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公開番号2023012555
公報種別公開特許公報(A)
公開日2023-01-25
出願番号2022183007,2020010503
出願日2022-11-16,2020-01-27
発明の名称敷ブロック
出願人矢木コーポレーション株式会社
代理人弁理士法人綿貫国際特許・商標事務所
主分類E01C 5/06 20060101AFI20230118BHJP(道路,鉄道または橋りょうの建設)
要約【課題】複数の敷ブロックを敷設してなる舗装面に荷重が作用した場合であっても、個別の敷ブロックの傾斜を抑えて舗装面の平坦性を維持する敷ブロックを提供すること。
【解決手段】上面10、底面20と複数の側面30を有する敷ブロック100であって、少なくとも2つの側面30には幅方向凸部32、第1高さ方向凸部34、第2高さ方向凸部36が設けられ、同一形状の第1の敷ブロック100Aと第2の敷ブロック100Bの側面30を対向させて敷設した際、第1の敷ブロック100Aの第2高さ方向凸部36が、第2の敷ブロック100Bの幅方向凸部32の形成範囲内で第1高さ方向凸部34と並んだ状態で配設され、第1高さ方向凸部34は幅方向凸部32の形成範囲に複数設けられ、第1の敷ブロック100Aにおける第2高さ方向凸部36が、第2の敷ブロック100Bにおける第1高さ方向凸部34の間の位置に進入している。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項1】
上面および底面と複数の側面を有する敷ブロックであって、
前記複数の側面のうち少なくとも2面には、
幅方向所要範囲に形成された幅方向凸部と、前記幅方向凸部の形成範囲において前記上面に向けて所要高さ範囲に形成された第1高さ方向凸部と、前記幅方向凸部および前記第1高さ方向凸部に対して幅方向に離間した位置において前記上面に向けて前記所要高さ範囲に形成された第2高さ方向凸部と、が設けられ、
同形状に形成された第1の前記敷ブロックおよび第2の前記敷ブロックを、前記側面を互いに対向させた状態で敷設した際において、
第1の前記敷ブロックにおける前記第2高さ方向凸部が、第2の前記敷ブロックにおける前記幅方向凸部の形成範囲内において前記第1高さ方向凸部と並んだ状態で配置され

前記第1高さ方向凸部は前記幅方向凸部の形成範囲に複数設けられていて、
第1の前記敷ブロックにおける前記第2高さ方向凸部が、第2の前記敷ブロックにおける前記第1高さ方向凸部の間の位置に進入してい
ることを特徴とする敷ブロック。
続きを表示(約 980 文字)【請求項2】
上面および底面と複数の側面を有する敷ブロックであって、
前記複数の側面のうち少なくとも2面には、
幅方向所要範囲に形成された幅方向凸部と、前記幅方向凸部の形成範囲において前記上面に向けて所要高さ範囲に形成された第1高さ方向凸部と、前記幅方向凸部および前記第1高さ方向凸部に対して幅方向に離間した位置において前記上面に向けて前記所要高さ範囲に形成された第2高さ方向凸部と、が設けられ、
同形状に形成された第1の前記敷ブロックおよび第2の前記敷ブロックを、前記側面を互いに対向させた状態で敷設した際において、
第1の前記敷ブロックにおける前記第2高さ方向凸部が、第2の前記敷ブロックにおける前記幅方向凸部の形成範囲内において前記第1高さ方向凸部と並んだ状態で配置され、
前記側面には、前記幅方向凸部および前記第1高さ方向凸部と、前記第2高さ方向凸部からなる凸部群が複数箇所に配設されてい
ることを特徴とする敷ブロック。
【請求項3】
前記側面には、前記第2高さ方向凸部と前記側面の幅方向における中央位置との間の位置に、前記上面に向けて所要高さ範囲に形成された第3高さ方向凸部がさらに配設されていることを特徴とする請求項
2記載の敷ブロック。
【請求項4】
前記幅方向凸部は前記底面との境界部分に形成され
ていることを特徴とする請求項1~3のうちのいずれか一項記載の敷ブロック。
【請求項5】
前記幅方向凸部と前記第1高さ方向凸部が一体に形成さ
れていることを特徴とする請求項1~4のうちのいずれか一項記載の敷ブロック。
【請求項6】
第1の前記敷ブロックにおける前記幅方向凸部に対し、第2の前記敷ブロックにおける前記第2高さ方向凸部が当接
していることを特徴とする請求項1~5のうちのいずれか一項記載の敷ブロック。
【請求項7】
六面体形状をなし、対向する2つの側面における前記幅方向凸部、前記第1高さ方向凸部および前記第2高さ方向凸部が、上面における中央点を対称の点とする点対称位置に設けら
れていることを特徴とする請求項1~6のうちのいずれか一項記載の敷ブロック。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明はインターロッキングブロックに代表される舗装面を形成する際に用いて好適な敷ブロックに関する。
続きを表示(約 2,100 文字)【背景技術】
【0002】
インターロッキングブロックに代表される舗装面を構成する際に用いられる敷ブロックとしては、例えば特許文献1(特許第3751284号公報)に開示されているような構成が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特許第3751284号公報(明細書段落0035-0041、第1図~第5図等)
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
特許文献1に開示されている敷ブロックは、図11に示すように、平面視形状が略正方形をなす直方体に形成されている。敷ブロック200の第1対向側面210における第1側面211には第1側面211の延長方向全体に設けられた凸条212および第1側面211の一端部の所要長さ範囲に凸部213が形成されている。また、第1対向側面210における第2側面214には第2側面214の延長方向全体に設けられた凹条215および第2側面214の一端部の所要長さ範囲に凸部216が形成されている。また、第2対向側面220の第1側面221には敷ブロック200の高さ方向に沿って形成された凸部222が所要間隔をあけて2箇所に配設されている。第2対向側面220の第2側面223は平坦面に形成されている。
【0005】
図11に示すような敷ブロック200は、第1対向側面210の第1側面211に形成された凸条212を他の敷ブロック200の第1対向側面210の第2側面214に形成された凹条215に嵌合させるようにして配設し、第2対向側面220の第1側面221に形成された凸部222を他の敷ブロック200の第2対向側面220の第2側面223に当接させた状態で配設し、この後、配設した敷ブロック間に砂を敷き詰めることにより敷設が行われ、舗装面等を構成することができる。
【0006】
このような敷ブロックを用いることにより、舗装面の平坦性を長期にわたって維持することが可能にはなるが、敷ブロックの形状が複雑であるため、製造が困難になると共に製品の歩留まりが低くなるといった課題の所在が明らかになった。
【課題を解決するための手段】
【0007】
そこで本発明は、敷設後における舗装面の平坦性を長期にわたって維持することが可能であると共に、簡易な形状により製造が容易で、かつ、製品の歩留まりを高くすることが可能な敷ブロックの提供を目的としている。
【0008】
すなわち本発明は、上面および底面と複数の側面を有する敷ブロックであって、前記複数の側面のうち少なくとも2面には、幅方向所要範囲に形成された幅方向凸部と、前記幅方向凸部の形成範囲において前記上面に向けて所要高さ範囲に形成された第1高さ方向凸部と、前記幅方向凸部および前記第1高さ方向凸部に対して幅方向に離間した位置において前記上面に向けて前記所要高さ範囲に形成された第2高さ方向凸部と、が設けられ、同形状に形成された第1の前記敷ブロックおよび第2の前記敷ブロックを、前記側面を互いに対向させた状態で敷設した際において、第1の前記敷ブロックにおける前記第2高さ方向凸部が、第2の前記敷ブロックにおける前記幅方向凸部の形成範囲内において前記第1高さ方向凸部と並んだ状態で配置され配置され
、前記第1高さ方向凸部は前記幅方向凸部の形成範囲に複数設けられていて、第1の前記敷ブロックにおける前記第2高さ方向凸部が、第2の前記敷ブロックにおける前記第1高さ方向凸部の間の位置に進入してい
ることを特徴とする敷ブロックである。
【0009】
これにより、敷設後における舗装面の平坦性を長期にわたって維持することが可能であると共に、簡易な形状により製造が容易で、かつ、製品の歩留まりを高くすることができる。
また、第1高さ方向凸部と第2高さ方向凸部とにより敷設後の敷ブロックの水平方向の位置ずれを防止することもできる。
【0010】
また、他の発明として、上面および底面と複数の側面を有する敷ブロックであって、前記複数の側面のうち少なくとも2面には、幅方向所要範囲に形成された幅方向凸部と、前記幅方向凸部の形成範囲において前記上面に向けて所要高さ範囲に形成された第1高さ方向凸部と、前記幅方向凸部および前記第1高さ方向凸部に対して幅方向に離間した位置において前記上面に向けて前記所要高さ範囲に形成された第2高さ方向凸部と、が設けられ、同形状に形成された第1の前記敷ブロックおよび第2の前記敷ブロックを、前記側面を互いに対向させた状態で敷設した際において、第1の前記敷ブロックにおける前記第2高さ方向凸部が、第2の前記敷ブロックにおける前記幅方向凸部の形成範囲内において前記第1高さ方向凸部と並んだ状態で配置され、前記側面には、前記幅方向凸部および前記第1高さ方向凸部と、前記第2高さ方向凸部からなる凸部群が複数箇所に配設されていることを特徴とする敷ブロックもある。
(【0011】以降は省略されています)

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