TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
特許ウォッチ
DM通知
Twitter
他の特許を見る
10個以上の画像は省略されています。
公開番号
2023001900
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2023-01-06
出願番号
2022097459
出願日
2022-06-16
発明の名称
組成物
出願人
住友化学株式会社
代理人
個人
,
個人
,
個人
主分類
C08L
79/08 20060101AFI20221226BHJP(有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物)
要約
【課題】耐吸湿性に優れたフィルムを形成可能な組成物及び該フィルムを提供する。
【解決手段】ポリイミド系樹脂(A)、ポリマー(B)及びフェノール系酸化防止剤を含み、フェノール系酸化防止剤は式(P):
<com:Image com:imageContentCategory="Drawing"> <com:ImageFormatCategory>TIFF</com:ImageFormatCategory> <com:FileName>2023001900000027.tif</com:FileName> <com:HeightMeasure com:measureUnitCode="Mm">30</com:HeightMeasure> <com:WidthMeasure com:measureUnitCode="Mm">42</com:WidthMeasure> </com:Image> [式(P)中、R
p
、R
q
、R
r
及びR
s
は、互いに独立に、水素原子、炭素数1~12のアルキル基又は炭素数5~12のシクロアルキル基を表し、*は結合手を表す]
で表される置換基Pを含み、フェノール系酸化防止剤中の置換基Pを水素原子に置換した構造Sは、置換基を有していてもよい芳香環を有する、組成物。
【選択図】なし
特許請求の範囲
【請求項1】
ポリイミド系樹脂(A)、ポリマー(B)及びフェノール系酸化防止剤を含み、
フェノール系酸化防止剤は式(P):
TIFF
2023001900000024.tif
30
42
[式(P)中、R
p
、R
q
、R
r
及びR
s
は、互いに独立に、水素原子、炭素数1~12のアルキル基又は炭素数5~12のシクロアルキル基を表し、*は結合手を表す]
で表される置換基Pを含み、フェノール系酸化防止剤中の置換基Pを水素原子に置換した構造Sは、置換基を有していてもよい芳香環を有する、組成物。
続きを表示(約 970 文字)
【請求項2】
ポリマー(B)とフェノール系酸化防止剤とのHSP値間距離は16.0以下である、請求項1に記載の組成物。
【請求項3】
芳香環は、炭素数6~15の単環式芳香族炭化水素環である、請求項1又は2に記載の組成物。
【請求項4】
さらに溶媒を含み、構造Sと溶媒とのHSP値間距離は10.0以上である、請求項1又は2に記載の組成物。
【請求項5】
ポリマー(B)は粒子状である、請求項1又は2に記載の組成物。
【請求項6】
ポリマー(B)は、オレフィン系ポリマー、ポリイミド系ポリマー、フッ素系ポリマー、シリコーン系ポリマー、液晶ポリマー、アラミドポリマー、スチレン系ポリマー及びエーテル系ポリマーからなる群から選択される少なくとも1つのポリマーである、請求項1又は2に記載の組成物。
【請求項7】
ポリマー(B)のガラス転移温度は100℃以上である、請求項1又は2に記載の組成物。
【請求項8】
ポリマー(B)は、シクロオレフィン系ポリマーである、請求項1又は2に記載の組成物。
【請求項9】
シクロオレフィン系ポリマーは、式(I):
TIFF
2023001900000025.tif
54
164
[式(I)中、mは0以上の整数を表し、R
7
~R
18
は、互いに独立に、水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数1~20の炭化水素基を表し、R
11
~R
14
が複数存在する場合、それらは同一であってもよく、異なっていてもよく、R
16
とR
17
とは互いに結合し、それらが結合する炭素原子とともに環を形成してもよい]
で表されるシクロオレフィン由来の単量体単位(I)を含む、請求項8に記載の組成物。
【請求項10】
シクロオレフィン系ポリマーにおける前記単量体単位(I)の含有量は、シクロオレフ
ィン系ポリマーを構成する繰り返し単位の合計モル量に対して、60モル%以上である、請求項9に記載の組成物。
(【請求項11】以降は省略されています)
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、高周波帯域用のプリント回路基板やアンテナ基板に対応可能な基板材料などに利用できるフィルムを形成可能な組成物、及び該フィルムに関する。
続きを表示(約 3,200 文字)
【背景技術】
【0002】
5Gと称される第5世代移動通信システムの本格的な普及に伴い、高周波帯域に対応できるプリント回路やアンテナに利用可能なプリント配線基板などが要求されている。しかし、高周波帯域になると基板材料由来の伝送損失が顕著に影響してくるため、伝送損失を抑制可能な基板材料の選択が重要となる。例えば、CCLと称される銅張積層板は樹脂層の両表面に接着剤を介して銅箔が積層された構造等を有する。該CCLの伝送損失は、伝送路となる樹脂層の誘電損失、特に誘電正接や比誘電率を低減することにより抑制し得るため、誘電正接の低いフィルムが検討されている。例えば、特許文献1には、ポリイミド樹脂等の樹脂(A)と環状オレフィン(共)重合体(B)とを含む低誘電性樹脂組成物、及び該組成物から形成された誘電正接が低いフィルムが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2017-125176号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかしながら、高周波帯域に対応可能なCCL中の樹脂層は吸湿すると誘電特性が悪化することが知られているため、優れた耐吸湿性も要求される。
【0005】
したがって、本発明の目的は、耐吸湿性に優れたフィルムを形成可能な組成物及び該フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、本発明に到達した。すなわち本発明は、以下の好適な態様を包含する。
【0007】
[1]ポリイミド系樹脂(A)、ポリマー(B)及びフェノール系酸化防止剤を含み、
フェノール系酸化防止剤は式(P):
TIFF
2023001900000001.tif
30
42
[式(P)中、R
p
、R
q
、R
r
及びR
s
は、互いに独立に、水素原子、炭素数1~12のアルキル基又は炭素数5~12のシクロアルキル基を表し、*は結合手を表す]
で表される置換基Pを含み、フェノール系酸化防止剤中の置換基Pを水素原子に置換した構造Sは、置換基を有していてもよい芳香環を有する、組成物。
[2]ポリマー(B)とフェノール系酸化防止剤とのHSP値間距離は16.0以下である、[1]に記載の組成物。
[3]芳香環は、炭素数6~15の単環式芳香族炭化水素環である、[1]又は[2]に記載の組成物。
[4]さらに溶媒を含み、構造Sと溶媒とのHSP値間距離は10.0以上である、[1]~[3]のいずれかに記載の組成物。
[5]ポリマー(B)は粒子状である、[1]~[4]のいずれかに記載の組成物。
[6]ポリマー(B)は、オレフィン系ポリマー、ポリイミド系ポリマー、フッ素系ポリマー、シリコーン系ポリマー、液晶ポリマー、アラミドポリマー、スチレン系ポリマー及びエーテル系ポリマーからなる群から選択される少なくとも1つのポリマーである、[1]~[5]のいずれかに記載の組成物。
[7]ポリマー(B)のガラス転移温度は100℃以上である、[1]~[6]のいずれかに記載の組成物。
[8]ポリマー(B)は、シクロオレフィン系ポリマーである、[1]~[7]のいずれかに記載の組成物。
[9]シクロオレフィン系ポリマーは、式(I):
TIFF
2023001900000002.tif
54
164
[式(I)中、mは0以上の整数を表し、R
7
~R
18
は、互いに独立に、水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数1~20の炭化水素基を表し、R
11
~R
14
が複数存在する場合、それらは同一であってもよく、異なっていてもよく、R
16
とR
17
とは互いに結合し、それらが結合する炭素原子とともに環を形成してもよい]
で表されるシクロオレフィン由来の単量体単位(I)を含む、[8]に記載の組成物。
[10]シクロオレフィン系ポリマーにおける前記単量体単位(I)の含有量は、シクロオレフィン系ポリマーを構成する繰り返し単位の合計モル量に対して、60モル%以上である、[9]に記載の組成物。
[11]ポリイミド系樹脂(A)、ポリマー(B)及びフェノール系酸化防止剤を含み、
フェノール系酸化防止剤は式(P):
TIFF
2023001900000003.tif
30
42
[式(P)中、R
p
、R
q
、R
r
及びR
s
は、互いに独立に、水素原子、炭素数1~12のアルキル基又は炭素数5~12のシクロアルキル基を表し、*は結合手を表す]
で表される置換基Pを含み、フェノール系酸化防止剤中の置換基Pを水素原子に置換した構造Sは、置換基を有していてもよい芳香環を有する、フィルム。
【発明の効果】
【0008】
本発明によれば、耐吸湿性に優れたフィルムを形成可能な組成物及び該フィルムを提供できる。
【発明を実施するための形態】
【0009】
〔組成物〕
本発明の組成物は、ポリイミド系樹脂(A)、ポリマー(B)及びフェノール系酸化防止剤を含み、フェノール系酸化防止剤は式(P):
TIFF
2023001900000004.tif
30
42
[式(P)中、R
p
、R
q
、R
r
及びR
s
は、互いに独立に、水素原子、炭素数1~12のアルキル基又は炭素数5~12のシクロアルキル基を表し、*は結合手を表す]
で表される置換基P(フェノール系活性部位ということがある)を含み、フェノール系酸化防止剤中の置換基Pを水素原子に置換した構造Sは、置換基を有していてもよい芳香環を有する。本明細書において、「組成物から形成されたフィルム」を単に「フィルム」ということがある。また、本明細書において、誘電特性とは、誘電損失、比誘電率及び誘電正接を含む誘電に関する特性を意味し、誘電特性が高まる又は向上するとは、例えば、誘電損失、比誘電率及び/又は誘電正接が低減することを示す。
【0010】
本発明者らは、ポリイミド系樹脂(A)、ポリマー(B)及び溶媒を含む組成物から形成されるフィルムの耐吸湿性について検討を進めたところ、該組成物の製膜時、例えば高温での熱処理時にポリマー(B)が酸化し、それにより極性基が生成することにより、該組成物から形成されるフィルムの耐吸湿性が低下する場合があることがわかった。そこで、本発明者らはポリマー(B)の酸化に着目してさらに検討を進めたところ、フェノール系活性部位を水素原子に置換した構造Sが、置換基を有していてもよい芳香環を有する特定のフェノール系酸化防止剤を用いると、製膜時のポリマー(B)の酸化を有効に抑制でき、形成されるフィルムの耐吸湿性を向上できることを見出した。したがって、本発明の組成物は、優れた耐吸湿性を有するフィルムを形成できる。
(【0011】以降は省略されています)
特許ウォッチbot のツイート
この特許をJ-PlatPatで参照する
関連特許
住友化学株式会社
着色硬化性組成物
3日前
住友化学株式会社
着色硬化性組成物
3日前
住友化学株式会社
イオン液体及び複合電解質
9日前
住友化学株式会社
化学反応方法および反応装置
10日前
住友化学株式会社
接着部材およびその製造方法
7日前
住友化学株式会社
接着部材およびその製造方法
7日前
住友化学株式会社
偏光板、及び偏光板の製造方法
6日前
住友化学株式会社
樹脂組成物、および、フィルム
1日前
住友化学株式会社
偏光フィルム及び偏光板の製造方法
6日前
住友化学株式会社
ポリオレフィンを含む粒子の乾燥方法
10日前
住友化学株式会社
構造体の製造装置および構造体の製造方法
今日
住友化学株式会社
構造体の製造装置および構造体の製造方法
今日
住友化学株式会社
フィルム、多層フィルム、および、樹脂組成物
1日前
住友化学株式会社
ポリオレフィンを含む粒子の乾燥方法及び貯蔵方法
10日前
住友化学株式会社
化合物
13日前
住友化学株式会社
複合電解質
9日前
住友化学株式会社
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
10日前
住友化学株式会社
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
10日前
住友化学株式会社
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
10日前
住友化学株式会社
リチウム含有塩化物及びその製造方法、並びに固体電解質及び電池
6日前
住友化学株式会社
組成物及び表示装置
13日前
住友化学株式会社
着色硬化性樹脂組成物、カラーフィルタ、表示装置、及び固体撮像素子
3日前
国立大学法人広島大学
DNAを二本鎖切断するヌクレアーゼドメイン
7日前
住友化学株式会社
基材積層体、光学積層体、基材積層体の製造方法、及び偏光板の製造方法
今日
住友化学株式会社
カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
10日前
住友化学株式会社
カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
10日前
住友化学株式会社
カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
10日前
住友化学株式会社
感光性有機電子デバイス作製のための溶媒系
8日前
住友化学株式会社
液晶硬化膜、液晶硬化膜を含む光学フィルム、及び表示装置
13日前
株式会社クラレ
成形体
10日前
株式会社日本触媒
樹脂組成物
3日前
東レ株式会社
ポリエステル組成物
21日前
東洋紡株式会社
熱可塑性樹脂シート
27日前
東洋紡株式会社
熱可塑性樹脂シート
27日前
AGC株式会社
組成物
15日前
東亞合成株式会社
硬化性組成物
1か月前
続きを見る
他の特許を見る