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公開番号2023073995
公報種別公開特許公報(A)
公開日2023-05-26
出願番号2022180694
出願日2022-11-11
発明の名称マスク乾燥装置
出願人エスティーアイカンパニーリミテッド
代理人弁理士法人RYUKA国際特許事務所
主分類C23C 14/04 20060101AFI20230519BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】マスクに残存する不純物を効果的に短時間に除去できるマスク乾燥装置を提供する。
【解決手段】開口が形成されたマスクフレームと、第1方向に張力が印加されて、前記マスクフレーム上に両端のスカートが溶接結合したスティックマスクと、を含むマスク組立体を乾燥するマスク乾燥装置であって、赤外線を照射可能な赤外線ランプ100と、前記スティックマスクの一面と所定の角度を成す支持面210を有し、前記支持面上に前記赤外線ランプが支持される、前記スカートと並んで互いに離隔する一対の第1ブラケット200と、を含んでもよい。
【選択図】図5
特許請求の範囲【請求項１】
開口が形成されたマスクフレームと、第１方向に張力が印加されて、前記マスクフレーム上に両端のスカートが溶接結合したスティックマスクと、を含むマスク組立体を乾燥するマスク乾燥装置であって、
赤外線を照射可能なＩＲランプと、
前記スティックマスクの一面と所定の角度を成す支持面を有し、前記支持面上に前記ＩＲランプの支持が可能な第１ブラケットと、を含む、マスク乾燥装置。
続きを表示（約 510 文字）【請求項２】
前記スティックマスクの他面と所定の角度を成す支持面を有し、前記支持面上に前記ＩＲランプの支持が可能な第２ブラケットをさらに含む、請求項１に記載のマスク乾燥装置。
【請求項３】
前記スティックマスクの他面と第１角度を成す第１支持面と、前記第１支持面に延設し、前記スティックマスクの他面と第２角度を成す第２支持面と、を有し、前記第１支持面および前記第２支持面上に前記ＩＲランプの支持が可能な第２ブラケットをさらに含む、請求項１に記載のマスク乾燥装置。
【請求項４】
前記第１支持面は、前記第２支持面と鈍角の夾角を有する、請求項３に記載のマスク乾燥装置。
【請求項５】
前記スティックマスクの他面に対向し、任意の曲率半径を有する曲面の断面を有し、前記曲面上に前記ＩＲランプが支持される、前記スカートと並んで互いに離隔する一対の第２ブラケットをさらに含む、請求項１に記載のマスク乾燥装置。
【請求項６】
前記マスク組立体を収容し、前記赤外線の光集中効率を向上させる乾燥チャンバーをさらに含む、請求項１から５のいずれか一項に記載のマスク乾燥装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、マスク乾燥装置に関し、より詳細には、マスクの使用期限を増大させることができるマスク乾燥装置に関する。
続きを表示（約 1,300 文字）【背景技術】
【０００２】
ディスプレイ装置の中でも有機発光表示装置（ＯｒｇａｎｉｃＬｉｇｈｔＥｍｉｔｔｉｎｇＤｅｖｉｃｅ，ＯＬＥＤ）は、視野角が広く、コントラスト（ｃｏｎｔｒａｓｔ）に優れているだけでなく、応答速度が速いという長所を有している。これによって、有機発光表示装置（ＯＬＥＤ）の使用領域が徐々に拡大していく傾向にある。
【０００３】
このような有機発光表示装置（ＯＬＥＤ）の電極と発光層を含む中間層は、様々な方法によって形成可能であるが、そのうちの１つの方法が蒸着法（ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）である。
【０００４】
高解像度の有機発光表示装置（ＯＬＥＤ）を製造するのに最も大きな難関は、有機発光表示装置（ＯＬＥＤ）工程でＲＧＢピクセルを作るのに重要な蒸着工程（ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）にある。基板上に形成される薄膜などのパターンと同じパターンを有するファインメタルマスク（ＦｉｎｅＭｅｔａｌＭａｓｋ、以下「マスク」という）を整列し、薄膜の元素材を蒸着して、所望のパターンの薄膜を形成する。このような蒸着工程は、チャンバー（ｃｈａｍｂｅｒ）の下段に位置する蒸着ソースで有機物を加熱し、加熱した有機物を昇華させて、上部に位置するマスクを通過して基板に蒸着する方法を取る。
【０００５】
有機物蒸着装置は、真空チャンバーとマスクフレーム、マスク、基板、および有機物蒸着容器を含み、この際、マスクは、引っ張られた状態でマスクフレーム上に溶接により固定結合される。
【０００６】
マスクを用いて複数回の蒸着工程を行う場合、マスクの表面に有機物などの蒸着物質が沈着する。沈着した蒸着物質によりマスクの変形をもたらすなど、蒸着パターンの精密度、蒸着収率を一定レベル以上に維持するために、定期的にマスク洗浄工程を必要とする。
【０００７】
蒸着工程後、マスクに沈着した有機物スラリー（ｓｌｕｒｒｙ）を除去するために、マスク洗浄システムは、大きく、洗浄工程と乾燥工程を経る。洗浄工程では、マスクに処理液、例えば、純水（ＤＩＷ，ｄｅｉｏｎｉｚｅｄｗａｔｅｒ）などの洗浄液を供給してマスク洗浄処理を行い、乾燥工程では、マスクに高圧気体を噴射して残余物と洗浄液などの不純物が高圧気体とともに脱離するように除去するエアーナイフ（ａｉｒｋｎｉｆｅ）工程と、マスクに熱風を供給して残りの不純物を除去する熱風乾燥工程が行われている。
【０００８】
従来方式の乾燥工程では、マスクフレームとマスク間の当接位置の溶接部の隙間に残留する不純物を効果的に除去しにくいという不都合がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
韓国特許公開第１０－２０１５－０００６３３５号公報（公開日：２０１５年０１月１６日）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明が解決しようとする技術的課題は、マスクに残存する不純物を効果的に短時間に除去できるマスク乾燥装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
（【００１１】以降は省略されています）

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