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公開番号2023129746
公報種別公開特許公報(A)
公開日2023-09-15
出願番号2023082026,2021150016
出願日2023-05-18,2009-09-10
発明の名称表示装置
出願人株式会社半導体エネルギー研究所
代理人
主分類H01L 27/06 20060101AFI20230908BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】酸化物半導体を用いて、保護回路として適した構造を有し、薄膜の剥がれに起因する保護回路の不良を防止する表示装置を提供する。
【解決手段】保護回路は、ゲート電極15を被覆するゲート絶縁層37と、ゲート絶縁層37上においてゲート電極15と端部が重畳し、第2酸化物半導体層40と導電層41が積層された一対の第1配線層38及び第2配線層39と、少なくともゲート電極15と重畳しゲート絶縁層37及び該第1配線層38及び該第2配線層39における導電層41の側面部及び上面部の一部と第2酸化物半導体層40の側面部と接する第1酸化物半導体層36と、を有する非線形素子30aを用いる。ゲート絶縁層37上において物性の異なる酸化物半導体層同士の接合を形成することで、ショットキー接合に比べて安定動作をさせることが可能となり、接合リークが低減し、非線形素子30aの特性を向上させることができる。
【選択図】図5
特許請求の範囲【請求項1】
画素部及び保護回路を有する表示装置であって、
前記保護回路は、基板上面に接する第1の導電層と、
前記基板上面に接する第2の導電層と、
前記第1の導電層上及び前記第2の導電層上の第1の絶縁層と、
前記第1の絶縁層上の第1の酸化物半導体層と、
前記第1の絶縁層上の第2の酸化物半導体層と、
前記第1の絶縁層上の第3の導電層と、
前記第1の絶縁層上の第4の導電層と、を有し、
前記第1の導電層は、第1のトランジスタのゲート電極として機能する領域を有し、
前記第2の導電層は、第2のトランジスタのゲート電極として機能する領域を有し、
前記第1の酸化物半導体層は、前記第1のトランジスタのチャネル形成領域を有し、
前記第2の酸化物半導体層は、前記第2のトランジスタのチャネル形成領域を有し、
前記第3の導電層は、前記第1のトランジスタのソース電極及びドレイン電極の一方として機能する領域と、前記第2のトランジスタのソース電極及びドレイン電極の一方として機能する領域とを有し、
前記第3の導電層は、前記第2の導電層と電気的に接続され、
前記第4の導電層は、前記第1のトランジスタのソース電極及びドレイン電極の他方として機能する領域と、前記第2のトランジスタのソース電極及びドレイン電極の他方として機能する領域とを有し、
前記第4の導電層は、前記第1の導電層と電気的に接続され、
前記第1の導電層と、前記第3の導電層とは、交差する領域を有し、且つ前記第1の導電層と前記第3の導電層とが交差する領域は、前記第1の酸化物半導体層との重なりを有さず、
前記第3の導電層は、第1の方向に延在する領域を有し、
前記第2の導電層は、前記第1の方向に延在する領域を有し、
前記第4の導電層は、前記第1の方向に延在する領域を有し、
前記第1の導電層は、前記第1の方向に延在する第1の領域と、前記第1の方向と交差する第2の方向に延在する第2の領域とを有し、
前記第1の導電層の第2の領域は、前記第4の導電層との重なりを有さない、表示装置。
続きを表示(約 1,000 文字)【請求項2】
画素部及び保護回路を有する表示装置であって、
前記保護回路は、基板上面に接する第1の導電層と、
前記基板上面に接する第2の導電層と、
前記第1の導電層上及び前記第2の導電層上の第1の絶縁層と、
前記第1の絶縁層上の第1の酸化物半導体層と、
前記第1の絶縁層上の第2の酸化物半導体層と、
前記第1の絶縁層上の第3の導電層と、
前記第1の絶縁層上の第4の導電層と、を有し、
前記第1の導電層は、第1のトランジスタのゲート電極として機能する領域を有し、
前記第2の導電層は、第2のトランジスタのゲート電極として機能する領域を有し、
前記第1の酸化物半導体層は、前記第1のトランジスタのチャネル形成領域を有し、
前記第2の酸化物半導体層は、前記第2のトランジスタのチャネル形成領域を有し、
前記第3の導電層は、前記第1のトランジスタのソース電極及びドレイン電極の一方として機能する領域と、前記第2のトランジスタのソース電極及びドレイン電極の一方として機能する領域とを有し、
前記第3の導電層は、前記第2の導電層と電気的に接続され、
前記第4の導電層は、前記第1のトランジスタのソース電極及びドレイン電極の他方として機能する領域と、前記第2のトランジスタのソース電極及びドレイン電極の他方として機能する領域とを有し、
前記第4の導電層は、前記第1の導電層と電気的に接続され、
前記第1の導電層と、前記第3の導電層とは、交差する領域を有し、且つ前記第1の導電層と前記第3の導電層とが交差する領域は、前記第1の酸化物半導体層との重なりを有さず、
前記第3の導電層は、第1の方向に延在する領域を有し、
前記第2の導電層は、前記第1の方向に延在する領域を有し、
前記第4の導電層は、前記第1の方向に延在する領域を有し、
前記第1の導電層は、前記第1の方向に延在する第1の領域と、前記第1の方向と交差する第2の方向に延在する第2の領域とを有し、
前記第1の導電層の第1の領域は、前記第4の導電層との重なりを有し、且つ前記第1の導電層の第2の領域は、前記第4の導電層との重なりを有さない、表示装置。
【請求項3】
請求項1又は2において、
前記保護回路は、前記画素部の信号線と電気的に接続される、表示装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、酸化物半導体を用いる表示装置に関する。
続きを表示(約 1,800 文字)【背景技術】
【0002】
液晶表示装置に代表されるように、ガラス基板等の平板に形成される薄膜トランジスタは
、アモルファスシリコン、多結晶シリコンによって作製されている。アモルファスシリコ
ンを用いた薄膜トランジスタは、電界効果移動度が低いもののガラス基板の大面積化に対
応することができ、一方、多結晶シリコンを用いた薄膜トランジスタは電界効果移動度は
高いものの、レーザアニール等の結晶化工程が必要であり、ガラス基板の大面積化には必
ずしも適応しないといった特性を有している。
【0003】
これに対し、酸化物半導体を用いて薄膜トランジスタを作製し、電子デバイスや光デバイ
スに応用する技術が注目されている。例えば、酸化物半導体膜として酸化亜鉛(ZnO)
や、In-Ga-Zn-O系酸化物半導体を用いて薄膜トランジスタを作製し、画像表示
装置のスイッチング素子などに用いる技術が特許文献1及び特許文献2で開示されている

【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特開2007-123861号公報
特開2007-96055号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
酸化物半導体をチャネル形成領域とする薄膜トランジスタは、アモルファスシリコンを用
いた薄膜トランジスタよりも動作速度が速く、多結晶シリコンを用いた薄膜トランジスタ
よりも製造工程が簡単であるといった特性を有している。すなわち、酸化物半導体を用い
ることによって、300℃以下の低温であっても、電界効果移動度が高い薄膜トランジス
タを作製することが可能である。
【0006】
動作特性に優れ低温で製造可能な酸化物半導体を用いた表示装置の特性を活かすには、適
切な構成を備えた保護回路等が必要となる。また、酸化物半導体を用いた表示装置の信頼
性を保証することが重要となってくる。
【0007】
本発明の一態様は、保護回路として適した構造を提供することを目的の一とする。
【0008】
本発明の一態様は、酸化物半導体の他、絶縁膜及び導電膜を積層して作製される各種用途
の表示装置において、薄膜の剥がれに起因する不良を防止することを目的の一とする。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明の一態様は、酸化物半導体を用いて構成される非線形素子で保護回路が形成された
表示装置である。この非線形素子は酸素の含有量が異なる酸化物半導体を組み合わせて構
成されている。
【0010】
本発明の例示的な一態様は、絶縁表面を有する基板上に走査線と信号線が交差して設けら
れ、画素電極がマトリクス状に配列する画素部と、該画素部の外側領域に酸化物半導体で
形成された非線形素子を有する表示装置である。画素部は、第1酸化物半導体層にチャネ
ル形成領域が形成される薄膜トランジスタを有する。画素部の薄膜トランジスタは、走査
線と接続するゲート電極と、信号線と接続し第1酸化物半導体層に接する第1配線層と、
画素電極と接続し第1酸化物半導体層に接する第2配線層とを有する。基板の周辺部に配
設される信号入力端子と画素部の間には非線形素子が設けられている。非線形素子は、ゲ
ート電極及び該ゲート電極を被覆するゲート絶縁層と、ゲート絶縁層上においてゲート電
極と端部が重畳し、第2酸化物半導体層と導電層が積層された一対の第1配線層及び第2
配線層と、少なくともゲート電極と重畳しゲート絶縁層及び該第1配線層及び該第2配線
層における導電層の側面部及び上面部の一部と第2酸化物半導体層の側面部と接する第1
酸化物半導体層とを有している。非線形素子のゲート電極は走査線又は信号線と接続され
、非線形素子の第1配線層又は第2配線層が、ゲート電極の電位が第1配線層又は第2配
線層に印加されるように第3配線層によってゲート電極に接続されている。
(【0011】以降は省略されています)

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