TOP特許意匠商標
特許ウォッチ DM通知 Twitter
公開番号2022172668
公報種別公開特許公報(A)
公開日2022-11-17
出願番号2021078720
出願日2021-05-06
発明の名称イオンビーム照射装置
出願人日新イオン機器株式会社
代理人
主分類H01J 37/317 20060101AFI20221110BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】真空容器内の堆積物が真空容器内に拡散されることを抑制できるイオンビーム照射装置を提供する。
【解決手段】イオン源11から取り出されたイオンビームIBを第一の方向D1に通過させる内部空間Rを有する真空容器18を備えるイオンビーム照射装置10において、真空容器18が、イオン源11と質量分析器14との間の一部の領域において、内部空間Rを第一の方向D1と交差する第二の方向D2に拡張させる凹部22を有し、イオンビーム照射装置10が、内部空間RにおいてイオンビームIBから凹部22の一部の領域を隠す閉塞部材23a、23bをさらに備える構成とする。
【選択図】図2


特許請求の範囲【請求項1】
イオン源と、質量分析器と、前記イオン源から取り出されたイオンビームを第一の方向に通過させる内部空間を有する真空容器と、を備えるイオンビーム照射装置であって、
前記真空容器は、前記イオン源と前記質量分析器との間の一部の領域において、前記内部空間を前記第一の方向と交差する第二の方向に拡張させる凹部を有し、
前記内部空間において前記イオンビームから前記凹部の一部の領域を隠す閉塞部材をさらに備えるイオンビーム照射装置。
続きを表示(約 280 文字)【請求項2】
前記閉塞部材は、前記真空容器の内壁に取り付けられるライナーである請求項1に記載のイオンビーム照射装置。
【請求項3】
前記凹部を冷却する冷却装置をさらに備える請求項1または2に記載のイオンビーム照射装置。
【請求項4】
前記真空容器は、前記第二の方向に開口する開口部を有する本体部材と、前記開口部を閉塞するように前記本体部材に着脱可能に取り付けられる箱状部材と、を備え、
前記凹部は、前記本体部材に前記箱状部材が取り付けられることで形成される請求項1~3のいずれか一項に記載のイオンビーム照射装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、照射対象物に向けてイオンビームを照射するイオンビーム照射装置に関し、特に、半導体製造工程またはフラットパネルディスプレイ製造工程で使用され、照射対象物となる基板にイオンビームを照射するイオンビーム照射装置に関する。
続きを表示(約 2,200 文字)【背景技術】
【0002】
半導体製造工程またはフラットパネルディスプレイ製造工程で使用されるイオンビーム照射装置として、例えば、特許文献1に記載されたイオン注入装置が知られている。このイオン注入装置は、内部に導入された原料ガスからプラズマを生成し、イオンビームを発生させるためのイオン源と、所定のビーム経路に沿ってイオンビームを通過させる真空チャンバーと、内部にウエハが配置される注入チャンバーを備えている。また、ビーム経路の途中には、イオンビームを偏向させて所望のイオンを通過させるための磁石が配置されている。つまり、イオン源から取り出されたイオンビームが当該磁石により偏向された後、注入チャンバーに導かれてウエハに照射されることによって、ウエハに所望のイオンが注入されることになる。
【0003】
特許文献1のイオン注入装置は、当該磁石内のビーム経路にグラファイト性のライナー(内張り)を備えており、このライナーの表面には、イオン注入装置における汚染物となるパーティクルを補足する複数の溝が形成されている。すなわち、このイオン注入装置は、ライナーの溝にパーティクルを補足させることによって、注入チャンバーに到達する汚染物を低減させ、その結果、ウエハに付着する汚染物を低減させることができる。しかしながら、特許文献1のイオン注入装置においては、真空容器内に拡散した汚染物を補足しているのみであり、汚染物が真空容器内に拡散することを低減するものではない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特表2009-516332
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
イオン源内部に導入された原料ガス等がイオン源からビーム経路を形成する真空チャンバーに排出されると、当該原料ガス等が真空チャンバーの内壁面上で凝縮し、堆積物が生成する。これは、プラズマ生成時のイオン源と比較して真空チャンバーを形成する内壁の温度が低いためである。さらに、真空チャンバーの内壁と堆積物とは線膨張係数が異なるため、真空チャンバーが温度変化を繰り返すと、堆積物が真空チャンバーの内壁から剥がれ落ちることになる。すなわち、装置の運転と停止を繰り返すこと等によって堆積物は真空容器の内壁から剥がれ落ち、剥がれ落ちた堆積物はイオンビームのポテンシャルによって真空チャンバー内に拡散することになる。このように、特許文献1のイオン注入装置においては、真空容器に堆積する堆積物が真空容器内に拡散されるという問題があった。すなわち、真空容器内に堆積した堆積物が真空容器内に拡散されることを抑制する必要があった。
【0006】
本発明は、上記課題を解決するものであり、真空容器内の堆積物が真空容器内に拡散されることを抑制できるイオンビーム照射装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明におけるイオンビーム照射装置は、イオン源と、質量分析器と、前記イオン源から取り出されたイオンビームを第一の方向に通過させる内部空間を有する真空容器と、を備えるイオンビーム照射装置であって、前記真空容器は、前記イオン源と前記質量分析器との間の一部の領域において、前記内部空間を前記第一の方向と交差する第二の方向に拡張させる凹部を有し、前記内部空間において前記イオンビームから前記凹部の一部の領域を隠す閉塞部材をさらに備える構成とされている。
【0008】
本発明のイオンビーム照射装置においては、真空容器は、イオン源と質量分析器との間の一部の領域に、内部空間をイオンビームが通行する方向である第一の方向と交差する第二の方向に拡張させる凹部を備える。したがって、真空容器のうち凹部が形成された領域は、他の領域と比較して内部空間を通過するイオンビームから離れることから、他の領域よりもイオンビームからの輻射熱による影響を受け難く、温度が上がり難い。すなわち、真空容器のうち凹部が形成された領域は、他の領域よりも低温となることから、イオン源から放出された原料ガス等から成る気体は凹部が形成された領域で凝縮しやすく、凹部には堆積物が発生する。
これに対し、本発明のイオンビーム照射装置は、内部空間においてイオンビームから凹部の一部の領域を隠す閉塞部材をさらに備えている。すなわち、本発明のイオンビーム照射装置は、他の領域よりも低温となる凹部において原料ガスを凝縮させ、凹部の一部の領域を閉塞部材によってイオンビームから隠すことで、イオンビームのビームポテンシャルが作用する堆積物の割合を少なくしている。その結果、堆積物を凹部に局所的に溜め込むことができ、堆積物が内部空間へ拡散することが抑制される。
【0009】
また、本発明のイオンビーム照射装置においては、前記閉塞部材は、前記真空容器の内壁に取り付けられるライナーである構成としてもよい。
【0010】
この構成によれば、真空容器の内壁に取り付けられるライナーを閉塞部材としても使用できることから、部品点数が削減され、簡易な構成とすることができる。
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPatで参照する

関連特許

古河電池株式会社
鉛蓄電池
13日前
サンケン電気株式会社
半導体装置
7日前
東邦化成株式会社
基板処理装置
6日前
株式会社村田製作所
コイル部品
14日前
株式会社ユーシン
スイッチ装置
6日前
株式会社ユーシン
スイッチ装置
6日前
ニチコン株式会社
複合コンデンサ
8日前
日本航空電子工業株式会社
組立体
13日前
CKD株式会社
ドーピングシステム
15日前
三菱電機株式会社
半導体装置
1日前
CKD株式会社
ドーピングシステム
15日前
株式会社村田製作所
リアクトル
7日前
愛知電機株式会社
油入電気機器の吸湿呼吸器
13日前
個人
千鳥配列磁極の異方性片面ゴムシート磁石
14日前
TDK株式会社
コイル部品
6日前
日本航空電子工業株式会社
充電コネクタ
13日前
TDK株式会社
コイル部品
6日前
TDK株式会社
コイル部品
6日前
フェニックス電機株式会社
広帯域発光装置
7日前
株式会社デンソー
半導体装置
13日前
株式会社指月電機製作所
コンデンサ
1日前
株式会社デンソー
操作装置
15日前
古河電池株式会社
液式鉛蓄電池
6日前
富士電機機器制御株式会社
電磁接触器
今日
株式会社タムラ製作所
プレーナーコイル装置
今日
日清紡マイクロデバイス株式会社
半導体装置
13日前
矢崎総業株式会社
ワイヤハーネス
6日前
浜松ホトニクス株式会社
光源装置
6日前
矢崎総業株式会社
電気接続箱
8日前
矢崎総業株式会社
コネクタ
1日前
株式会社豊田自動織機
車載用電池冷却装置
7日前
矢崎総業株式会社
コネクタ構造
15日前
日本精工株式会社
光電変換機能を有する装飾部材
13日前
信越半導体株式会社
クリーンルーム
今日
矢崎総業株式会社
コネクタ構造
15日前
日本電産株式会社
放熱部材
15日前
続きを見る