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公開番号2024044024
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-04-02
出願番号2022149326
出願日2022-09-20
発明の名称シリカ粒子、シリカ粒子の製造方法、シリカゾル及びシリカゾルの製造方法
出願人三菱ケミカル株式会社
代理人弁理士法人栄光事務所
主分類C01B 33/18 20060101AFI20240326BHJP(無機化学)
要約【課題】高屈折率を有するシリカ粒子及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】金属含有率が5ppm以下であり、化学構造中にSi-CH3単位を含む、シリカ粒子。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項1】
金属含有率が5ppm以下であり、化学構造中にSi-CH

単位を含む、シリカ粒子。
続きを表示(約 690 文字)【請求項2】
炭素含有率が0.01質量%~1質量%である、請求項1に記載のシリカ粒子。
【請求項3】
シリカ粒子がアモルファスである、請求項1に記載のシリカ粒子。
【請求項4】
BET法により測定した平均1次粒子径が5nm~100nmである、請求項1に記載のシリカ粒子。
【請求項5】
DLS法により測定した平均2次粒子径が10nm~200nmである、請求項1に記載のシリカ粒子。
【請求項6】
メチルトリアルコキシシラン及びテトラアルコキシシランを、加水分解反応及び縮合反応させる工程を含む、シリカ粒子の製造方法。
【請求項7】
前記加水分解反応及び縮合反応させる工程が、アルカリ触媒を含む液(A)中に、メチルトリアルコキシシラン及びテトラアルコキシシランを含む液(B)及びアルカリ触媒を含む液(C)を添加し、加水分解反応及び縮合反応させる工程である、請求項6に記載のシリカ粒子の製造方法。
【請求項8】
前記メチルトリアルコキシシラン及びテトラアルコキシシランを含む液(B)におけるメチルトリアルコキシシランの含有率が、メチルトリアルコキシシラン及びテトラアルコキシシランの合計100質量%中、0.05質量%~5質量%である、請求項7に記載のシリカ粒子の製造方法。
【請求項9】
請求項1~5のいずれか1項に記載のシリカ粒子を含む、シリカゾル。
【請求項10】
請求項6~8のいずれか1項に記載のシリカ粒子の製造方法を含む、シリカゾルの製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、シリカ粒子、シリカ粒子の製造方法、シリカゾル及びシリカゾルの製造方法に関する。
続きを表示(約 1,000 文字)【背景技術】
【0002】
シリカ膜は、高屈折率、透明性、電気絶縁性等の特性を有しており、幅広く産業上で利用されている。特に、高屈折率の特性を利用した分野では、反射防止膜、光導波路、レンズ等があり、電子機器ディスプレイ、自動車パネル、照明用灯具、太陽光利用装置、カメラレンズ等に実用化が検討されている。シリカ膜の特性の1つである屈折率は、それを形成するためのシリカ粒子の屈折率に大きく依存するため、その制御は極めて重要である。
【0003】
シリカ粒子の特性を所望のものとするために、これまで多くの検討がなされてきた。例えば、特許文献1~2には、粒子径が一定の範囲にあるシリカ粒子及びその製造方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特開2005-060217号公報
特開2021-123527号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかしながら、特許文献1~2には、シリカ粒子の屈折率やその制御方法に関して何ら開示されておらず、シリカ粒子の屈折率を制御する有効な手段は明らかでなかった。
【0006】
本発明は、このような課題を鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、高屈折率を有するシリカ粒子及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0007】
従来、高屈折率を有するシリカ粒子とするための指針が開示されていなかった。しかしながら、本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、金属含有率が所定の範囲であり、かつ、化学構造中にSi-CH

単位を含むシリカ粒子とすることにより、高屈折率を有するシリカ粒子が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。更に、本発明者らは、メチルトリアルコキシシラン及びテトラアルコキシシランを原料として用いることで、高屈折率を有するシリカ粒子が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0008】
本発明の要旨は、以下のとおりである。
【0009】
本発明の態様1は、
金属含有率が5ppm以下であり、化学構造中にSi-CH

単位を含む、シリカ粒子である。
【0010】
本発明の態様2は、
炭素含有率が0.01質量%~1質量%である、態様1に記載のシリカ粒子である。
(【0011】以降は省略されています)

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