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公開番号2024015581
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-02-06
出願番号2022117728
出願日2022-07-25
発明の名称半導体用洗浄剤組成物
出願人株式会社日本触媒
代理人
主分類H01L 21/304 20060101AFI20240130BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】基板上に残存する金属残渣であるセリアに対し、高い除去性を発現する、半導体用洗浄剤組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】重合体とpH調整剤を含む半導体用洗浄剤組成物であって、該重合体の重量平均分子量は4100以上であり、該重合体に含まれるアクリル酸に由来する構造単位が42質量%以上であり、該pH調整剤に水酸化アンモニウムを含む、pHが7以上である、半導体用洗浄剤組成物である。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
重合体とｐＨ調整剤を含む半導体用洗浄剤組成物であって、
該重合体の重量平均分子量は４１００以上であり、
該重合体に含まれるアクリル酸に由来する構造単位が４２質量％以上であり、
該ｐＨ調整剤に水酸化アンモニウムを含む、ｐＨが７以上である、半導体用洗浄剤組成物。
続きを表示（約 630 文字）【請求項２】
前記重合体の重量平均分子量が２９５００以下である請求項１に記載の半導体用洗浄剤組成物。
【請求項３】
下記一般式（１）及び／または一般式（２）である化合物を含む、請求項１又は２に記載の半導体用洗浄剤組成物。
TIFF
2024015581000007.tif
28
71
（式（１）中、Ｒ
１
、Ｒ
２
およびＲ
３
は、同一又は異なって、水素原子、又は、アルキル基を表す。Ｒ
４
及びＲ
５
は、同一又は異なって、アルキレン基を表す。ｘ及びｙは、同一又は異なって、０～５０の整数を表す。（ｘ＋ｙ）は１以上の整数である。）
TIFF
2024015581000008.tif
27
144
（式（２）中、Ｒ
６
、Ｒ
７
、Ｒ
８
及びＲ
９
は、同一又は異なって、水素原子、又は、アルキル基を表す。Ｒ
１０
、Ｒ
１１
、Ｒ
１２
、Ｒ
１３
及びＲ
１４
は、同一又は異なって、アルキレン基、又は、アルキニレン基を表す。ｘ及びｙは、同一又は異なって、０～５０の整数を表す。（ｘ＋ｙ）は１以上の整数である。）

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体用洗浄剤組成物に関する。
続きを表示（約 2,900 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、半導体製造プロセスにおいて、半導体素子の微細化や高集積化に伴い、基板表面の平坦化がおこなわれる。平坦化工程では、基板表面に、砥粒や研磨屑などの金属残渣が残存するために、それらを除去するために洗浄剤組成物を用いた洗浄がおこなわれている。例えば、特許文献１には、特定のポリカルボン酸を含有する洗浄剤組成物が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開平１１－１８１４９４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記の通り、半導体用の洗浄剤組成物では、基板に残存する金属残渣の除去について、改善の余地があった。特に、セリア（酸化セリウム：ＣｅＯ
２
）粒子を含む研磨剤を用いた場合、セリア砥粒がウエハ上に残存しやすい傾向にあることから、従来の半導体用洗浄剤組成物ではセリア粒子の除去能力が不足しており、ウエハ上に残存する金属残渣を除去する必要があった。
【０００５】
よって、本発明は、重合体とｐＨ調整剤を含む半導体用洗浄剤組成物であって、該重合体の重量平均分子量は４１００以上であり、該重合体に含まれるアクリル酸に由来する構造単位が４２質量％以上であり、該ｐＨ調整剤に水酸化アンモニウムを含む、ｐＨが７以上である、半導体用洗浄剤組成物である。
【発明の効果】
【０００６】
本開示の半導体用洗浄剤組成物は、基板上に残存する金属残渣のセリア粒子に高い除去性を発現することできる。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下、本発明を詳細に説明する。なお、以下において記載する本発明の個々の好ましい形態を２つ以上組み合わせたものもまた、本発明の好ましい形態である。
［半導体用洗浄剤組成物］
＜重合体＞
本開示の半導体用洗浄剤組成物には、アクリル酸に由来する構造単位を有する重合体を含む。本開示のアクリル酸に由来する構造単位とは、アクリル酸が重合して形成される構造と同じ構造を有する構造単位を言い、通常は単量体に含まれる、炭素炭素不飽和二重結合の少なくとも１つが、炭素炭素単結合に置き換わった構造である。なお、単量体に由来する構造単位とは、実際に単量体が重合することにより形成された構造単位である必要は無く、単量体が重合して形成される構造と同じ構造であれば、単量体が重合する以外の方法で形成された構造単位であっても、単量体に由来する構造単位に含まれる。アクリル酸、ＣＨ
２
＝ＣＨ（－ＣＯＯＨ）について、アクリル酸に由来する構造単位は、－ＣＨ
２
－ＣＨ（－ＣＯＯＨ）－、で表すことができる。
【０００８】
本開示の重合体に含まれる、アクリル酸に由来する構造単位は、重合体総量に対して、４２質量％以上含むことが好ましく、より好ましくは、４５質量％以上であり、さらに好ましくは５０質量％である。一方、１００質量％以下であることが好ましく、より好ましくは９５質量％以下であり、さらに好ましくは８５質量％以下である。
【０００９】
（その他の単量体に由来する構造単位）
本開示の重合体には、上記アクリル酸に由来する構造単位以外の単量体に由来する構造単位（以下、「その他の単量体に由来する構造単位」ともいう）を１種または２種以上含んでいても良い。本開示のその他の単量体に由来する構造単位とは、単量体が重合して形成される構造と同じ構造を有する構造単位を言い、通常は単量体に含まれる、炭素炭素不飽和二重結合の少なくとも１つが、炭素炭素単結合に置き換わった構造である。なお、単量体に由来する構造単位とは、実際に単量体が重合することにより形成された構造単位である必要は無く、単量体が重合して形成される構造と同じ構造であれば、単量体が重合する以外の方法で形成された構造単位であっても、単量体に由来する構造単位に含まれる。
【００１０】
本開示のその他の単量体としては、特に限定されないが、メタクリル酸、α－ヒドロキシアクリル酸、α－ヒドロキシメチルアクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、クロトン酸、２－メチレングルタル酸等の不飽和カルボン酸類；２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、α－ヒドロキシメチルエチル（メタ）アクリレート等の水酸基含有アルキル（メタ）アクリレート類；（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ラウリル等の（メタ）アクリル酸のアルキル基のエステルであるアルキル（メタ）アクリレート類；ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート及びその４級化物等のアミノ基含有アクリレート；（メタ）アクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、イソプロピルアクリルアミド等のアミド基含有単量体類；酢酸ビニル等のビニルエステル類；エチレン、プロピレン等のアルケン類；スチレン等の芳香族ビニル系単量体類；マレイミド、フェニルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド等のマレイミド誘導体；（メタ）アクリロニトリル等のニトリル基含有ビニル系単量体類；（メタ）アクロレイン等のアルデヒド基含有ビニル系単量体類；メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル類；塩化ビニル、塩化ビニリデン、アリルアルコール、ビニルピロリドン等のその他の官能基含有単量体類；ジエチレングリコール（メタ）アクリレート、トリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコール（メタ）アクリレート等のポリエチレングリコール（メタ）アクリレート；エトキシ－ジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシ－トリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル－ジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシ－ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシ－ジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシ－ジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシ－ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等のアルコキシポリアルキレングリコール（メタ）アクリレート；ビニルアルコール、（メタ）アリルアルコール、イソプレノール等の不飽和アルコールにアルキレンオキシドが１～３００モル付加した構造を有する単量体等のポリアルキレングリコール鎖含有単量体；３－アリルオキシ－２－ヒドロキシプロパンスルホン酸、２－アクリルアミド－２－メチルプロパンスルホン酸、スチレンスルホン酸、ビニルスルホン酸等のスルホン酸基を有する単量体およびその塩等が挙げられる。
（【００１１】以降は省略されています）

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