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公開番号2023013737
公報種別公開特許公報(A)
公開日2023-01-26
出願番号2021118126
出願日2021-07-16
発明の名称処理装置および物品製造方法
出願人キヤノン株式会社
代理人弁理士法人大塚国際特許事務所
主分類G03F 9/00 20060101AFI20230119BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】第1構造体によって支持される第2構造体の振動を低減するために有利な技術を提供する。
【解決手段】処理装置は、振動低減機構によって支持された第1構造体と、前記第1構造体によって支持され、処理対象物を駆動する駆動機構と、前記第1構造体によって支持され、前記処理対象物と対面する第2構造体と、前記第1構造体に力を加えるアクチュエータと、前記第2構造体の振動を検出するためのセンサと、前記第1構造体および前記第2構造体の振動が低減されるように、フィードフォワード制御情報に基づいて、前記アクチュエータをフィードフォワード制御するコントローラと、を備える。前記フィードフォワード制御情報は、前記センサの出力に基づいて予め決定された第1制御情報を含む。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
振動低減機構によって支持された第１構造体と、
前記第１構造体によって支持され、処理対象物を駆動する駆動機構と、
前記第１構造体によって支持され、前記処理対象物と対面する第２構造体と、
前記第１構造体に力を加えるアクチュエータと、
前記第２構造体の振動を検出するためのセンサと、
前記第１構造体および前記第２構造体の振動が低減されるように、フィードフォワード制御情報に基づいて、前記アクチュエータをフィードフォワード制御するコントローラと、を備え、
前記フィードフォワード制御情報は、前記センサの出力に基づいて予め決定された第１制御情報を含むことを特徴とする処理装置。
続きを表示（約 1,100 文字）【請求項２】
前記コントローラは、駆動情報に基づいて前記駆動機構による前記処理対象物の駆動を制御するように構成され、
前記第１制御情報は、前記駆動情報に基づいて前記駆動機構による前記処理対象物の駆動が制御されたときの前記センサの出力に基づいて決定された情報である、
ことを特徴とする請求項１に記載の処理装置。
【請求項３】
前記フィードフォワード制御情報は、前記駆動情報に基づいて前記駆動機構による前記処理対象物の駆動が制御されたときの前記第１構造体の振動が低減されるように予め決定された第２制御情報を更に含み、
前記コントローラは、第１期間においては、第１制御情報に基づいて前記アクチュエータをフィードフォワード制御し、第２期間においては、前記第２制御情報に基づいて、前記アクチュエータをフィードフォワード制御し、
前記第１期間は、前記第２期間の開始後に開始する期間である、
ことを特徴とする請求項２に記載の処理装置。
【請求項４】
前記第２期間は、前記処理対象物を第１位置から第２位置に移動させる期間である、
ことを特徴とする請求項３に記載の処理装置。
【請求項５】
前記第１期間は、前記処理対象物の位置が整定された期間を含む、
ことを特徴とする請求項３又は４に記載の処理装置。
【請求項６】
前記第１期間において、前記第２構造体から前記処理対象物にエネルギーが照射される、
ことを特徴とする請求項３乃至５のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項７】
前記第１期間の開始時刻は、前記第２期間の終了時刻と一致するか、前記終了時刻の直後の時刻である、
ことを特徴とする請求項３乃至６のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項８】
前記第１期間は、前記第２期間の開始後かつ前記第２期間の終了後に開始する、
ことを特徴とする請求項３乃至６のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項９】
前記第１期間は、前記第２期間のうち前記処理対象物を減速させている期間において開始する、
ことを特徴とする請求項８に記載の処理装置。
【請求項１０】
前記コントローラは、前記第１制御情報に対してゲインを乗じることによって、前記アクチュエータに供給される操作量を発生する乗算器を含み、
前記第２期間において、前記ゲインが徐々に大きくされる、
ことを特徴とする請求項８又は９に記載の処理装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、処理装置および物品製造方法に関する。
続きを表示（約 1,900 文字）【背景技術】
【０００２】
処理対象物を駆動する駆動機構を備える処理装置では、振動を抑制する性能が重要である。例えば、基板にパターンを形成あるいは転写する露光装置では、スループット、重ね合わせ精度およびＣＤ均一性の向上とともに、基板駆動機構、原版駆動機構および投影光学系等を支持する支持構造体の制振性能の向上が求められている。
【０００３】
特許文献１には、除振台と、除振台上で移動するステージと、除振台を駆動する複数のアクチュエータと、除振台の位置を計測する複数の変位センサと、除振台の振動を計測する複数の加速度センサとを備える除振装置が記載されている。この除振装置では、変位センサおよび加速度センサの出力に基づいて除振台の振動が抑えられるように複数のアクチュエータが制御される。より具体的には、ステージの駆動によって生じる振動を打ち消すように、ステージの駆動のための加速度目標値がフィードフォワードされる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２００１－１４０９７２公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
前述のようなフィードフォワード制御によって、ステージの駆動に伴う反力による振動の大部分を低減可能であるが、それでも振動が残留しうる。これを残留振動と呼ぶことにする。残留振動は、フィードバック制御によって抑えられうる。一方、床から支持構造体への振動を減衰させる減衰性能を向上させるために、フィードバック制御は、非常に低い固有振動数を対象として行われうる。このため、残留振動をフィードバック制御で抑制するためには、固有振動の周期に応じた長い時間を要する。これは、スループットを上げたときに重ね合わせ精度等の露光精度に影響を与える原因となりうる。
【０００６】
更に、ステージの位置決めと、支持構造体の振動の低下とが高い精度で実現できたとしても、必ずしもそれによって露光精度が向上するものではない。その誤差要因の一つとして、投影光学系の振動を挙げることができる。投影光学系は、支持構造体に対して高い剛性で締結されていたとしても、支持構造体と投影光学系とは、互いに異なる固有値を有するので、互いに異なる周波数で振動する。露光装置において、支持構造体の振動を抑えることは重要であるが、露光中における投影光学系の振動を抑える方が露光精度の向上に効果的である。ここで、支持構造体は、処理対象物を駆動することによる反力を受ける第１構造体の一例として把握されうる。また、投影光学系は、第１構造体によって支持される第２構造体の一例として把握されうる。
【０００７】
本発明は、第１構造体によって支持される第２構造体の振動を低減するために有利な技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の１つの側面は、処理装置に係り、前記処理装置は、振動低減機構によって支持された第１構造体と、前記第１構造体によって支持され、処理対象物を駆動する駆動機構と、前記第１構造体によって支持され、前記処理対象物と対面する第２構造体と、前記第１構造体に力を加えるアクチュエータと、前記第２構造体の振動を検出するためのセンサと、前記第１構造体および前記第２構造体の振動が低減されるように、フィードフォワード制御情報に基づいて、前記アクチュエータをフィードフォワード制御するコントローラと、を備え、前記フィードフォワード制御情報は、前記センサの出力に基づいて予め決定された第１制御情報を含む。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、第１構造体によって支持される第２構造体の振動を低減するために有利な技術が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
第１実施形態の露光装置の構成を例示的に示す図。
第１実施形態の露光装置における反力相殺アクチュエータおよび支持アクチュエータの制御に関する制御ブロック図。
制振ＦＦ制御を行わない場合の動作を例示する図。
インパルス応答を例示する図。
第１実施形態に従って制振ＦＦ制御および反力相殺ＦＦ制御を行った場合の動作を例示する図。
第２実施形態の露光装置の構成を例示的に示す図。
第２実施形態に従って制振ＦＦ制御および反力相殺ＦＦ制御を行った場合の動作を例示する図。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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