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公開番号2023012524
公報種別公開特許公報(A)
公開日2023-01-25
出願番号2022176605,2018181097
出願日2022-11-02,2018-09-27
発明の名称基板処理装置及び基板処理方法
出願人芝浦メカトロニクス株式会社
代理人
主分類H01L 21/304 20060101AFI20230118BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】基板品質を向上させることができる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置10は、基板Wを処理するための処理室20と、処理室20内に設けられ、基板Wを保持して回転する回転テーブル40と、処理室20内に設けられ、回転テーブル40により保持された基板Wに処理液を供給するノズル61及びノズル移動機構を具備する液供給部と、処理室20内に設けられ、回転テーブル40により保持された基板Wの周囲を覆い、回転テーブル40の回転によって基板Wから飛散する処理液を受けるカップ30と、処理室20内に設けられ、カップ30内に連通してカップ30内の気体を排出するための排気路と、カップ30と排気路とを接続する部分の隙間A1から吹き上がるミストを検出するミストセンサ70と、を備える。
【選択図】図3
特許請求の範囲【請求項１】
基板を処理するための処理室と、
前記処理室内に設けられ、前記基板を保持して回転する回転テーブルと、
前記処理室内に設けられ、前記回転テーブルにより保持された前記基板に処理液を供給する液供給部と、
前記処理室内に設けられ、前記回転テーブルにより保持された前記基板の周囲を覆い、前記回転テーブルの回転によって前記基板から飛散する前記処理液を受けるカップと、
前記処理室内に設けられ、前記カップ内に連通して前記カップ内の気体を排出するための排気路と、
前記カップと前記排気路とを接続する部分の隙間から吹き上がるミストを検出するセンサと、
を備える基板処理装置。
続きを表示（約 870 文字）【請求項２】
前記回転テーブルを回転させる回転機構と、
前記センサの検出結果に応じて、前記回転テーブルの回転数を変えるように前記回転機構を制御する制御部と、
を備える請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記処理室内に上から下に流れる気流を生じさせるファンと、
前記センサの検出結果に応じて、前記ファンの回転数を変えるように前記ファンを制御する制御部と、
を備える請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記排気路内に設けられ、前記排気路の開口度を変える調整弁と、
前記センサの検出結果に応じて、前記排気路の開口度を変えるように前記調整弁を制御する制御部と、
を備える請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項５】
基板を処理するための処理室と、前記処理室内に設けられ、前記基板を保持して回転する回転テーブルと、前記処理室内に設けられ、前記回転テーブルにより保持された前記基板に処理液を供給する液供給部と、前記処理室内に設けられ、前記回転テーブルにより保持された前記基板の周囲を覆い、前記回転テーブルの回転によって前記基板から飛散する前記処理液を受けるカップと、前記処理室内に設けられ、前記カップ内に連通して前記カップ内の気体を排出するための排気路とを備える基板処理装置を用いて、前記基板を処理する基板処理方法であって、
前記カップと前記排気路とを接続する部分の隙間から吹き上がるミストをセンサにより検出する基板処理方法。
【請求項６】
前記センサの検出結果に応じて、前記回転テーブルの回転数を変える請求項５に記載の基板処理方法。
【請求項７】
前記センサの検出結果に応じて、前記処理室内に上から下に流れる気流を生じさせるファンの回転数を変える請求項５に記載の基板処理方法。
【請求項８】
前記センサの検出結果に応じて、前記排気路の開口度を変える請求項５に記載の基板処理方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、基板処理装置及び基板処理方法に関する。
続きを表示（約 1,600 文字）【背景技術】
【０００２】
基板処理装置は、半導体や液晶パネルなどの製造工程において、ウェーハや液晶基板などの基板の被処理面を薬液により処理し、薬液処理後に基板をリンス液により洗い流して、リンス後に基板を乾燥する装置である。この基板処理装置では、均一性や再現性の面から、基板を一枚ずつ専用の処理室で処理する枚葉方式が用いられる。
【０００３】
基板は回転テーブル上に載置され、回転する回転テーブル上の基板に薬液又はリンス液などの処理液が供給され、基板が処理液によって処理される。基板処理後、処理液の供給が停止され、回転テーブルの回転数が上げられて基板が乾燥される。乾燥時、基板上の処理液は、遠心力によって基板上から排出され、回転テーブルの周囲を覆うカップの内周面によって受けられる。
【０００４】
このとき、排出された処理液はカップの内周面と衝突し、カップ内にミスト（処理液のミスト）が発生するが、カップ内は排気路を介して排気されており、カップ内のミストは排気路に流れ込む。ところが、排気路に流れ込んだミストが回転テーブル上の基板に付着することがある。ミストが基板に付着すると、基板にウォーターマークなどが生じて基板が汚染されるため、基板品質（製品品質）が低下する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特許第４５６７１７８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明が解決しようとする課題は、基板品質を向上させることができる基板処理装置及び基板処理方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の実施形態に係る基板処理装置は、
基板を処理するための処理室と、
処理室内に設けられ、基板を保持して回転する回転テーブルと、
処理室内に設けられ、回転テーブルにより保持された基板に処理液を供給する液供給部と、
処理室内に設けられ、回転テーブルにより保持された基板の周囲を覆い、回転テーブルの回転によって基板から飛散する処理液を受けるカップと、
処理室内に設けられ、カップ内に連通してカップ内の気体を排出するための排気路と、
カップと排気路とを接続する部分の隙間から吹き上がるミストを検出するセンサと、
を備える。
【０００８】
本発明の実施形態に係る基板処理方法は、
基板を処理するための処理室と、処理室内に設けられ、基板を保持して回転する回転テーブルと、処理室内に設けられ、回転テーブルにより保持された基板に処理液を供給する液供給部と、処理室内に設けられ、回転テーブルにより保持された基板の周囲を覆い、回転テーブルの回転によって基板から飛散する処理液を受けるカップと、処理室内に設けられ、カップ内に連通してカップ内の気体を排出するための排気路とを備える基板処理装置を用いて、基板を処理する基板処理方法であって、
カップと排気路とを接続する部分の隙間から吹き上がるミストをセンサにより検出する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の実施形態によれば、基板品質を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
第１の実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示す図である。
図１の２－２線の断面位置での基板処理装置の概略構成を示す図である。
図２の３－３線の断面位置での基板処理装置の概略構成を示す図である。
第２の実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示す図である。
第３の実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示す図である。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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