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公開番号2022071704
公報種別公開特許公報(A)
公開日2022-05-16
出願番号2020180802
出願日2020-10-28
発明の名称画像形成装置
出願人キヤノン株式会社
代理人個人
主分類G03G 15/00 20060101AFI20220509BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約
【課題】 低コストな構成でも周期的な濃度ムラを低減させることができる画像形成装置を提供する。
【解決手段】 副走査ムラを検知するテストパターンを形成するテストパターン形成手段と、前記テストパターンの濃度を読み取る濃度検知手段と、前記濃度検知手段により読み取られたテストパターンの副走査方向の濃度ムラの周期および振幅を算出する算出手段と、算出手段により算出した周期及び振幅でプロセス制御を行う制御部と、を有する画像形成装置において、時間を計測する時間計測手段と、前記時間計測手段と、前記テストパターンの読み取り結果により画像形成時の副走査ムラ位相を予測する位相予測手段と、前記位相予測手段の結果に応じて前記プロセス制御タイミングを決定する。
【選択図】 図8
特許請求の範囲【請求項1】
テストパターンを形成するテストパターン形成手段と、
前記テストパターンの濃度を読み取る濃度検知手段と、
前記濃度検知手段により検知した副走査方向に変化する濃度ムラの周期および振幅を算出する算出手段と、
前記テストパターン形成手段によりテストパターンを形成し、前記濃度検知手段によりテストパターンを読み取り、読み取り結果から前記算出手段を用いて濃度ムラの算出を行う濃度ムラ検出モードと、
前記濃度ムラ検出モードにより検出された周期および振幅を記憶する記憶手段と、
前記記憶手段により記憶された周期及び振幅に基づいて画像形成条件を制御する制御部と、
テストパターンの濃度検知結果に基づいて前記画像形成条件を制御する位相を決定する位相決定手段と、
を有する画像形成装置において、
前記テストパターン形成手段によりテストパターンを形成し、前記濃度検知手段によりテストパターンを読み取り、読み取り結果から位相決定手段を用いて画像形成条件を制御する位相を決定させる位相決定シーケンスと、を有することを特徴とする画像形成装置。
続きを表示(約 1,200 文字)【請求項2】
請求項1記載の画像形成装置において、
第1のテストパターンと、第2のテストパターンを有し、
前記濃度ムラ検出モードは前記テストパターン形成手段を用いて第1のテストパターン形成し、
前記位相決定シーケンス位相は前記テストパターン形成手段を用いて第2のテストパターン形成することを特徴とする画像形成装置。
【請求項3】
像担持体上に電位を与える電位付与手段と、
副走査方向における像担持体上の電位ムラを検知する電位検知手段と、
前記電位検知手段により検知した副走査方向に変化する電位ムラの周期および振幅を算出する算出手段と、
前記電位付与手段により電位パターンを形成し、前記電位検知手段により電位パターンを読み取り、読み取り結果から前記算出手段を用いて電位ムラの算出を行う電位ムラ検出モードと、
前記電位ムラ検出モードにより検出された周期および振幅を記憶する記憶手段と、
前記記憶手段により記憶された周期及び振幅に基づいて画像形成条件を制御する制御部と、
電位パターンの電位検知結果に基づいて前記画像形成条件を制御する位相を決定する位相決定手段と、
を有する画像形成装置において、
前記電位付与手段により電位パターンを形成し、前記電位検知手段により電位パターンを読み取り、読み取り結果から位相決定手段を用いて画像形成条件を制御する位相を決定させる位相決定シーケンスと、を有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項4】
テストパターンを形成するテストパターン形成手段と、
前記テストパターンの濃度を読み取る濃度検知手段と、
前記濃度検知手段により検知した副走査方向に変化する濃度ムラの周期および振幅を算出する算出手段と、
前記テストパターン形成手段によりテストパターンを形成し、前記濃度検知手段によりテストパターンを読み取り、読み取り結果から前記算出手段を用いて濃度ムラの算出を行う濃度ムラ検出モードと、
前記濃度ムラ検出モードにより検出された周期および振幅を記憶する記憶手段と、
前記記憶手段により記憶された周期及び振幅に基づいて画像形成条件を制御する制御部と、
を有する画像形成装置において、
像担持体上に電位を与える電位付与手段と、
副走査方向における像担持体上の電位ムラを検知する電位検知手段と、
電位パターンの電位検知結果に基づいて前記画像形成条件を制御する位相を決定する位相決定手段と、
前記電位付与手段により電位パターンを形成し、前記電位検知手段により電位パターンを読み取り、読み取り結果から位相決定手段を用いて画像形成条件を制御する位相を決定させる位相決定シーケンスと、を有することを特徴とする画像形成装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は転写媒体上にトナー像を形成する画像形成装置に関する。
続きを表示(約 1,700 文字)【背景技術】
【0002】
電子写真方式の画像形成装置は、近年、印刷業界にも普及し始めており、高速出力かつ高画質化への要求が急速に高まっている。高画質化に関する要求項目のなかでは、ページ内濃度均一性すなわち用紙等の記録媒体の1枚に形成される画像の濃度の均一性への要望が強く、ページ内の濃度ムラを極力抑制することが重要である。
【0003】
この濃度ムラは、様々な要因によって発生することが知られている。たとえば、帯電の不均一性による帯電ムラ、露光装置の露光ムラ、感光体等の像担持体の回転振れや感度ムラ、現像ローラ等の現像剤担持体の抵抗ムラ、トナーの帯電ムラ、転写ローラの転写ムラなどである。この中でもとくに像担持体の回転振れや感度ムラに起因する濃度ムラは周期が短いため、ページ内に周期的に発生し、視認が容易であることから、クレーム対象となる場合が多い。したがって、像担持体の回転振れや感度ムラに起因する濃度ムラを抑制することがとくに重要である。
【0004】
特許文献1は像担持体の回転周期に合わせて現像バイアスを変調させる方法が示されている。具体的には、像担持体の回転位置を検知する回転位置検出センサと、画像の濃度を検知する濃度検知センサとを用いる方法である。この方法では、濃度検知センサで検知した濃度ムラを像担持体周期で切り分け、検知された濃度ムラを抑制すべく、回転振れなどによる電界変動を打ち消して電界を一定にするように、回転位置検出センサの信号をトリガとして現像バイアスを周期的に変化させる。
【0005】
また、この方法として、たとえば、現像バイアスのみならず、帯電バイアスを変調させる方法が考えられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
特開2000-98675号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
しかしながら、周期ムラが発生する要因は像担持体のみではなく様々であるが、上記にあげた方法では、位相検知手段がない周期のムラに対して対応することができない。かりに周期ムラ発生要因部材に位相検知手段を取り付けると、装置が大型化・複雑化され、またコストも大幅にかかってしまう。
【0008】
本発明の目的は、回転周期に対応した濃度ムラを打ち消す制御波形を正確なタイミングで適用することを可能とし、濃度ムラを高精度で補正することができる画像形成装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0009】
上記目的を達成するために、本発明の画像形成装置は、回転体の回転方向(副走査方向)に周期的に変化する濃度変動である副走査ムラを検知するテストパターンを形成するテストパターン形成手段と、前記テストパターンの濃度を読み取る濃度検知手段と、前記濃度検知手段により読み取られたテストパターンの副走査方向の濃度ムラの周期および振幅を算出する算出手段と、前記テストパターン形成手段によりテストパターンを形成し、前記濃度検知手段によりテストパターンを読み取り、読み取り結果から前記算出手段を用いて濃度ムラの算出を行う濃度ムラ検出モードと、前記濃度ムラ検出モードにより検出された周期および振幅を記憶する記憶手段と、前記記憶手段により記憶された周期及び振幅に基づいて画像形成条件を制御する制御部と、テストパターンの濃度検知結果に基づいて前記画像形成条件を制御する位相を決定する位相決定手段と、を有する画像形成装置において、前記テストパターン形成手段によりテストパターンを形成し、前記濃度検知手段によりテストパターンを読み取り、読み取り結果から位相決定手段を用いて画像形成条件を制御する位相を決定させる位相決定シーケンスと、を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【0010】
本発明によれば、回転周期に対応した濃度ムラを打ち消す制御波形を正確なタイミングで適用することを可能とし、濃度ムラの補正を高精度で行うことを可能とする画像形成装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
(【0011】以降は省略されています)

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