
【請求項７】
前記加水分解反応及び縮合反応させる工程が、アルカリ触媒を含む液（Ａ）中に、メチルトリアルコキシシラン及びテトラアルコキシシランを含む液（Ｂ）及びアルカリ触媒を含む液（Ｃ）を添加し、加水分解反応及び縮合反応させる工程である、請求項６に記載のシリカ粒子の製造方法。
【請求項８】
前記メチルトリアルコキシシラン及びテトラアルコキシシランを含む液（Ｂ）におけるメチルトリアルコキシシランの含有率が、メチルトリアルコキシシラン及びテトラアルコキシシランの合計１００質量％中、０．０５質量％～５質量％である、請求項７に記載のシリカ粒子の製造方法。
【請求項９】
請求項１～５のいずれか１項に記載のシリカ粒子を含む、シリカゾル。
【請求項１０】
請求項６～８のいずれか１項に記載のシリカ粒子の製造方法を含む、シリカゾルの製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、シリカ粒子、シリカ粒子の製造方法、シリカゾル及びシリカゾルの製造方法に関する。
続きを表示（約 1,000 文字）【背景技術】
【０００２】
シリカ膜は、高屈折率、透明性、電気絶縁性等の特性を有しており、幅広く産業上で利用されている。特に、高屈折率の特性を利用した分野では、反射防止膜、光導波路、レンズ等があり、電子機器ディスプレイ、自動車パネル、照明用灯具、太陽光利用装置、カメラレンズ等に実用化が検討されている。シリカ膜の特性の１つである屈折率は、それを形成するためのシリカ粒子の屈折率に大きく依存するため、その制御は極めて重要である。
【０００３】
シリカ粒子の特性を所望のものとするために、これまで多くの検討がなされてきた。例えば、特許文献１～２には、粒子径が一定の範囲にあるシリカ粒子及びその製造方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２００５－０６０２１７号公報
特開２０２１－１２３５２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１～２には、シリカ粒子の屈折率やその制御方法に関して何ら開示されておらず、シリカ粒子の屈折率を制御する有効な手段は明らかでなかった。
【０００６】
本発明は、このような課題を鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、高屈折率を有するシリカ粒子及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
従来、高屈折率を有するシリカ粒子とするための指針が開示されていなかった。しかしながら、本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、金属含有率が所定の範囲であり、かつ、化学構造中にＳｉ－ＣＨ
３
単位を含むシリカ粒子とすることにより、高屈折率を有するシリカ粒子が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。更に、本発明者らは、メチルトリアルコキシシラン及びテトラアルコキシシランを原料として用いることで、高屈折率を有するシリカ粒子が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００８】
本発明の要旨は、以下のとおりである。
【０００９】
本発明の態様１は、
金属含有率が５ｐｐｍ以下であり、化学構造中にＳｉ－ＣＨ
３
単位を含む、シリカ粒子である。
【００１０】
本発明の態様２は、
炭素含有率が０．０１質量％～１質量％である、態様１に記載のシリカ粒子である。
（【００１１】以降は省略されています）

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