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公開番号2023042984
公報種別公開特許公報(A)
公開日2023-03-28
出願番号2021150434
出願日2021-09-15
発明の名称露光装置、及び物品の製造方法
出願人キヤノン株式会社
代理人個人,個人,個人,個人
主分類G03F 7/207 20060101AFI20230320BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】スループットの向上を維持しつつ小型且つ簡易な構造でフォーカスを精度良く調整することができる露光装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る露光装置は、原版に形成された第1のパターンを基板の基板面上の複数のショットそれぞれに転写するように複数のショットそれぞれを露光する露光装置であって、各々が複数のショットの所定の位置の表面高さを計測する複数のチャンネルを有する計測部と、基板面上における複数のショットの配置情報と計測部における複数のチャンネルの配置情報とに基づいて複数のショットが分類された少なくとも一つのグループそれぞれにおいて算出された表面高さのオフセット値に基づいて、基板面の位置を調整する制御部とを備えることを特徴とする。
【選択図】 図6
特許請求の範囲【請求項1】
原版に形成された第1のパターンを基板の基板面上の複数のショットそれぞれに転写するように該複数のショットそれぞれを露光する露光装置であって、
各々が前記複数のショットの所定の位置の表面高さを計測する複数のチャンネルを有する計測部と、
前記基板面上における前記複数のショットの配置情報と前記計測部における前記複数のチャンネルの配置情報とに基づいて前記複数のショットが分類された少なくとも一つのグループそれぞれにおいて算出された前記表面高さのオフセット値に基づいて、前記基板面の位置を調整する制御部と、
を備えることを特徴とする露光装置。
続きを表示(約 1,500 文字)【請求項2】
前記制御部は、
所定の前記ショットに対して前記露光を行う際に、前記計測部に前記表面高さを計測させ、
該計測によって取得された前記表面高さの計測値と前記所定のショットが分類される前記グループにおいて算出された前記表面高さのオフセット値とに基づいて、前記調整を行うことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
【請求項3】
前記制御部は、
前記基板上における前記複数のショットの配置情報と前記計測部における前記複数のチャンネルの配置情報とに基づいて、前記複数のショットを前記少なくとも一つのグループに分類し、
前記少なくとも一つのグループそれぞれにおいて、少なくとも一つの前記ショットに対して前記計測部によって前記表面高さを計測させることで前記表面高さのオフセット値を算出することを特徴とする請求項1または2に記載の露光装置。
【請求項4】
前記制御部は、
前記複数のショットそれぞれに対して前記計測部に前記表面高さを計測させる際に、前記複数のチャンネルの各々が前記表面高さを計測する位置が含まれるショット及び該ショット内における座標を、前記基板上における前記複数のショットの配置情報と前記計測部における前記複数のチャンネルの配置情報とに基づいて決定し、
該決定された座標が互いに同一である前記ショットを同一の前記グループに分類することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項5】
前記原版を通過した露光光を前記基板に導光する投影光学系を備え、
前記制御部は、前記露光を行う際に前記原版に形成されている前記第1のパターンが配置される位置と前記投影光学系の光軸との間の距離に基づいて前記決定を行うことを特徴とする請求項4に記載の露光装置。
【請求項6】
前記ショットに転写されている第2のパターン上に前記第1のパターンが転写されることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項7】
前記基板面に平行な所定の方向において、最も離間する前記チャンネル間の距離は、前記ショットの幅より大きいことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項8】
前記複数のショットの配置情報は、前記複数のショットそれぞれの大きさの情報と、互いに隣接する前記ショット間の位置関係の情報とを含み、
前記複数のチャンネルの配置情報は、前記基板面に平行な平面内の互いに直交する第1の方向及び第2の方向それぞれにおいて最も離間する前記チャンネル間の第1の距離及び第2の距離によって画定される計測領域の大きさの情報と、該計測領域内における各チャンネルの座標の情報とを含むことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項9】
前記基板が載置される基板ステージを備え、
前記制御部は、前記基板面に垂直な方向における該基板ステージの位置と、前記基板面に平行な平面内の互いに直交する第1の方向及び第2の方向それぞれのまわりにおける該基板ステージの角度とを変更することで、前記調整を行うことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項10】
請求項1乃至9のいずれか一項に記載の露光装置を用いて前記基板を露光する工程と、
露光された前記基板を現像する工程と、
現像された前記基板を加工して物品を得る工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
(【請求項11】以降は省略されています)

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、露光装置、及び物品の製造方法に関する。
続きを表示(約 2,000 文字)【背景技術】
【0002】
従来、露光装置において基板上のショットのサイズやレイアウトによっては、各ショットにおける表面高さの計測値が互いに同一でなくなることで、ショット間でフォーカスの計測値における誤差が発生する場合があることが知られている。
特許文献1は、基板上のショットのサイズやレイアウトの情報に基づいて、表面高さの計測領域内の計測点がショット間において互いに同一となるように当該計測領域の大きさを変更することで当該誤差を低減する露光装置を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2006-275555号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
一方、フォーカス計測を行う際のスループットを向上させるために、基板上の複数の位置における表面高さ、すなわちフォーカスを同時に計測するための複数のセンサーチャンネルを有する多点フォーカスセンサーを備えた露光装置も知られている。
当該露光装置において、ショットのサイズが多点フォーカスセンサーの計測領域より小さく且つショットレイアウトが格子状では無い基板を用いる場合を考える。
そのような場合、当該基板においてパターンが既に形成されているショットの各々に対して表面高さを計測する場合には、ショット間においてフォーカスの計測値が互いに異なってしまう。
【0005】
そして、そのような基板上のショットのサイズやレイアウトに応じて生じるショット間におけるフォーカスの計測値の誤差を低減するために、特許文献1に開示されている技術を用いようとすると、複数のセンサーチャンネル間の距離や配置を変更する必要が生じる。
多点フォーカスセンサーにおいて複数のセンサーチャンネル間の距離や配置を変更するためには、構造が複雑化すると共に大型化してしまう。
【0006】
そこで本発明は、スループットの向上を維持しつつ小型且つ簡易な構造でフォーカスを精度良く調整することができる露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明に係る露光装置は、原版に形成された第1のパターンを基板の基板面上の複数のショットそれぞれに転写するように複数のショットそれぞれを露光する露光装置であって、各々が複数のショットの所定の位置の表面高さを計測する複数のチャンネルを有する計測部と、基板面上における複数のショットの配置情報と計測部における複数のチャンネルの配置情報とに基づいて複数のショットが分類された少なくとも一つのグループそれぞれにおいて算出された表面高さのオフセット値に基づいて、基板面の位置を調整する制御部とを備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【0008】
本発明によれば、スループットの向上を維持しつつ小型且つ簡易な構造でフォーカスを精度良く調整することができる露光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
第一実施形態に係る露光装置の模式的断面図。
第一実施形態に係る露光装置に用いられるウエハを上方から見た一部拡大模式図。
ウエハ上におけるショットレイアウト、及びサンプルショットとフォーカス計測領域との間の配置関係の例を示した図。
ウエハ上におけるショットレイアウト、及びサンプルショットとフォーカス計測領域との間の配置関係の別の例を示した図。
第一実施形態に係る露光装置に用いられるウエハ上におけるショットレイアウトの例を示した図。
第一実施形態に係る露光装置に用いられるウエハに対してフォーカスの調整を行う方法を示すフローチャート。
第一実施形態に係る露光装置においてフォーカスの調整を行う際の動作を説明するための図。
第一実施形態に係る露光装置においてフォーカスの調整を行う際の動作を説明するための図。
第二実施形態に係る露光装置に用いられるウエハ及びレチクルを上方から見た図。
第二実施形態に係る露光装置に用いられるウエハに対してフォーカスの調整を行う方法を示すフローチャート。
本実施形態に係る半導体デバイスの全体的な製造プロセスを示すフローチャート。
【発明を実施するための形態】
【0010】
以下に、本実施形態に係る露光装置を添付の図面に基づいて詳細に説明する。なお以下に示す図面は、本実施形態を容易に理解できるようにするために、実際とは異なる縮尺で描かれている。
(【0011】以降は省略されています)

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