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公開番号2022138795
公報種別公開特許公報(A)
公開日2022-09-26
出願番号2021038880
出願日2021-03-11
発明の名称光学素子
出願人キヤノン株式会社
代理人個人,個人,個人,個人
主分類G02B 26/10 20060101AFI20220915BHJP(光学)
要約【課題】装置の小型化を維持しつつ印字性能の劣化を抑制することができる光走査装置のための光学素子を提供する。
【解決手段】本発明に係る光学素子901は、光束を偏向して被走査面706を主走査方向に走査する偏向器704と、偏向器704によって偏向された光束を被走査面706に導光する結像光学系709とを含む光走査装置100に用いられる光学素子901であって、光学素子901は、偏向器704によって偏向された光束を反射する内面反射面904を有し、光学素子901が有する光学面の少なくとも一つは、回折面であることを特徴とする。
【選択図】 図1
特許請求の範囲【請求項1】
光束を偏向して被走査面を主走査方向に走査する偏向器と、該偏向器によって偏向された光束を前記被走査面に導光する結像光学系とを含む光走査装置に用いられる光学素子であって、
該光学素子は、前記偏向器によって偏向された光束を反射する内面反射面を有し、
該光学素子が有する光学面の少なくとも一つは、回折面であることを特徴とする光学素子。
続きを表示(約 720 文字)【請求項2】
前記光学素子が有する光学面の少なくとも一つは、子線チルト変化面であることを特徴とする請求項1に記載の光学素子。
【請求項3】
前記内面反射面は、前記子線チルト変化面であることを特徴とする請求項2に記載の光学素子。
【請求項4】
前記子線チルト変化面における子線チルト角は、前記偏向器から前記子線チルト変化面に入射する光線に対する副走査断面における反射角が主走査方向において中央から端部に行くにつれて大きくなるように変化することを特徴とする請求項2又は3に記載の光学素子。
【請求項5】
前記内面反射面は、前記回折面であることを特徴とする請求項1乃至4の何れか一項に記載の光学素子。
【請求項6】
前記回折面は、主走査断面において回折パワーを有することを特徴とする請求項1乃至5の何れか一項に記載の光学素子。
【請求項7】
前記回折パワーの符号は正であることを特徴とする請求項6に記載の光学素子。
【請求項8】
前記内面反射面は、全反射面であることを特徴とする請求項1乃至7の何れか一項に記載の光学素子。
【請求項9】
前記内面反射面の有効領域の主走査方向及び副走査方向における幅をそれぞれWm及びWsとしたとき、
10<Wm/Ws<50
なる条件を満たすことを特徴とする請求項1乃至8の何れか一項に記載の光学素子。
【請求項10】
前記光学素子は、副走査断面において屈折力を有することを特徴とする請求項1乃至9の何れか一項に記載の光学素子。
(【請求項11】以降は省略されています)

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、光学素子に関し、例えば、レーザービームプリンタ(LBP)、デジタル複写機又はマルチファンクションプリンタ(多機能プリンタ)等の画像形成装置に搭載される光走査装置に好適なものである。
続きを表示(約 1,600 文字)【背景技術】
【0002】
従来、光走査装置ではレイアウトの自由度を向上させて小型化を図るために、偏向器によって偏向された光束を被走査面に向けて反射する折返しミラーを設けることが知られている。
また、そのような折返しミラーでは、当該光束の当該折返しミラーに対する主走査断面内における入射角が中央部と端部とで互いに異なることに伴って当該光束に対する反射率が互いに異なることで、形成画像において濃度ムラの発生を招くことも知られている。
【0003】
特許文献1は、折返しミラーの代わりに偏向器によって偏向された光束を被走査面に向けて全反射する内面反射面を有する光学素子を設けることで、そのような濃度ムラ発生の抑制を図った光走査装置を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特開2018-36438号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
一方、光走査装置においては結像光学系を一枚の結像光学素子のみで構成すると共に、当該結像光学素子を偏向器に近接させて配置することによって結像光学系の光路長を短くすることで、装置の小型化を図ることが知られている。
またそのような光走査装置では、装置の光学性能を維持したまま当該結像光学素子にfθ特性を持たせることが困難であるため、非等速性を有するように当該結像光学素子を構成することも知られている。
【0006】
そして、光走査装置において非等速性を有するように当該結像光学素子を構成すると、軸上像高と軸外像高との間で部分倍率のずれが発生することによって、被走査面上に形成される像の劣化、すなわち印字性能の劣化を招いてしまう。
このとき、特許文献1に開示されているような光走査装置では、結像光学系の光路中に内面反射面を有する光学素子も設けられているため、当該光学素子を用いてそのような印字性能の劣化を抑制することが考えられる。
【0007】
そこで本発明は、装置の小型化を維持しつつ印字性能の劣化を抑制することができる光走査装置のための光学素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明に係る光学素子は、光束を偏向して被走査面を主走査方向に走査する偏向器と、偏向器によって偏向された光束を被走査面に導光する結像光学系とを含む光走査装置に用いられる光学素子であって、光学素子は、偏向器によって偏向された光束を反射する内面反射面を有し、光学素子が有する光学面の少なくとも一つは、回折面であることを特徴とする。
【発明の効果】
【0009】
本発明によれば、装置の小型化を維持しつつ印字性能の劣化を抑制することができる光走査装置のための光学素子を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0010】
実施形態に係る光走査装置の模式的主走査断面図及び一部拡大模式的副走査断面図。
本実施形態に係る内面反射素子の模式的副走査断面図。
実施形態に係る光走査装置における各像高での部分倍率ずれを示した図。
実施形態に係る光走査装置における各像高でのLSFスポット径及びLSF深度中心位置を示した図。
本実施形態に係る内面反射素子の内面反射面における子線チルト量の主走査方向位置依存性を示した図。
実施形態に係る光走査装置における各像高での副走査方向照射位置、45度方向の非点収差及びスポットの強度分布を示した図。
実施形態に係るモノクロ画像形成装置の要部副走査断面図。
【発明を実施するための形態】
(【0011】以降は省略されています)

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