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公開番号2022099782
公報種別公開特許公報(A)
公開日2022-07-05
出願番号2020213778
出願日2020-12-23
発明の名称露光装置および露光方法
出願人凸版印刷株式会社
代理人
主分類G03F 7/20 20060101AFI20220628BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】フォトリソグラフィ法によるカラーフィルタの製造において、生産性に影響を及ぼさずに露光処理時の異物による欠陥の発生を未然に防止する露光装置および露光方法を提供することを目的とする。
【解決手段】紫外光を照射する光源と、レジスト塗布基板を積載するステージ部と、フォトマスクを固定・保持するマスクホルダ部を備えた、カラーフィルタのパターンを形成する露光装置において、前記マスクホルダ部または前記ステージ部、もしくはその両方を、フォトマスクを介して光源から基板へ紫外光を照射している間に、前記ステージ部のレジスト塗布基板積載部と平行な平面内を一方向に移動させる駆動機構を有することを特徴とする露光装置。
【選択図】 図1
特許請求の範囲【請求項1】
紫外光を照射する光源と、レジスト塗布基板を積載するステージ部と、フォトマスクを固定・保持するマスクホルダ部を備えた、カラーフィルタのパターンを形成する露光装置において、前記マスクホルダ部または前記ステージ部、もしくはその両方を、フォトマスクを介して光源から基板へ紫外光を照射している間に、前記ステージ部のレジスト塗布基板積載部と平行な平面内を一方向に移動させる駆動機構を有することを特徴とする露光装置。
続きを表示(約 250 文字)【請求項2】
カラーフィルタのパターン形成に用いる露光方法において、レジスト塗布基板を積載するステージ部もしくはフォトマスク、もしくはその両方を、レジスト塗布基板積載面と平行な平面領域内の一方向に相対移動させながら露光処理を行う露光方法。
【請求項3】
カラーフィルタのパターン形成に用いる露光方法において、レジスト塗布基板を積載するステージ部もしくはフォトマスク、もしくはその両方を、基板積載面と平行な平面領域内の一方向に搖動もしくは振動させながら露光処理を行う露光方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、表示装置向けカラーフィルタの製造に用いられる露光装置および露光方法に関する。
続きを表示(約 1,600 文字)【背景技術】
【0002】
近年、表示装置の高精細化が大きく進み、それに伴い表示装置の製造技術は高精細であることを前提とした上で、高い生産性を維持することが求められている。
【0003】
液晶表示装置などの表示装置用のカラーフィルタの生産工程においてはフォトリソグラフィ法が主流である。フォトリソグラフィ法は感光性樹脂を塗布した基板を露光した後、不要な樹脂を現像除去することで所望のパターンを形成する手法であり、高い再現性と生産性を有する。
【0004】
フォトリソグラフィ法において、露光はカラーフィルタの品質、生産性を左右する重要なプロセスの一つである。任意の開口パターンが形成されたフォトマスクを介して、ネガ型若しくはポジ型のフォトレジストに紫外光を照射することで、フォトマスク上の微細なパターンを大面積基板上に再現性良く転写することが可能となる。
【0005】
フォトリソグラフィ法を用いたカラーフィルタの製造工程では、露光プロセスで用いるフォトマスクへの異物付着が問題となる。例えば、図3に示すような、表示装置用のカラーフィルタの露光プロセスにおいて、フォトマスク5の開口部10の一部に遮光性の異物6が付着すると、その異物が照射光を遮蔽し、転写先の基板に付着異物に起因する欠陥7が発生する。ここで発生する欠陥は、遮光性の異物がマスクに付着し続ける限り発生し続け、転写基板ごとに共通する不良となってしまう。そのため、マスク付着異物に起因する共通不良が発生した場合、その異物が微細なものであっても、露光装置を停止し、マスク洗浄による異物除去を都度行う必要がある。
【0006】
前述した不良に対し、半導体分野においては、マスクの面内に同一パターンが複数形成されたフォトマスクを使用し、露光処理の際に各パターンを重ね合わせて露光することで、フォトマスクの異物付着による転写影響を抑制する手法が考案されている(特許文献1)。しかし、このような手法を用いた場合、一枚のカラーフィルタ基板に対して複数回の露光が必要となるため、リードタイム(カラーフィルタ基板1枚の製造に要する時間)が大幅に増加する他、各パターンの重ね合わせのズレに起因する転写パターン形状不良が発生することも想定され、生産性を向上させる観点において好ましくない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0007】
特開昭59-143324号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
フォトリソグラフィ法によるカラーフィルタの製造において、生産性に影響を及ぼさずに露光処理時の異物による欠陥の発生を未然に防止する露光装置および露光方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明は上記課題を解決するためになされたもので、本発明の請求項1に係る発明は、
紫外光を照射する光源と、レジスト塗布基板を積載するステージ部と、フォトマスクを固定・保持するマスクホルダ部を備えた、カラーフィルタの製造に用いられる露光装置において、前記マスクホルダ部または前記ステージ部、もしくはその両方を、フォトマスクを介して光源から基板へ紫外光を照射している間に、前記ステージ部のレジスト塗布基板積載部と平行な平面内を一方向に移動させる駆動機構を有することを特徴とする露光装置である。
【0010】
本発明の請求項2に係る発明は、カラーフィルタの製造に用いられる露光方法において、レジスト塗布基板を積載するステージ部もしくはフォトマスク、もしくはその両方を、レジスト塗布基板積載面と平行な平面領域内の一方向に相対移動させながら露光処理を行う露光方法である。
(【0011】以降は省略されています)

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