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公開番号2023075679
公報種別公開特許公報(A)
公開日2023-05-31
出願番号2021188731
出願日2021-11-19
発明の名称露光装置、及び物品の製造方法
出願人キヤノン株式会社
代理人個人,個人
主分類G03F 7/20 20060101AFI20230524BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】マスクの撓みを適切に補正することが可能な露光装置を提供すること。
【解決手段】マスクのパターンを基板に転写する露光装置であって、マスクの面を境界とする空間を定義する空間定義部材と、前記空間の圧力を制御する圧力制御機構と、空間定義部材とマスクとの間に配置されたシール部材と、圧力制御機構への圧力制御指令に対する前記空間の圧力の応答に基づいて、シール部材の異常判定を行う判定部と、を備える。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
マスクのパターンを基板に転写する露光装置であって、
前記マスクの面を境界とする空間を定義する空間定義部材と、
前記空間の圧力を制御する圧力制御機構と、
前記空間定義部材と前記マスクとの間に配置されたシール部材と、
前記圧力制御機構への圧力制御指令に対する前記空間の圧力の応答に基づいて、前記シール部材の異常判定を行う判定部と、
を備えることを特徴とする露光装置。
続きを表示（約 890 文字）【請求項２】
前記圧力制御指令には、前記空間の目標圧力値が含まれ、
前記空間の圧力が前記目標圧力値となるまでの時間である応答時間に基づいて、前記シール部材の異常判定を行うことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記応答時間と基準値との比較結果に基づいて、前記シール部材の異常判定を行うことを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記応答時間の変化に基づいて、前記シール部材の異常判定を行うことを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項５】
前記圧力制御指令には、前記空間の目標圧力値が含まれ、
前記空間の圧力が前記目標圧力値となった後に、前記空間の圧力制御を実行する前の圧力値に戻るまでの時間に基づいて、前記シール部材の異常判定を行うことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項６】
前記目標圧力値は、前記空間とその周辺環境との差圧に関する値であることを特徴とする請求項２乃至５のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項７】
前記差圧を計測する圧力センサをさらに備え、
前記圧力制御機構は、前記圧力センサの計測結果に基づいて前記空間の圧力を制御することを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】
前記圧力制御機構は、前記空間に接続されたサーボバルブを含むことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項９】
前記マスクの撓みを計測する計測部をさらに備え、
前記圧力制御機構は、前記計測部の計測結果に基づいて前記空間の圧力を制御することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか１項に記載の露光装置を用いて前記基板を露光する工程と、
露光された前記基板を現像する工程と、
現像された前記基板から物品を製造する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置、及び物品の製造方法に関する。
続きを表示（約 1,200 文字）【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスや液晶表示装置（ディスプレイ）等の製造工程であるフォトリソグラフィ工程においては、露光装置が使用される。露光装置は、マスク（原版）のパターンを、投影光学系を介して感光性の基板（表面にレジスト層が形成されたウエハやガラスプレート等）に転写する。近年、露光装置に用いられるマスクの大型化によりマスクが自重で撓み、像性能が悪化することが懸念されている。
【０００３】
特許文献１は、マスクの上側を平面ガラス等の空間定義部材で塞いで密閉空間を構成し、当該密閉空間の圧力を調整することによってマスクの撓みを補正する露光装置を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２００６－１３５０８５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１の露光装置において、空間定義部材のマスクに対向する面にはシール部材が設けられており、上記密閉空間の密閉度を向上させている。上記密閉空間の密閉度を向上させることで、上記密閉空間の圧力を精度良く調整することができ、結果としてマスクの撓みを適切に補正することが可能となる。
【０００６】
しかしながら、マスクの交換や経年変化等によりシール部材の劣化が生じて上記密閉空間の圧力を精度良く調整することが困難になり、マスクの撓みを適切に補正することができなくなる事態が生じ得る。
【０００７】
本発明は、マスクの撓みを適切に補正することが可能な露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明の露光装置は、マスクのパターンを基板に転写する露光装置であって、前記マスクの面を境界とする空間を定義する空間定義部材と、前記空間の圧力を制御する圧力制御機構と、前記空間定義部材と前記マスクとの間に配置されたシール部材と、前記圧力制御機構への圧力制御指令に対する前記空間の圧力の応答に基づいて、前記シール部材の異常判定を行う判定部と、を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、マスクの撓みを適切に補正することが可能な露光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
露光装置の概略構成を示す図である。
マスクステージ、撓み制御ユニットの構成を示す概略図である。
撓み補正システム、圧力制御システムの構成を示す概略図である。
シール部材の異常判定フローを示すフローチャートである。
圧力制御指令に対する差圧センサの出力を示す図である。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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