特許ウォッチ

公開番号2023068261
公報種別公開特許公報(A)
公開日2023-05-17
出願番号2021179171
出願日2021-11-02
発明の名称パターン化樹脂組成物積層シートの製造装置およびパターン化樹脂組成物積層シートの製造方法
出願人東レ株式会社
代理人
主分類G03F 7/20 20060101AFI20230510BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】マスクを設定するまでに費やす時間を削減し、マスクの設定に至る経緯を標準化する。
【解決手段】パターン化樹脂組成物積層シートの製造装置であって、マスク載置手段6と、各箇所の露光ギャップ値1の測定手段7と、マスク5の中心から同心円状の距離の箇所での露光ギャップ値公差が所定範囲内であることの確認手段と、マスクの適正な撓み補正値の決定手段と、マスク撓み補正手段20と、撓み補正後に樹脂組成物層を露光する露光手段と、を備え、適正な撓み補正値の決定手段が、下記式(1)によるものである。
<com:Image com:imageContentCategory="Drawing"> <com:ImageFormatCategory>TIFF</com:ImageFormatCategory> <com:FileName>2023068261000009.tif</com:FileName> <com:HeightMeasure com:measureUnitCode="Mm">13</com:HeightMeasure> <com:WidthMeasure com:measureUnitCode="Mm">170</com:WidthMeasure> </com:Image>
Xnaはマスクの外周部を除く各箇所での露光ギャップの平均測定値、Xmaはマスク外周部の露光ギャップ平均測定値、Lnaはマスク外周部から露光ギャップ測定各箇所までの平均距離、Lmaはマスクの外周部から荷重部材各箇所までの平均距離、kは0.7～1.3の値とする。
【選択図】図1(a)
特許請求の範囲【請求項１】
樹脂組成物層が形成されたシート上に露光ギャップを設けて載置されたフォトマスクを用いてパターン露光を行うパターン化樹脂組成物積層シートの製造装置であって、樹脂組成物層が形成されたシート上に露光ギャップをとりフォトマスクをセットする載置手段と、前記フォトマスクの各箇所での前記露光ギャップ値の測定手段と、前記フォトマスクの中心から同心円状の距離にある同じ条件の箇所での前記露光ギャップの値の公差が５０μｍ以下であることを確認する確認手段と、前記フォトマスクの適正な撓み補正値の決定手段と、前記フォトマスクの撓みと反対側に荷重を掛けることにより前記適正な撓み補正値に従いフォトマスクの撓みを補正する補正手段と、撓みが補正されたフォトマスクを通して前記シートの反対側から可視光線、赤外線、紫外線のいずれかの光線を照射して前記樹脂組成物層を露光する露光手段と、を備え、前記適正な撓み補正値の決定手段が、下記式（１）によるものであるパターン化樹脂組成物積層シートの製造装置。
TIFF
2023068261000007.tif
16
170
ここで、Ｘｎａはフォトマスクの外周部を除く各箇所での露光ギャップの平均測定値、Ｘｍａはフォトマスクの外周部での露光ギャップの平均測定値、Ｌｎａはフォトマスクの外周部から露光ギャップ測定各箇所までの平均距離、Ｌｍａはフォトマスクの外周部から荷重部材各箇所までの平均距離を表し、ｋは比例定数であって、０．７～１．３の値とする。
続きを表示（約 790 文字）【請求項２】
前記露光ギャップ値の測定手段が非接触式センサヘッドである請求項１記載のパターン化樹脂組成物積層シートの製造装置。
【請求項３】
樹脂組成物層が形成されたシート上に露光ギャップを設けて載置されたフォトマスクを用いてパターン露光を行うパターン化樹脂組成物積層シートの製造方法であって、
樹脂組成物層が形成されたシート上に露光ギャップをとりフォトマスクをセットする載置工程と、
前記フォトマスクの各箇所での前記露光ギャップ値を測定する工程と、
前記フォトマスクの中心から同心円状の距離にある同じ条件の箇所での前記露光ギャップの値の公差が５０μｍ以下であることを確認する工程と、
前記フォトマスクの適正な撓み補正値を決定する工程と、
前記フォトマスクの撓みと反対側に荷重を掛けることにより前記適正な撓み補正値に従いフォトマスクの撓みを補正する工程と、
撓みが補正されたフォトマスクを通して前記シートの反対側から可視光線、赤外線、紫外線のいずれかの光線を照射して前記樹脂組成物層を露光する工程と、
不要の樹脂組成物層を剥離除去する工程と、
からなり、前記適正な撓み補正値の決定手段が、下記式（１）によるものであるパターン化樹脂組成物積層シートの製造方法。
TIFF
2023068261000008.tif
13
170
ここで、Ｘｎａはフォトマスクの外周部を除く各箇所での露光ギャップの平均測定値、Ｘｍａはフォトマスクの外周部での露光ギャップの平均測定値、Ｌｎａはフォトマスクの外周部から露光ギャップ測定各箇所までの平均距離、Ｌｍａはフォトマスクの外周部から荷重部材各箇所までの平均距離を表し、ｋは比例定数であって、０．７～１．３の値とする。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、パターン化樹脂組成物積層シートの製造装置およびパターン化樹脂組成物積層シートの製造方法に関する。
続きを表示（約 2,300 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、フォトマスクの撓み補正手段を有する露光装置として、特許文献１の発明が知られている。この発明の基板露光装置には、両側２辺を保持するマスクホルダと、マスクの両側の縁部を上方から押圧する２本の撓み補正バーを有し、前記撓み補正バーが、支柱部分と、その周囲に配置される７箇所の円筒状の荷重部分とからなり、支柱部分の外周面は雄ネジに、荷重部分の内周面は雌ネジ加工されていて、加重部分を回転させることで、荷重部分の位置を任意に調整できるマスクの撓み補正機構が具備されている。
【０００３】
そして、撓み補正バーの荷重部でフォトマスクの撓み補正時での接触部位ごとの荷重調整を行い、荷重分布を改善させ、面内露光ギャップのバラツキを低減し、それによりＣＦ画素の線幅、膜厚バラツキの低減を図ることを可能とする。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２００９－２６０１７２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、特許文献１の発明では、フォトマスクの撓み補正時での接触部位ごとの荷重調整を試行錯誤的に行っているため、複数箇所に配置される撓み補正バーのどの荷重部にどのくらいの荷重をかければよいのかわからず、荷重をかけては荷重分布や面内露光ギャップ分布を測定するという試行錯誤的な作業を何度も繰り返さなければならなかった。その結果、フォトマスクを設定し終えるまでに多大な時間を要して、露光工程に費やす時間が大幅に増大し、露光現像工程のスループットが大幅に低下するという問題があった。
【０００６】
また、毎回ごとに荷重調整の条件が変わり、フォトマスクを設定し終えるまでに至る経緯も作業者ごとに十人十色になるため、露光現像条件にバラツキが生じやすく露光現像によって得られる製品の品質が不安定になりやすいという問題もあった。
【０００７】
本発明の目的は、ギャップの各測定値からフォトマスクの適正な撓み補正値を決定する決定手段などを備えることで、フォトマスクを設定するまでに費やす時間を削減し、フォトマスクの設定に至る経緯を標準化して、上記の問題点を解決することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、本発明のパターン化樹脂組成物積層シートの製造装置は次の構成を有する。すなわち、
樹脂組成物層が形成されたシート上に露光ギャップを設けて載置されたフォトマスクを用いてパターン露光を行うパターン化樹脂組成物積層シートの製造装置であって、樹脂組成物層が形成されたシート上に露光ギャップをとりフォトマスクをセットする載置手段と、前記フォトマスクの各箇所での前記露光ギャップ値の測定手段と、前記フォトマスクの中心から同心円状の距離にある同じ条件の箇所での前記露光ギャップの値の公差が５０μｍ以下であることを確認する確認手段と、前記フォトマスクの適正な撓み補正値の決定手段と、前記フォトマスクの撓みと反対側に荷重を掛けることにより前記適正な撓み補正値に従いフォトマスクの撓みを補正する補正手段と、撓みが補正されたフォトマスクを通して前記シートの反対側から可視光線、赤外線、紫外線のいずれかの光線を照射して前記樹脂組成物層を露光する露光手段と、を備え、前記適正な撓み補正値の決定手段が、下記式（１）によるものであるパターン化樹脂組成物積層シートの製造装置である。
【０００９】
TIFF
2023068261000002.tif
13
170
ここで、Ｘｎａはフォトマスクの外周部を除く各箇所での露光ギャップの平均測定値、Ｘｍａはフォトマスクの外周部での露光ギャップの平均測定値、Ｌｎａはフォトマスクの外周部から露光ギャップ測定各箇所までの平均距離、Ｌｍａはフォトマスクの外周部から荷重部材各箇所までの平均距離を表し、ｋは比例定数であって、０．７～１．３の値とする。
【００１０】
本発明のパターン化樹脂組成物積層シートの製造方法は次の構成を有する。すなわち
樹脂組成物層が形成されたシート上に露光ギャップを設けて載置されたフォトマスクを用いてパターン露光を行うパターン化樹脂組成物積層シートの製造方法であって、
樹脂組成物層が形成されたシート上に露光ギャップをとりフォトマスクをセットする載置工程と、
前記フォトマスクの各箇所での前記露光ギャップ値を測定する工程と、
前記フォトマスクの中心から同心円状の距離にある同じ条件の箇所での前記露光ギャップの値の公差が５０μｍ以下であることを確認する工程と、
前記フォトマスクの適正な撓み補正値を決定する工程と、
前記フォトマスクの撓みと反対側に荷重を掛けることにより前記適正な撓み補正値に従いフォトマスクの撓みを補正する工程と、
撓みが補正されたフォトマスクを通して前記シートの反対側から可視光線、赤外線、紫外線のいずれかの光線を照射して前記樹脂組成物層を露光する工程と、
不要の樹脂組成物層を剥離除去する工程
からなり、前記適正な撓み補正値の決定手段が、下記式（１）によるものであるパターン化樹脂組成物積層シートの製造方法、である。
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許