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公開番号2023129720
公報種別公開特許公報(A)
公開日2023-09-14
出願番号2023124437,2019171513
出願日2023-07-31,2019-09-20
発明の名称基板処理装置
出願人株式会社SCREENホールディングス
代理人個人,個人,個人,個人,個人
主分類H01L 21/677 20060101AFI20230907BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】基板を適切に搬送できる基板処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】基板処理装置1は、キャリア載置部3と搬送機構4と制御部9を備える。キャリア載置部3はキャリアCを載置する。キャリアCは、上下方向Zに並ぶ複数の棚22を備える。棚22はそれぞれ、1枚の基板Wを水平姿勢で載置する。搬送機構4は、キャリア載置部3に載置されるキャリアCに基板Wを搬送する。制御部9は、搬送機構4を制御する。搬送機構4は、ハンド33とハンド駆動部34を備える。ハンド33は、基板Wを支持する。判読動部34は、ハンド33を移動する。制御部9は、搬送機構4が棚22から取る基板Wまたは搬送機構4が棚22に置く基板Wの形状に応じて、上下方向Zに隣り合う2つの棚22の間にハンド33を挿入するときのハンド33の高さ位置HAを変える。
【選択図】図30
特許請求の範囲【請求項１】
基板処理装置であって、
載置部と、
前記載置部に基板を搬送する搬送機構と、
前記搬送機構を制御する制御部と、
を備え、
前記載置部は、
上下方向に並ぶ複数の棚と、
を備え、
前記棚はそれぞれ、１枚の基板を水平姿勢で載置し、
前記搬送機構は、
基板を支持するハンドと、ここで、前記ハンドは吸引部を備え、前記吸引部は、基板の第１面に沿って気体を流し、基板と接触することなく基板を吸引し、
前記ハンドを移動するハンド駆動部と、
前記吸引部に供給する気体の流量を調整する吸引調整部と、
を備え、
前記制御部は、前記搬送機構が前記棚から取る基板の形状および前記搬送機構が前記棚に置く基板の形状の少なくともいずれかに応じて、前記吸引部に供給される気体の流量を変える
基板処理装置。
続きを表示（約 1,500 文字）【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記制御部は、前記搬送機構が前記棚から取る基板の主部の厚みおよび前記搬送機構が前記棚に置く基板の主部の厚みの少なくともいずれかに応じて、前記吸引部に供給される気体の流量を変え、
前記主部は、基板の周縁部の内側に位置する
基板処理装置。
【請求項３】
請求項２に記載の基板処理装置において、
前記搬送機構が前記棚から取る基板または前記搬送機構が前記棚に置く基板の前記主部の厚みが大きくなるにしたがって、前記制御部は、前記吸引部に供給される気体の流量を大きくする
基板処理装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載の基板処理装置において、
基板は、
基板の周縁部の内側に位置する基板の主部が基板の前記周縁部よりも凹むことによって形成される凹部を有し、かつ、ガラス製の保護プレートを有しない第１基板と、
前記凹部を有しない第２基板と、
を含み、
前記搬送機構が前記棚から取る基板または前記搬送機構が前記棚に置く基板が前記第１基板であるという情報に基づき、前記制御部は、前記吸引調整部によって、前記吸引部に供給される気体の流量を、第１流量に調整し、
前記搬送機構が前記棚から取る基板または前記搬送機構が前記棚に置く基板が第２基板であるという情報に基づき、前記制御部は、前記吸引調整部によって、前記吸引部に供給される気体の流量を、前記第１流量よりも大きな第２流量に調整する
基板処理装置。
【請求項５】
請求項１から３のいずれかに記載の基板処理装置において、
基板は、
基板の周縁部の内側に位置する基板の主部が基板の前記周縁部よりも凹むことによって形成される凹部を有し、かつ、ガラス製の保護プレートを有しない第１基板と、
前記凹部を有し、かつ、ガラス製の保護プレートを有する第３基板と、
含み、
前記搬送機構が前記棚から取る基板または前記搬送機構が前記棚に置く基板が前記第１基板であるという情報に基づき、前記制御部は、前記吸引調整部によって、前記吸引部に供給される気体の流量を、第１流量に調整し、
前記搬送機構が前記棚から取る基板または前記搬送機構が前記棚に置く基板が前記第３基板であるという情報に基づき、前記制御部は、前記吸引調整部によって、前記第１流量より大きい第３流量に調整する
基板処理装置。
【請求項６】
請求項１から５のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記吸引部は、前記基板の上面に沿って気体を流すことによって前記基板を上方に吸引する
基板処理装置。
【請求項７】
請求項６に記載の基板処理装置において、
前記ハンドは、
ベース部と、
前記ベース部に支持され、前記吸引部に吸引される基板の下方に配置され、基板の下面および基板の端縁の少なくともいずれかを受けることができる第１受け部と、
前記ベース部に支持され、前記吸引部に吸引される基板の下方に配置され、基板の前記下面および基板の前記端縁の少なくともいずれかを受けることができる第２受け部と、
前記第２受け部を前記ベース部に対して移動させることによって、前記第１受け部に前記第２受け部を接近させ、かつ、前記第１受け部から前記第２受け部を離反させる受け部駆動部と、
を備えている
基板処理装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
この発明は、基板に処理を行う基板処理装置に関する。基板は、例えば、半導体ウエハ、液晶ディスプレイ用基板、有機ＥＬ(Electroluminescence)用基板、ＦＰＤ(Flat Panel Display)用基板、光ディスプレイ用基板、磁気ディスク用基板、光ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、太陽電池用基板である。
続きを表示（約 1,900 文字）【背景技術】
【０００２】
特許文献１は、基板処理装置を開示する。以下では、特許文献１に記載される符号を、括弧書きで表記する。基板処理装置（１）は、ロードポート（１６）と基板搬送装置（１８）と検査装置を備える。ロードポート（１６）はカセット（Ｃ）を収納する。カセット（Ｃ）は、複数のウエハ（Ｗ）を収納する。検査装置は、基板（Ｗ）を載置するメインチャック（１３）と、メインチャック（１３）の上方に設けられたブローブカード（１４）を備える。基板搬送装置（１８）は、ベルヌーイの原理に基づいて、基板（Ｗ）を保持する。基板搬送装置（１８）は、ロードポート（１６）に収納されるカセット（Ｃ）と、メインチャック（１３）の間で、基板（Ｗ）を搬送する。
【０００３】
基板搬送装置（１８）は、ピンセット（１７）と吸着手段（１７１）を備える。吸着手段（１７１）は、ピンセット（１７）の下面に設置される。吸着手段（１７１）は、高圧空気源と連通している。高圧空気源は、吸着手段（１７１）に高圧空気を供給する。吸着手段（１７１）が基板（Ｗ）の上方に位置するとき、吸着手段（１７１）から、吸着手段（１７１）と基板（Ｗ）の上面との隙間を通じて、高圧空気が流出する。これにより、吸着手段（１７１）は、基板（Ｗ）の上面を保持する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２００８－２７０６２６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年、基板は、薄膜化および大口径化している。基板の厚みが薄く、かつ、基板の径が大きくなると、基板の撓み量が著しく大きくなる。このため、従来の基板搬送装置では、カセットに対して基板を適切に搬送し難いことがある。
【０００６】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、基板を適切に搬送できる基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。すなわち、本発明は、基板処理装置であって、
キャリアを載置するキャリア載置部と、
前記キャリア載置部に載置されるキャリアに基板を搬送する搬送機構と、
前記搬送機構を制御する制御部と、
を備え、
前記キャリアは、
上下方向に並ぶ複数の棚と、
を備え、
前記棚はそれぞれ、１枚の基板を水平姿勢で載置し、
前記搬送機構は、
基板を支持するハンドと、
前記ハンドを移動するハンド駆動部と、
を備え、
前記制御部は、前記搬送機構が前記棚から取る基板または前記搬送機構が前記棚に置く基板の形状に応じて、上下方向に隣り合う２つの前記棚の間に前記ハンドを挿入するときの前記ハンドの高さ位置を変える
基板処理装置である。
【０００８】
基板処理装置は、搬送機構とキャリア載置部と制御部を備える。搬送機構は、キャリア載置部に載置されるキャリアに基板を搬送する。キャリアは、上下方向に並ぶ複数の棚を備える。制御部は、搬送機構が棚から取る基板または搬送機構が棚に置く基板の形状に応じて、上下方向に隣り合う２つの棚の間にハンドを挿入するときのハンドの高さ位置を変える。よって、基板の形状に関わらず、ハンドは、上下方向に隣り合う２つの棚の間に、適切に進入できる。したがって、搬送機構はキャリアに基板を適切に搬送できる。
【０００９】
以上のとおり、本基板処理装置１は、基板を適切に搬送できる。
【００１０】
本発明は、基板処理装置であって、
載置部と、
前記載置部に基板を搬送する搬送機構と、
前記搬送機構を制御する制御部と、
を備え、
前記載置部は、
上下方向に並ぶ複数の棚と、
を備え、
前記棚はそれぞれ、１枚の基板を水平姿勢で載置し、
前記搬送機構は、
基板を支持するハンドと、
前記ハンドを移動するハンド駆動部と、
を備え、
前記制御部は、前記搬送機構が前記棚から取る基板または前記搬送機構が前記棚に置く基板の形状に応じて、上下方向に隣り合う２つの前記棚の間に前記ハンドを挿入するときの前記ハンドの高さ位置を変える
基板処理装置である。
（【００１１】以降は省略されています）

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